跳到主要內容

臺灣博碩士論文加值系統

(3.238.252.196) 您好!臺灣時間:2022/08/13 23:55
字體大小: 字級放大   字級縮小   預設字形  
回查詢結果 :::

詳目顯示

: 
twitterline
研究生:林世峰
研究生(外文):Shih-feng Lin
論文名稱:原子力顯微鏡探針陽極氧化二氧化矽與應用
論文名稱(外文):Atomic Force Microscopy Tip-Induced anodic oxidation on SiO2 and its applications
指導教授:翁若敏
指導教授(外文):Ro-min Weng
學位類別:碩士
校院名稱:國立東華大學
系所名稱:電機工程學系
學門:工程學門
學類:電資工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2002
畢業學年度:90
語文別:中文
論文頁數:88
中文關鍵詞:奈米圖案轉移局部場致陽極氧化原子力顯微鏡微影術氧化薄膜二氧化矽
外文關鍵詞:pattern transfertip-induced local anodic oxidationAtomic Force Microscopy Lithographynano-scalefilmSiO2
相關次數:
  • 被引用被引用:10
  • 點閱點閱:222
  • 評分評分:
  • 下載下載:38
  • 收藏至我的研究室書目清單書目收藏:1
本研究使用原子力顯微鏡微影術(Atomic Force Microscopy - Lithography,AFM-Lithography),直接在矽晶片表面二氧化矽層上產生局部場致陽極氧化(Tip-Induced Local Anodic Oxidation),來製作各式氧化的幾何圖案,運用導電探針加偏壓方式,達到圖案轉移目地。原子力顯微鏡具有高解析度的特性,使所製作出來的氧化圖案可達奈米級尺度。我們也藉由外加偏壓的改變,結合原子力顯微術,來控制所需成長氧化薄膜厚度,並探討在氧化薄膜上,再成長點氧化物的時間與所成長點氧化物高度的關係。
Using Atomic Force Microscopy Lithography (AFM- Lithography) tip-induced local anodic oxidation on the native SiO2 layer of Si(111) is performed to fabricate oxide patterns. The AFM tip applied with a positive bias can produce the oxide patterns in nano-scale. We can control the thickness by means of various applied voltage and contact times to understand the growth rate of anodic oxidation.
誌謝
中文摘要
英文摘要
第一章 緒論.﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒1
1-1 前言﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒2
1-2 文獻回顧﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒4
1-3 研究動機﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒5
第二章 原子力顯微鏡微影技術﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒8
2-1 原子力顯微鏡介紹﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒9
2-2 儀器裝置 ﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒9
2-3 基本原理﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒19
2-4 掃描方式﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒20
2-4-1 接觸式﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒21
2-4-2 輕敲式﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒22
2-5 探針氧極氧化原理﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒23
第三章 實驗程序及方法﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒28
3-1 試片的準備及探針的選用﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒29
3-2 原子力顯微鏡功能條件的設定﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒31
3-3 接觸式設定﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒36
3-4 輕敲式設定﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒42
3-5 微影設定﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒45
第四章 結果與討論.﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒49
4-1在氧化薄膜上成長點氧化物的時間與點氧化物高度的關係﹒50
4-2藉由外加電壓的改變來控制所需成長氧化薄膜的厚度﹒﹒﹒61
4-3利用圖檔轉換方式結合原子力微影術製作氧化圖案﹒﹒﹒﹒71
4-4綜合討論﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒82
第五章 總結與未來工作.﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒85
參考資料.﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒87
1.Gordon E. Moore. Electronics, Volume 38, Number 8, April 19,1985
2.http://www.tsmc.com.tw/c-html/circuits/index.html
3.http://www.zyvex.com/nanotech/feynman.html
4.http://www.nanoword.net/library/nwn/1.htm
5.G. Binning, H. Rohrer, C. Gerber and E. Weibel, Phys. Rev. Lett. 49, 57(1983).
6.G. Binning, C. F. Quate,Gerber Ch., Phys. Rev. Lett. 56, 930(1986).
7.M. Ringger , H. R. Hidder , R. Schlogel , P. Oelhafan , H. J. Gntherodt , Appl. Phys. Lett. 46, 832(1985).
8.M. A. McCord , R. F. W. Pease , J. Vac. Sci. Technol. B3 , 198(1985).
9.H. Van Kempen , G. F. A. van de Walle , IBM. J. Res. Dev. 30 , 509(1986).
10.R. S. Becker , J. A. Golovchenko et al. , Nature 325, 419(1987).
11.Y. Z. Li , L. Vazquez , R. Piner , R. P. Andres , Appl. Phys. Lett. 54(15), 10 April(1989).
12.T. R. Albrecht , M. M. Dovek , M. D. Kirk, Appl. Phys. Lett. 55(17), 23 oct(1989).
13.J.A. Dagata, J. Schneir , H.H .Harary, C.J. Evans, M.T. Postek and J. Bennet , Appl. Phys. Lett. 56, 2001(1990).
14.D. Wang, L. Tsau, and K.L. Wang, Appl. Phys. Lett. 64, 2133(1994).
15.E.S. Snow and P.M. Campbell, Appl. Phys. Lett. 64, 1932(1994).
16.M.S. Hagedom, D.D. Litfin, G.M. Price, A.E.Gordon, and T.K. Higman, J.Vac.Sci. Technol. B.14, 4153(1996).
17.K. Matsumoto, M. Ishill, K. Segawa,Y. Oka, B.J. Vartanian, and J.S. Harris, Appl. Phys. Lett. 68, 34(1996).
18.E.S. Snow and P.M. Campbell, Science 250, 1639(1995).
19.H. Sugimura, T. Cuchida, N. Kitamura, and H. Masuhara, Appl. Phys. Lett. 63,1288(1993).
20.E.S. Snow, D. Park and P.M. Campbell, Appl. Phys. Lett. 69, 269(1996).
21.D. Wang, L. Tsau, and K.L. Wang, Appl. Phys. Lett. 67, 1295(1995).
22.S. Gwo, C.-L. Yeh, P.-F. Chen, Y.C. Chou, and T.T. Chen, Appl. Phys. Lett. 74, 1090(1999).
23.T. Yasuda, S. Yamasaki, and S.Gwo, Appl. Phys. Lett. 77, 3917(2000).
24.F.S.-S. Chien, J.-W. Chang, S.-W. Lin, Y.-C. Chou, T.T. Chen, S.Gwo, T.-S. Chao, and W.-F. Hiseh, Appl. Phys. Lett. 74, 360(2000).
25.Y. Kim, and C.M. Lieber, Science 257, 375(1992).
26.S.C. Minne, H.T. Soh, Ph. Flueckiger, and C.F. Quate, Appl. Phys. Lett. 66, 703(1995).
27.P.M. Campbell, E.S. Snow, and P.J. McMarr, Appl. Phys. Lett. 66, 1388(1995).
28.P.M. Campbell and E.S. Snow, Semicond. Sci. Technol. 11, 1558(1995).
29.P.M. Campb , E.S. Snow, and P.J. McMarr,ell, Physica (Utrecht) 227,315(1996).
30.P.M. Campbell, E.S. Snow, and P.J. McMarr, Surf. Sci. 361/362, 870(1996).
31.P.M. Campbell, and E.S. Snow, Mater. Sci. Eng., B B51, 173(1998).
32.P.M. Campbell, and E.S. Snow, Materials-Fabrication and Pattterning at the Nanoscale, edited by C. R. K. Marrian, K. Kash, F. Cerrina, and M. Lagally,MRS Symposia proceedings(Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 380, Materials Research Society, Pittsburgh,1995), p. 131.
33.Hong Xiao, “Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology”, Prentice Hall, 2001
34.Y.-R. Ma, C. Yu, Y.-D. Yao, Y. Liou,and S.F. Lee, Phys. Rev. B. 64, 195324(2001).
35.S.N. Magonov and M.-H. “hangbo,Surface Analysis with STM and AFM’’, VCH, 1995
36.Samuel H. Cohen, Mona T.Bray and Marcia L. lightbody.“Atomic Force Miscorscopy/Scanning Tunneling Microscopy”, Plenum, 1994.
37.行政院國家科學委員會,精密儀器發展中心,“探針掃描式顯微術”,1995
38.張俊彥,“半導體元件物理與製作技術”,高立出版社, 2000
39.A.E. Gordon, R.T. Fayfield, D.D. Litfin and T.K. Higman, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2805(1995).
40.Y. Nishi, Jpn. J. Appl. Phys. 10, 52(1971).
41.P. Caplan, E. Poindexter, B. Deal, and R. Razouk, J. Appl. Phys. 50, 5847(1979).
42.C.Y. Chang, S.M. Sze, “ULSI Technology”, McGRAW-HILL, 1996
43.Ph. Avouris, T. Hertel, and R. Martel, Appl. Phys. Lett.71, 285(1997).
44.J.A. Dagata, T.Inoue, J. Itoh, K. Matsumoto, and H. Yokoyama, J. Appl. Phys. 84, 6891(1998).
45.H. Sugimura, T. Cuchida, N. Kitamura, and H. Masuhara, J. Phys. Chem, 98, 4352(1994).
46.R. Garcia, and M. Calleja, Appl. Phys. Lett. 72, 2295(1998).
47.D. Stievenard, P. A. Fontaine, and E. Dubois, Appl. Phys. Lett. 70, 3272(1997).
48.B. Legrand, and D. Stievenard, Appl. Phys. Lett. 74, 4049(1999).
QRCODE
 
 
 
 
 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                               
第一頁 上一頁 下一頁 最後一頁 top