# 臺灣博碩士論文加值系統

(54.225.48.56) 您好！臺灣時間：2022/01/19 21:52

:::

### 詳目顯示

:

• 被引用:1
• 點閱:349
• 評分:
• 下載:0
• 書目收藏:0
 在本論文中，我們使用最小平方法與最大概似估測法針對半導體IC製造之微影覆蓋誤差做分析。首先利用製程中量測的微影覆蓋誤差資料，以最小平方法作為在不同模型中的參數估測，並與獲得的商業軟體之估測結果比較。然後再分別以最大概似估測法及最小平方法對設計資料及量測資料進行模擬分析，以微影覆蓋誤差估測值對正確值之均方誤差作為效能評比標準。模擬結果顯示出最大概似估測法的效能表現略優於最小平方法。
 In this thesis, we used least square method and maximum likelihood estimation for analysis of the lithography overlay error in semiconductor IC fabrication. First, the measurement overlay data was analyzed using least square method for various overlay models. The estimated parameters are compared with the results obtained from the available commercial software. We then apply maximum likelihood estimation and least squares method, respectively, to estimate parameters from the designed data and measurement data. The mean square error of overlay data is used as the criterion for performance comparison. The simulation results indicate that the maximum likelihood estimation is slightly better than least square method.
 第一章、簡介 1.1研究動機與目的 1.2研究背景 1.3研究方法 1.4論文架構 第二章、微影製程與步進機之原理說明 2.1微影製程 2.2曝光技術 2.3步進機 第三章、微影覆蓋誤差 3.1微影覆蓋誤差之原因 3.2微影覆蓋誤差數學模型 第四章、最小平方估測法 4.1利用最小平方法估測參數 4.1.1最小平方法之原理與特性 4.1.2實驗模型之說明 4.2實驗及模擬結果 4.2.1實驗資料與實驗流程之說明 4.2.2模擬結果分析 第五章、最大概似估測法 5.1最大概似估測法之原理與特性 5.2實驗及模擬結果 第六章、結論
 [1]Z. Lin and W. Wu, "Multiple linear regression analysis of theoverlay accuracy model," IEEE Transaction on SemiconductorManufacturing}, Vol. 12, No. 2, pp. 229-237, MAY 1999.[2]C. F. Chien and K. H. Chang, "Modeling overlay errors andsampling strategies to improve yield," Journal of the ChineseInstitute of Industrial Engineers , Vol. 18, No. 3, pp. 95-103,2001.[3]D. S. Perloff, "A four-point electrical measurement technique forcharacterizing mask superposition errors on semiconductor waffer,"IEEE Journal of Solid-State Circuits , Vol. 13, No. 4, pp.436-444, Aug 1978.[4]D. MacMillen and W. D. Ryden, "Analysis of image field placementdeviations of a 5×microlithographic reduction lens,"Proc. SPIE: Opt. Microlith. , vol. 334, pp. 78-89, 1982.[5]W. H. Arnold, "Image placement differences between 1:1 projectionaligners and 10:1 reduction wafer steppers," Proc. SPIE: Opt.Microlith. , vol. 394, pp. 87-98, 1983.[6]D. Schmidt and G. Charache, "Wafer process-induced distortionstudy for X-ray technology," J. Vac. Sci. Technol. B , vol.9, no. 6, pp. 3237-3240, Nov./Dec. 1991.[7]C. K. Peski, "Minimizing pattern registration errors throughwafer stepper matching techniques," Solid State Technol. ,vol. 25, no. 5, pp. 111-115, May 1982.[8]L. F. Thompson and C. G. Willson, Introduction toMicrolithography , American Chemical Society, 1983.[9]B. G. William and N. H. John, Handbook of VLSIMicrolithography , Noyes Publications, 1991.[10]D. J. Elliott, Microlithography : Process Technology for ICFabrication , McGraw-Hill, 1986.[11]P. Rai-Choudhury, Handbook of Microlithography,Micromachining, and Microfabrication. Microlithography , SPIEOptical Engineering Press, 1997.[12]S. Nonogaki and T. Ueno, Microlithography Fundamentals inSemiconductor Devices and Fabrication Technology , Marcel Dekker,1998.[13]A. B. Timothy, Optical/Laser Microlithography VII , SPIE, 1994.[14]莊達人， VLSI製造技術 ， 高立圖書有限公司， 1995。[15]張俊彥， 積體電路製程及設備技術手冊 ，中華民國產業科技發展協進會， 1997。[16]G. A. F. Seber, Linear Regression Analysis , New York, Wiley,1997.[17]A. Bjorck, Numerical Methods for Least Squares Problems ,Philadelphia, SIAM, 1996.[18]H. T. Neil, Multivariate Analysis, with Applications inEducation and Psychology , Cole Pub. Co., 1975.[19]K. V. Mardia, Multivariate Analysis , Academic Press, 1979.[20]L. V. T. Harry, Detection, Estimation, and ModulationTheory , John Wiley and Sons, Inc., 1968.[21]R. E. Scott, Maximum Likelihood Estimation , Newbury Park,Calif, 1993.
 國圖紙本論文
 推文當script無法執行時可按︰推文 網路書籤當script無法執行時可按︰網路書籤 推薦當script無法執行時可按︰推薦 評分當script無法執行時可按︰評分 引用網址當script無法執行時可按︰引用網址 轉寄當script無法執行時可按︰轉寄

 1 應用微影覆蓋誤差的錯誤診斷分析改善微影製程總體設備效能 2 晶圓步進機之微影覆蓋模型誤差分析與補償

 1 7.鄧家駒，「風險衡量與其理論基礎」，中國行政，民國八十八年二月，第65卷,pp41-53 2 6.陳達新、林允永、邱智偉，「公司市場風險管理：J.P. Morgan CorporateMetrics的模型與應用」，證券金融，民國八十九年七月，第66卷，pp91-102。 3 7.鄧家駒，「風險衡量與其理論基礎」，中國行政，民國八十八年二月，第65卷,pp41-53 4 6.陳達新、林允永、邱智偉，「公司市場風險管理：J.P. Morgan CorporateMetrics的模型與應用」，證券金融，民國八十九年七月，第66卷，pp91-102。

 1 應用微影覆蓋誤差的錯誤診斷分析改善微影製程總體設備效能 2 灰階人臉辨識之研究 3 微影製程覆蓋誤差控制 4 CMAC類神經網路控制系統及CMAC晶片實現 5 Bispectrum分析用於訊號與影像之特徵量化 6 即時單字音辨識系統之設計 7 模擬系統之兩軸力回饋搖桿設計與控制 8 應用影像切割技巧建立室內通道的導航系統 9 遙控機器人系統之虛擬物體形變 10 重複性控制器之一新設計方法與FPGA實現 11 時間延遲下遙控機器人系統之雙向控制 12 結合PCA與灰色理論之人臉辨識系統 13 MP3錄放機系統設計 14 遠端呈現於遙控機器人系統之應用 15 漸進式影像壓縮編碼器之超大型積體電路設計

 簡易查詢 | 進階查詢 | 熱門排行 | 我的研究室