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在本論文中,我們利用Tsuprem4和Medici軟體去建立一個完整的流程,詳細 地去分析光二極體與電荷耦合元件間連結區域的電性及傳輸特性;其分析 著重於小位能井障礙,讀取方式,讀取電壓,還有本體和界面缺陷.在電壓波 形方面,利用真實的輸入電壓實際去模擬整個暫態分析;利用設定電子準費 米電位來空乏之前儲存在位能井中的電子.我們模擬分析了光二極體與電 荷耦合元件間傳送的效率和電子在儲存於電荷耦合元件期間,受本體與界 面缺陷的影響.透過整個分析與模擬,我們可以找出在何種條件下的結構才 是最好的設計.在傳送訊號的過程中,光二極體與電荷耦合元件間連結區域 形成一小位能井障礙,由於它阻擋了許多電子的傳輸,造成傳輸效率的低 落,並大大地影響了此結構的實用性.我們發現,增加電荷耦合元件的濃度, 降低光二極體n-型的濃度和縮短傳送路徑,都將有利於電荷的傳送.雖然增 加電荷耦合元件濃度,不但有利於電荷的傳送,且增加了最大電荷載子容 量,但卻嚴重了本體結合效應.降低了光二極體n-型的濃度,卻又降低了光 二極體的最大載子容量.若是結構已被固定,增加讀取電壓將會減少傳輸損 失.在本體缺陷方面,我們發現,較少的缺陷密度,較長的缺陷時間常數和缺 陷能量較靠近導通帶,都有助於減少電荷的損失.但缺陷時間常數通常與缺 陷能量的位置息息相關,更增加了其複雜度.至於在界面缺陷方面,雖然界 面缺陷有助於電荷的傳送,但卻增加了電荷被捕捉的機率.
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