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臺灣博碩士論文加值系統

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研究生:何立群
研究生(外文):Le-Chung Her
論文名稱:鈦鋁多層膜磊晶退火之研究
論文名稱(外文):Annealing of epitaxial aluminum and titanium films on si(111)
指導教授:吳信田
指導教授(外文):S.T. Wu
學位類別:碩士
校院名稱:國立清華大學
系所名稱:材料科學工程學系
學門:工程學門
學類:材料工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2002
畢業學年度:90
語文別:中文
中文關鍵詞:磊晶薄膜濺鍍鈦鋁合金真空退火介金屬化合物
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摘要
本實驗結合實驗室兩台濺鍍系統,採用Si(111)的基板,先以Chamber A鍍製900℃TiN磊晶薄膜300Å作為緩衝層之用,再疊上600℃鈦磊晶薄膜,鈦薄膜的厚鍍分為15分鐘500 Å以及45分鐘1500Å兩種。接著將試片移入Chamber B中,鍍製鋁的磊晶膜,鋁的厚度亦分為3分45秒的500 Å以及13分45秒的1500Å,最後形成Al/Ti/TiN/Si()多層磊晶膜結構,濺鍍工作完成後試片可分類為三種:
1. Al-500Å/ Ti-500 Å/ TiN300 Å/ Si(111)簡稱為TiAl試片
2. Al-500Å/ Ti-1500 Å/ TiN300 Å/ Si(111)簡稱為Ti3Al試片
3. Al-1500Å/ Ti-500 Å/ TiN300 Å/ Si(111)簡稱為TiAl3試片
取三種比例各一片為一組,依退火條件(改變時間及溫度)逐次放入Chamber B中利用真空退火。
以真空直流磁控濺鍍系統來製作多層膜磊晶是可行的,只要相接的兩種材料間的不匹配常數(Lattice Mismatch)足夠小,或者是原本不匹配常數很大的兩種材料,以適當比例的原子數目堆疊,配合適當的基板溫度,提供能量給原子移動至最穩定的位置。以本實驗為例,三層膜與基板間的磊晶空間關係為:
Al(111)【-101】// Ti(0002)【-2110】// TiN(111)【-101】// Si(111)【-101】
三個種類的試片( TiAl、Ti3Al 及TiAl3 ),在經過各種退火條件後可整理出,從退火條件為550℃2小時後600℃持溫2小時開始,即形成TiAl3多晶相,以及殘餘未反應的鈦磊晶薄膜和鋁的單晶薄膜。

第一章簡介
第二章文獻回顧
第三章實驗設備與方法
第四章問題與討論
第五章結論

參考文獻
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