跳到主要內容

臺灣博碩士論文加值系統

(18.97.9.173) 您好!臺灣時間:2024/12/10 10:49
字體大小: 字級放大   字級縮小   預設字形  
回查詢結果 :::

詳目顯示

我願授權國圖
: 
twitterline
研究生:簡信裕
研究生(外文):Jain, Shin-Yuh
論文名稱:砷銻化銦鋁/砷化銦鎵/磷化銦之多功能場效電晶體
論文名稱(外文):Study of InAlAsSb/InGaAs/InP Multiple-Function Field-Effect Transistors
指導教授:許渭州
指導教授(外文):Wei-Chou Hsu
學位類別:碩士
校院名稱:國立成功大學
系所名稱:電機工程學系
學門:工程學門
學類:電資工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:1998
畢業學年度:86
語文別:中文
論文頁數:39
中文關鍵詞:負微分電阻場效電晶體峰谷比值蕭基位障崩潰電壓
外文關鍵詞:NDRFETPVR valueSchottky barrierbreakdown voltage
相關次數:
  • 被引用被引用:0
  • 點閱點閱:199
  • 評分評分:
  • 下載下載:0
  • 收藏至我的研究室書目清單書目收藏:0
在本文中,係以低壓有機金屬化學氣相沉積方法, 成功地成長及研製
具有場效電晶體模式及負微分電阻模式之砷銻化銦鋁/砷化銦鎵/磷化銦之
多功能場效電晶體。當源極端為淺歐姆式接觸時,則元件可操作於負微分
電阻模式,且其電流的峰谷比值在300K及77K時分別可達5.8及5.4。另一方
面,若源極端為深歐姆式接觸時,則元件可操作於場效電晶體模式。 由
於採用有高能帶間隙與高蕭基位障(>0.73 eV)之AlInAsSb作為閘極材料,
且AlInAsSb與InGaAs的導帶不連續差達0.7eV左右,可以提供良好的載子侷
限效果。所製成之場效電晶體,其兩端之崩潰電壓可達40V以上,其三端的
on-state崩潰電壓可達18V,三端的threshold-state崩潰電壓可達40V?而
元件之最大外質轉導在300K時可達216mS/mm。此元件之高崩潰電壓的特性
明顯地優於以InP為基板的傳統元件。

QRCODE
 
 
 
 
 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                               
第一頁 上一頁 下一頁 最後一頁 top
無相關期刊