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研究生:許志強
研究生(外文):CHIH-CHIANG HSU
論文名稱:鋁原箔對鋁電解電容器用高壓陽極鋁箔電解腐蝕舉動之影響研究
論文名稱(外文):The different high voltage aluminum foils for electrolytic capacitor on the different electrochemical etching condition, the affect for the increasing ratio of surface.
指導教授:歐炳隆
指導教授(外文):Bin-Lung Ou
學位類別:碩士
校院名稱:國立中央大學
系所名稱:機械工程研究所
學門:工程學門
學類:機械工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2002
畢業學年度:90
語文別:中文
論文頁數:117
中文關鍵詞:鋁電解電容器
外文關鍵詞:foilaluminumcapacitor
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本論文針對鋁電解電容器用高壓陽極鋁箔,選取不同電化學蝕刻條件,探討鋁箔經電化學蝕刻後表面積增加率之影響,並探討鋁原箔對電化學蝕刻時所產生之影響研究。
改變不同電化學蝕刻條件,並使用八種不同的高壓陽極箔,電蝕高壓陽極箔並量測其機械性質,再按照EIAJ的規範對電蝕鋁箔做化成處理,並量測其靜電容量及重量損失率。利用OM觀察鋁箔截面形態與SEM觀察腐蝕孔徑大小。藉由上述分析方法,比較不同電蝕參數所造成的腐蝕形態對陽極鋁箔之靜電容量的影響,以及鋁原的成份、製程對陽極鋁箔之靜電容量的影響。
由實驗結果可知,提高電蝕液溫度會減小腐蝕孔徑、增加腐蝕孔的密度、但造成tunnel長度變短。而提高電流密度對腐蝕孔的孔徑大小、密度則無太大影響,但同樣造成tunnel長度變短。鋁原箔中的主要微量元素Fe、Si對靜電容量的影響很大,隨著Fe、Si含量增加,靜電容量隨之下降。
一般而言,立方體方位佔有率的大小,對高壓陽極鋁箔的靜電容量有很大的影響。但由於本實驗所採用的鋁箔,其立方體方位佔有率都已經在88.2%以上,所以立方體方位佔有率的多寡,對本實驗高壓陽極鋁箔靜電容量的高低影響不大。


This essay is a research regarding to high voltage aluminum foils for electrolytic capacitor on the different electrochemical etching condition, the affect for the increasing ratio of surface. Besides, we will discuss the impact of the aluminum foils for the electrochemical etching.
To change the different electrochemical etching condition, and etched eight different foils. Than, we measured its mechanical properties. Furthermore, we formed the etching foils according to the specifications of EIAJ, and measured its capacitance and weight loss ratio. We observed the cross section of etching foils with OM and observed the etched pits with SEM. According to the above mention methods, comparing with the effect of etched surface morphology caused by different etched parameters for the capacitance of high voltage aluminum foils, and the composition and manufacturing process of aluminum foils resulted in the capacitance of the aluminum foils.
According to the conclusion of the experience, we know that lower etchant temperature tended to produce wider tunnels, lower tunnel density and longer tunnel length. It was not an obvious impact on the size and density of the etched pits when we increased current density. But it could reduce the length of the tunnel. The trace impurities Fe and Si in aluminum foils have the great influence on capacitance. The amount of Fe and Si went up while the capacitance went down.


目 錄
頁次
謝誌 Ⅰ
Abstract ……………………………………………………………..Ⅱ
摘要 ………………………………………………………………..Ⅲ
目錄 ………………………………………………………………..Ⅴ
表目錄 ……………………………………………………………..Ⅵ
圖目錄 ……………………………………………………………..VII
第一章緒論 …………………………………………………. 1
一、序言 ………………………………………………………1
二、理論基礎與論文回顧 ……………………………………3
2.1 電容器的基本構造與原理 …………………………...3
2.2 增加陽極鋁箔表面積的方法 ………………………...7
2.3 電蝕所引起的腐蝕開始點 8
2.4 直流電蝕的溶解機構與原理………………………… .9
2.5 鋁在含氯離子溶液中的腐蝕形態………..…………...10
2.6 氯離子在鋁箔電蝕過程中所扮演的角色……….… 10
2.7 硫酸根離子在鋁箔電蝕工程中的影響…..…………...11
2.8 影響直流電蝕後之靜電容量的因素…..……………...12
2.8.1 鋁箔的性質……………………………………….. 12
2.8.2 電蝕液成份及溫度的影響……………………….. 15
2.8.3 電流密度的影響………………………………….. 16
2.8.4 化成處理………………………………………….. 16
2.8.5 電蝕鋁箔之CV特性 17
第二章本文 …………………………………………………….18
一、前言 ………………………………………………………18
二、實驗步驟與方法.…………………………………………19
2.1 材料………….…………………………………………19
2.2 電化學蝕刻處理 ……...………………………………19
2.3 電蝕箔之化成處理…………………………………….19
2.4 靜電容量的量測……….…………………………….20
2.5 電蝕鋁箔截面觀察……………………………………21
2.6 電蝕鋁箔表面觀察…………………………………….21
2.7 電蝕鋁箔機械性質的量測…………………………….21
2.7.1 鋁箔引張強度的量測…..…………………………21
2.7.2 鋁箔折曲次數的量測…...………………………22
2.8 電化學分析 ………………………………………… 22
三、結果與討論 ………………………………………………24
3.1 鋁箔成份分析結果 ………………………………… 24
3.2 影響電蝕陽極鋁箔的性質分析…...………………...24
3.2.1 E1電蝕溶液溫度….………………………………. 24
3.2.2 E1電流密度……………………………………...26
3.2.3 E2電流密度……………………………………... 27
3.3 鋁原箔成份及製程對陽極鋁箔性質的影響..………28
四、結論 ………………………………………………………32
五、參考文獻 …………………………………………………34
表 …………………………………………………………….……..36
圖 …………………………………………………………….…….38


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