跳到主要內容

臺灣博碩士論文加值系統

(44.210.83.132) 您好!臺灣時間:2024/05/25 18:44
字體大小: 字級放大   字級縮小   預設字形  
回查詢結果 :::

詳目顯示

我願授權國圖
: 
twitterline
研究生:鄭秀慧
論文名稱:以X光的反射率探討薄膜的基本特性
指導教授:李文獻李文獻引用關係李冠卿李冠卿引用關係
學位類別:碩士
校院名稱:國立中央大學
系所名稱:物理學系
學門:自然科學學門
學類:物理學類
論文種類:學術論文
論文出版年:1996
畢業學年度:84
語文別:中文
論文頁數:43
中文關鍵詞:X光薄膜反射率
外文關鍵詞:X-rayFilm
相關次數:
  • 被引用被引用:1
  • 點閱點閱:143
  • 評分評分:
  • 下載下載:0
  • 收藏至我的研究室書目清單書目收藏:0
本文探討反射式X光繞射儀裝置的過程中,樣品的位置對於繞射結果的影響。由改變樣品相對於光源的高度、傾斜度的實驗結果顯示,此相對高度影響散射角與散射強度相當大。另外,也探討傾斜度對散射強度的改變及偵測器到樣品的距離是否重要等問題。
以X光對薄膜做θ--θ掃瞄,薄膜表面的反射光和介面的反射光互相干涉。由於薄膜厚度使表面反射光與介面反射光產生光程差,形成建設性干涉與破壞性干涉。于涉譜圖之強度以Fresnel equation和幾何光學原理作分析,不同的樣品厚度、表面粗糙度、介面粗糙度、密度之干涉譜圖得以模擬。將Au/GaAs、Pt/GaAs、SiO2/Si、SiO2/InP四組干涉條紋以理論作擬合,可以決定薄膜厚度、表面粗糙度與介面粗糙度。
QRCODE
 
 
 
 
 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                               
第一頁 上一頁 下一頁 最後一頁 top