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臺灣博碩士論文加值系統

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研究生:程學輝
研究生(外文):Lance Cheng
論文名稱:反覆式演算法設計繞射系統
論文名稱(外文):Diffractive System Design via Iterative algorithm
指導教授:黃忠偉黃忠偉引用關係
指導教授(外文):Allen J. Whang
學位類別:碩士
校院名稱:國立臺灣科技大學
系所名稱:電子工程學系
學門:工程學門
學類:電資工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:1996
畢業學年度:84
語文別:中文
論文頁數:47
中文關鍵詞:反覆式繞射製版術
外文關鍵詞:iterativediffractivelithography
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積體電路的技術不斷的向前推進已達到次微米,仍有相當多的努力於光學
製版術解析度限制方面,我們想求得的是輸入的圖形(光罩)與所得輸出影
像非常的接近。我們提出一種反覆式演算法能夠很快速的設計出任意圖案
的光罩,這種方法我們保持它的相位及振幅以進行操作,而得到一些補償
效應在光學繞射的解析度限制上,這種方式有著與傳統的相位移光罩技術
同樣的效應。

As integrated circuit technology continues to push further into
the submicrometer regime, considerable effort has been
devoted to finding means of extending the resolution limits of
optical lithographic system. We would like to determine an
input (mask) to the imaging operator that results in an image
that is close to the prescribed image. We propose a
computationally iterative algorithm for the fast design of
masks for arbitrary two-dimensional patterns. This iterative
approach maintain arbitrary phase and amplitude to iterate and
get some compensation for the resolution-limiting effects of
optical diffraction. We obtain the result with resolution as
good as the conventional phase-shift mask technology.

QRCODE
 
 
 
 
 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                               
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