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重要名詞英漢對照
符號說明
第一 章 前言
第二章 理論基礎與前人研究
2-1電漿化學氣相沉積法的熱力學與反應機構
2-1-1低溫電漿
2-1-2熱力學分析
2-1-3動力學分析
2-2類鑽碳膜的結構
2-3類鑽碳膜的成長機構
2-3-1a-C之成長機構
2-3-2a-C:H之成長機構
2-4附 著 性 測 試
第三章 實驗方法與步驟
3-1實驗流程
3-2薄膜製備
3-2-1電漿化學氣相沉積系統
3-2-2材料的選擇
3-2-3沉積條件與步驟
3-3鍍膜特性分析
第四章RF-PECVD類鑽碳膜成長與結構
4-1成長特性
4-2含矽類鑽碳膜結構分析
4-2-1結構分析
4-2-2鍵結模型
4-3製程參數的影響
4-3-1RF功率的影響
4-3-2基板溫度的影響
4-4小結
第五章 含矽類鑽碳膜性質
5-1殘留應力對附著性的影響
5-1-1製程參數的影響
5-1-2中介層對附著性之改善
5-2磨耗特性
5-2-1磨耗行為
5-2-2薄膜沉積參數的影響
5-2-3磨耗機構
5-3熱穩定性
5-3-1結構變化
5-3-2表面反應
5-4小結
第六章 含矽類鑽碳膜對生骨母細胞之影響
6-1實驗方法
6-1-1試片的製備
6-1-2細胞之培養
6-1-3細胞之附著
6-1-4細胞之生長
6-1-5細胞之生物活性之測定
6 -2結果及討論
6-2-1細胞附著能力
6-2-2細胞附著形態
6-2-3細胞生長速率
6-2-4生物功能 155
6-3小 結 160
第七章 總結論
參考文獻
誌謝
授權書