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本實驗使用的原料配比ZrSiO4:CaCl2:CaO=50:35:15(wt%),於800度-1100
度 Ar氣氛下進行20小時熔融鹽熱分解反應，反應生成物經X-ray 繞射分
析，Rietveld method 精算的結果發現，產率由原本利用研缽混合的80%
提高至利用球磨混合的90%。添加液晶介相與碳黑的兩種碳材料與定比例
的鋯英砂粉末混合，Ar氣氛下進行熔融鹽熱分解反應，結果顯示添加碳材
料對產率的提昇及矽化物的去除有些微的幫助。而以熔融鹽添加液晶介相
的比例在C/Si=1.0 時，於950度 Ar氣氛下進行20小時熔融鹽熱分解反應
，可獲得反應度96%以上的鈣安定化氧化鋯效果最好。於熱分解熱行為的
探討，利用改變氧分壓發現480度-610度範圍間，DTA放熱峰有明顯的變化
，於特定的氧分壓下鈣安定化氧化鋯可於較低溫約510度生成，此溫度範
圍為鈣安定化氧化鋯生成的敏感性，發現氧分壓於0.072atm時為一臨界氧
分壓，鋯英砂熱分解氧氣氣氛必須控制於此壓力下才可獲得最大的產率。
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