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研究生:謝秀春
論文名稱:氧化銦鋅透明導電薄膜之熱穩定性
指導教授:黃倉秀
學位類別:碩士
校院名稱:國立清華大學
系所名稱:材料科學工程學系
學門:工程學門
學類:材料工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2002
畢業學年度:90
語文別:中文
中文關鍵詞:氧化銦鋅熱穩定性
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  本論文以射頻平面磁控濺鍍法製備氧化銦鋅薄膜,探討不同靶材成份In2O3-ZnO(ZnO 5, 10, 20, 30 wt%)濺鍍的薄膜的熱穩定性。以四點探針量測片電阻,霍爾測試量測自由載子濃度和載子移動率,X光繞射儀分析結晶狀態,配合量測可見光穿透率來了解IZO薄膜經大氣及還原氣氛中、700℃以下退火處理後之光電性質及薄膜結晶性的變化,並以掃描電子顯微鏡觀察蝕刻圖案邊界,以原子力顯微鏡分析薄膜經不同清洗步驟處理後之表面粗糙度。
  由實驗結果可知,所有IZO薄膜於未退火的狀態下皆為非晶質,其中具有較好的光電性質的薄膜是以靶材組成IZO(ZnO 10或20 wt%)所鍍製出的薄膜,其可見光(390-760 nm)平均穿透率為80%,電阻率為5.8-5.9 10-4Ω-cm。IZO薄膜在大氣及還原氣氛經不同溫度退火後,除了ZnO 5 wt%薄膜在大氣環境300℃及還原氣氛250℃以上,ZnO 10 wt%薄膜在大氣環境400℃及還原氣氛325℃退火後有In2O3及Zn3In2O6結晶存在,其他在500℃以下之溫度退火皆維持非晶質狀態。在還原氣氛下退火比在大氣環境下退火的穩定性好。IZO薄膜導電性的熱穩定度,隨著ZnO含量的增加而增大,以ZnO 20 wt%最佳,而30 wt% ZnO的薄膜又變差。ZnO 20 wt%薄膜在還原氣氛經500℃退火後,仍可維持很好導電性,且電阻率甚至比未退火試片低。ZnO含量較多及在還原氣氛下退火的薄膜的可見光穿透率較穩定;在大氣環境經不同溫度退火後之可見光平均穿透率會降低,在還原氣氛退火則幾乎維持不變。IZO薄膜可利用草酸或稀鹽酸蝕刻且蝕刻圖案精細度高,利用稀鹽酸蝕刻的蝕刻邊界較陡峭,利用草酸蝕刻的蝕刻邊界較平緩。薄膜表面相當平滑,粗糙度為0.76 nm。
目 錄
摘要 I
誌謝 II
目錄 III
表格目錄 IV
圖片目錄 V
第一章 前言 1
第二章 實驗方法與步驟 12
第三章 結果與討論 16
3-1 於未退火的狀態下,不同成份薄膜之光電性質比較 16
3-2 不同成份薄膜之光電性質的熱穩定性 17
3-3 經過退火處理後,不同成份薄膜之光電性質比較 22
3-4 IZO薄膜與ITO薄膜之比較 23
第四章 結論 26
參考文獻 28
表格 ..表1-表6
圖片 .圖1.1-圖3.43
楊明輝, 『金屬氧化物透明導電材料的基本原理』, 工業材料, 179, 135 (2001)
李玉華,『透明導電膜及其應用』, 科儀新知, 12(1), 94 (1990)
H. L. Hartnagel, A. K. Jain, and C. Jagadish,『Semiconducting Transparent Thin Films』, Institute of Physics Publishing (1995), pp.13-15
E. Terzini, G. Nobile, S. Loreti, C. Minarini, T. Polichetti , and P. Thilakan, Jpn. J. Appl. Phys. 38, 3448 (1999)
S. Bhagwat, and R. P. Howson, Surf. Coat. Technol. 111, 163 (1999)
Y. Igasaki, and H. Kanma, Appl. Surf. Sci. 169-170, 508 (2001)
W. J. Jeong, and G. C. Park, Sol. Energy Mater. Sol. Cells. 65, 37 (2001)
S. Shanthi, C. Subramanian, and P. Ramasamy, Mater. Sci. Eng. B57, 127 (1999)
H. L. Hartnagel, A. K. Jain, and C. Jagadish,『Semiconducting Transparent Thin Films』, Institute of Physics Publishing (1995), pp.iii
許國銓, 『科技玻璃-高性能透明導電膜玻璃』, 材料與社會, 84, 110 (1993)
H. L. Hartnagel, A. K. Jain, and C. Jagadish,『Semiconducting Transparent Thin Films』, Institute of Physics Publishing (1995), pp.10-19
M. Quaas, C. Eggs, and H. Wulff, Thin Solid Films 332, 277 (1998)
H. Czternastek, A. Brudnik, and M. Jachimowski, Solid Stat. Commun. 65, 1025 (1988)
K. B. Sundaram, and G. K. Bhagavat, J. Phys. D 921-925, 14 (1981)
K. Dieter, 『Semiconductor Material and Device Characterization』, 466-469, Arizona State University (1990)
H. L. Hartnagel, A. K. Jain, and C. Jagadish,『Semiconducting Transparent Thin Films』, Institute of Physics Publishing (1995), pp.223-224
H. L. Hartnagel, A. K. Jain, and C. Jagadish,『Semiconducting Transparent Thin Films』, Institute of Physics Publishing (1995), pp.195-207
H. Czternastek, A. Brudnik, and M. Jachimowski, Solid Stat. Commun. 65, 1025 (1988)
K. L. Chopra, S. Major , and D.K. Pandya, Thin Solid Films 102, 1 (1983)
M. Bender, W. Seelig, C. Daube, H. Frankenbergwe, B. Ocker, and J. Stollenwerk, Thin Solid Films 326, 72 (1988)
E. Burstein, and D. C. Washington, Phys. Rev. 93, 632 (1954)
T. S. Moss, Proc. Phys. Soc. B67, 775 (1964)
F. M. Amanullah, K. J. Pratap, and V. H. Babu, Thin Soild Films 254, 28 (1995)
T. Minami, H. Sonohara, T. Kakumu, and S. Takata, Jpn. J. Appl. Phys. 34, 971 (1995)
K. L. Chopra, S. Major, and D.K. Pandya, Thin Solid Films 102, 1 (1983)
H. L. Hartnagel, A. K. Jain, and C. Jagadish,『Semiconducting Transparent Thin Films』, Institute of Physics Publishing (1995), pp.175-187
T. Moriga, D. Edward, T.O. Mason, G.B. Palmer, K.R. Poeppelmeier, J.L. Schindler, C.R. Kannewurf, and I. Nakabayashi, J. Am. Ceram. Soc. 81, 1310 (1998)
N. Naghavi, A. Rougier, C. Marcel, C. Guery, J. B. Leriche, and J. M. Tarascon, Thin Solid Films 360, 233 (2000)
S. F. Choy, and H. Gong, J. Mod. Phys. B 302-307, 16 (2002)
H. Takatsuji, S. Tsuji, K. Kuroda, and H. Saka, Japan Institute of Metals 31 Mar., 899 (1999)
S.M. Sze,『Semiconductor Devices Physics and Technology』, John Wiley&Sons (1985), pp.30-36
B. H. Lee, I. G. Kim, S. W. Cho, and S. H. Lee, Thin Solid Films 302, 25 (1997)
陳柏菁, 『應用於平面顯示器之ITO透明電極』, 光訊, 85, 27 (2000)
溫志中, 『ITO透明導電膜之濺鍍技術展望』, 工業材料, 166, 140 (2000)
蘇湘盟,國立清華大學碩士論文,民國90年。
古俊能, 『有機發光二極體用ITO』, 工業材料, 169, 106 (2001)
QRCODE
 
 
 
 
 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                               
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