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臺灣博碩士論文加值系統

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研究生:吳憲昌
研究生(外文):Wu,Hsien-chang
論文名稱:深次微米雙載子接面電晶體元件之模型
論文名稱(外文):Modeling deep submicron bipolar devices
指導教授:郭正邦郭正邦引用關係
指導教授(外文):James B. Kuo.
學位類別:碩士
校院名稱:國立臺灣大學
系所名稱:電機工程研究所
學門:工程學門
學類:電資工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:1996
畢業學年度:84
語文別:中文
論文頁數:53
中文關鍵詞:速度超越深次微米元件能量傳輸雙載子接面電晶體鍺化矽異質接面電晶體
外文關鍵詞:velocity overshootdeep-submicron devicesenergy transportBJTSiGe HBT.
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本論文提出一個考慮能量傳輸方程式深次微米元件可解析之"速度超越"模
型.此可解析的"速度超越"模型預測:當一雙載子接電晶體之基極很短時,
電子通過基極的速度有可能超過飽合而發生的點在最大電子溫度之前,此
結果也被一數值分析模擬的結果所證實.此外,本論文也對具有延伸鍺結構
於n-epi區域之矽化鍺異質接面雙載子電晶體(SiGe-HBT)在直流及暫態下
做二維模擬分析.當具有延伸鍺結構時,它的單位增益頻寬將較不受高電流
密度及鍺含量的影響.除此之外,由暫態電路分析顯示:其應用在射極耦合
邏輯緩衝器(ECL buffer)的速度特性將較不受高電流密度的影響.

This thesis presents a closed a closed-form analytical ve-
locity-overshoot model for deep-submicron bipolar devices con-
sidering energy transport by including the energy flux gradient
has been reported. As confirmed published results using fully
numerical analysis, the analytical velocity-overshoot model
pre- dicts that in a bipolar device with a very short base
width, its peak electron velocity, which can exceed the
saturated velocity, occurs at a location ahead of its peak
electron temperature loc- ation. In addition, a 2D simulation
study of the DC and tran- sient behavior of a SiGe-base HBT
with an extended Ge peofile extended into the n-epi region has
been reported. With an ex- -tended Ge profile, the unity gain
frequency, which suffers less from high injection degradation,
is insensitive to the Ge con- -tent. Besides, transient circuit
analysis shows that the speed behavior of an ECL buffer is less
influenced by high injection effects.

QRCODE
 
 
 
 
 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                               
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