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研究生:

吳宜靜

研究生(外文):

Wu, Yi-Chin

論文名稱:

低介電材料之氮氣電漿表面處理及銅金屬在其中擴散機制之研究

論文名稱(外文):

The study of copper diffusion on low k material treated by N2- plasma

指導教授:

張錫強

指導教授(外文):

Chang Si-Chung

學位類別:

碩士

校院名稱:

國立清華大學

系所名稱:

化學系

學門:

自然科學學門

學類:

化學學類

論文種類:

學術論文

論文出版年:

1998

畢業學年度:

語文別:

中文

論文頁數:

中文關鍵詞:

銅、擴散、氮氣電漿處理

外文關鍵詞:

Cu、diffusion、N2-plasma treatment

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