|
[1] S. Iannazzo, Solid-State Electronics vol. 36, 301, 1993. [2] C. A. Spindt, J. Appl. Phys. vol. 39, p. 3504, 1968. [3] 王文俊, 場發射顯示系統, 平面顯示器研討會, 國立清華大學, 民國八十六年八月五~六日。 [4] J. A. Nation, L. Schachter, F. M. Mako, L. K. Len, W. Peter, C. M. Tang, and T. Srinivasan-Rao, Proceeding IEEE vol. 87, p. 865, 1999. [5] R. H. Fowler and I. W. Nordheim, Proc. Roy. Soc. vol. A 119, p. 173, 1928. [6] B. Goplen, L. Ludeking, D. Smithe and G. Warren, MAGIC User’s Manual, Mission Research Corp., MRC/WDC-R-409, 1997. [7] C. A. Spindt, C. E. Holland, I. Brodie, J. B. Mooney, and E. R. Westerberg, IEEE Trans. Electron Devices vol. ED-36, p.225, 1989. [8] http://www.pixtech.com [9] D. R. Whaley, B. M. Gannon, C. R. Smith, C. M. Armstrong, and C. A. Spindt, IEEE Trans. Plasma Sci. vol. 28, p. 727, 2000. [10] M. A. Kodis, K. L. Jensen, E. G. Zaidman, B. Goplen, and D. N. Smithe, IEEE Trans. Plasma Sci. vol. 24, p. 970, 1996. [11] H. G. Kosmahl, IEEE Trans. Electron Device vol. 36, p. 2728, 1989. [12] http://www.candescent.com/Candescent/default.htm [13] Y. C. Lan, J. T. Lai, S. H. Chen, W. C. Wang, C. H. Tsai, K. L. Tsai, and C. Y. Sheu, J. Vac. Sci. Technol. B vol. 18, p. 911, 2000. [14] W. B. Herrmannsfeldt, R. Becker, I. Brodie, A. Rosengreen and C. A. Spindt, Nucl. Instrum. & Methods Phys. Res. A vol. 298, p. 39, 1990. [15] R. M. Mobley and J. E. Boers, IEEE Trans. Electron Devices vol. 38, p. 2383, 1991. [16] W. D. Kesling and C. E. Hunt, IEEE Trans. Electron Devices vol. 42, p. 340, 1995. [17] C. M. Tang, T. A. Swyden and A. C. Tin, J. Vac. Sci. Technol. B vol. 13, p. 571, 1995. [18] U.S. Patent No. 5528103 (1996). [19] U.S. Patent No. 5508584 (1996). [20] J. E. Pogemiller, H. H. Busta, and B. J. Zimmerman, J. Vac. Sci. Technol. B vol. 12, p. 680, 1994. [21] T. T. Ku, M. S. Chen, C. C. Wang, M. S. Feng, I. J. Hsieh, C. M. Huang, and H. C. Cheng, Jpn. J. Appl. Phys. vol. 34, p. 5789, 1995. [22] M. Urayama, T. Ise, Y. Maruo, A. Kishi, R. Imamoto, and T. Takase, Jpn. J. Appl. Phys. vol. 32, p. 6293, 1993. [23] S. H. Yang and M. Yokoyama, presented at the 1996 International Electron Devices and Materials Symposia, Hsinchu, Taiwan, December 16-20, 1996. [24] S. Iijima, Nature vol. 354, p. 56, 1991. [25] A. G. Rinzler, J. H. Hafner, P. Nikolaev, L. Lou, S. G. Kim, D. Tomanek, P. Nordlander, D. T. Colbert, and R. E. Smalley, Science vol. 269, p. 1550, 1995. [26] W. A. deHerr, A. Chatelain, and D. Ugarte, Science vol. 270, p. 1179, 1995. [27] P. G. Collins and A. Zettl, Phys. Rev. B vol. 55, p. 9391, 1997. [28] S. Fan, W. Liang, H. Dang, N. Franklin, T. Tombler, M. Chapline, and H. Dai, Physica E vol. 8, p. 179, 2000. [29] Q. H. Wang, T. D. Corrigan, J. Y. Dai, R. P. H. Chang, and A. R. Krauss, Appl. Phys. Lett. vol. 70, p. 3308, 1997. [30] A. M. Rao, D. Jacques, R. C. Haddon, W. Zhu, C. Bower, and S. Jin, Appl. Phys. Lett. vol. 76, p. 3813, 2000. [31] F. Y. Chuang, C. C. Lee, J. D. Lin, J. H. Liao, H. C. Cheng, C. C. Han, W. C. Wang, SID2000 digest 22.3, 2000. [32] V. L. Granatstein and I. Alexeff, High-Power Microwave Source, Artech House, Inc., Norwood, MA, 1987. [33] J. Benford and J. Swegle, High-Power Microwaves, Artech House, Inc., Norwood, MA, 1992. [34] R. D. Scarpetti and S. C. Burkhart, IEEE Trans. Plasma Sci. vol. PS-13, p. 506, 1985. [35] M. W. Wu, P. S. Song, C. Y. Chen, M. J. Yang, K. N. Tung, and W. S. Hou, 7th Int. Conference on High-Power Particle Beams, Karlsruhe, Germany, July 4-8, 1988. [36] M. V. Fazio, J. Kinross-Wright, B. Haynes, and R. F. Hoeberling, J. Appl. Phys. vol. 66, p. 2675, 1989. [37] D. Price, H. Sze, and D. Fittinghoff, J. Appl. Phys. vol. 65, p. 5185, 1989. [38] M. V. Fazio, R. F. Hoeberling, and J. Kinross-Wright, J. Appl. Phys. vol. 65, p. 1321, 1989. [39] N. A. Nikolov, K. G. Kostov, I. P. Spasovsky, and V. A. Spasov, Electronics Lett. vol. 24, p. 1445, 1988. [40] D. Price, D. Fittinghoff, J. Benford, H. Sze, and W. Woo, IEEE Trans. Plasma Sci. vol. 16, p. 177, 1988. [41] H. A. Davis, R. R. Bartsch, T. J. T. Kwan, E. G. Sherwood, and R. M. Stringfield, IEEE Trans. Plasma Sci. vol. 16, p. 192, 1988. [42] H. A. Davis, R. R. Bartsch, T. J. T. Kwan, E. G. Sherwood, and R. M. Stringfield, Phys. Rev. Lett. vol. 59, p. 288, 1987. [43] S. Burkhart, J. Appl. Phys. vol. 62, p. 75, 1987. [44] J. Benford, H. Sze, W. Woo, and B. Harteneck, Phys. Rev. Lett. vol. 56, p. 344, 1986. [45] H. Sze, J. Benford, W. Woo, and B. Harteneck, Phys. Fluids vol. 29, p. 3873, 1986. [46] H. Sze, J. Benford, T. Young, D. Bromley, and B. Harteneck, IEEE Trans. Plasma Sci. vol. PS-13, p. 492, 1985. [47] D. J. Sullivan, IEEE Trans. Nucl. Sci. vol. NS-30, p. 3426, 1983. [48] J. Benford, D. Price, H. Sze, and D. Bromley, J. Appl. Phys. vol. 61, p. 2098, 1987. [49] M. Yatsuzuka, Y. Hashimoto, M. Sato, I. Ohta, T. Kaneko, S. Nobuhara, and T. Tazima, J. Phys. Soc. Japan vol. 60, p. 352, 1991. [50] C. S. Hwang, M. W. Wu, P. S. Song, and W. S. Hou, J. Appl. Phys. vol. 69, p. 1247, 1991. [51] H. Hanjo, and Y. Nakagawa, J. Appl. Phys. vol. 70, p. 1004, 1991. [52] M. W. Wu, T. C. Guung, C. Y. Chen, C. S. Hwang, 8th IEEE Int. Pulsed Power Conference, San Diego, June 16-19, 1991. [53] T. L. Lin, W. T. Chen, W. C. Liu, Y. Hu, and M. W. Wu, J. Appl. Phys. vol. 68, p. 2038, 1990. [54] A. L. Peratt, C. M. Snell, and L. E. Thode, IEEE Trans. Plasma Sci. vol. PS-13, p. 498, 1985. [55] L. S. Bogdankevich and A. A. Rukhadze, Sov. Phys. USPEKHI vol. 14, 163, 1971. [56] R. B. Miller, An introduction to the physics of intense charged particle beams, Plenum, New York, 1982. [57] W. Jiang, K. Woolverton, J. Dickens, and M. Kristiansen, IEEE Trans. Plasma Sci. vol. PS-27, p. 1538, 1999. [58] W. Y. Woo, Phys. Fluids vol. 30, p. 239, 1987. [59] R. F. Hoeberling and M. V. Fazio, IEEE Trans. Electromagnetic Compatibility vol. 34, p. 252, 1992. [60] K. R. Shoulders, Adv. Computer vol. 2, p. 135, 1961. [61] W. A. Mackie, R. L. Hartman, and P. R. Davis, Appl. Surface Sci. vol. 67, p. 29, 1993. [62] M. Endo, H. Nakane, and H. Adachi, J. Vac. Sci. Technol. B. vol. 14, p. 2114, 1996. [63] E. C. Boswell, M. Huang, G. D. W. Smith, and P. R. Wilshaw, J. Vac. Sci. Technol. B. vol. 14, p. 1895, 1996. [64] L. N. Yadon, D. Temple, W. D. Palmer, C. A. Ball, G. E. Mcguire, C. M. Tang, and T. A. Swyden, J. Vac. Sci. Technol. B. vol. 13, p. 580, 1995. [65] A. I. Akinwande, P. E. Bauhahn, H. F. Gray, T. R. Ohstein, and J. O. Holmen, IEDM Tech. Dig, p. 367, 1992. [66] M. W. Geis, J. A. Gregory, and B. B. Pate, IEEE Trans. Electron Devices vol, 38, p. 619, 1991. [67] C. Wang, A. Garcia, D. C. Ingram, M. Lake, and M. E. Kordesch, Electron. Lett. vol. 27, p. 1459, 1991. [68] K. H. Park, K. M. Lee, S. Choi, S. Lee, and K. H. Kon, J. Vac. Sci. Technol. B vol. 19, p. 946, 2001. [69] C. Gu, X. Giang, Z. Jin, and W. Wang, J. Vac. Sci. Technol. B vol. 19, p. 962, 2001. [70] R. Meyer, A. Ghis, P. Rambaud, and F. Muller, Proc. 6th Int. Display Research Conf., SID p. 512, 1986. [71] C. A. Spindt, C. E. Holland, I. Brodie, J. B. Mooney, and E. R. Westerberg, IEEE Trans. Electron Devices vol. 36, p. 225, 1989. [72] W. B. Choi, D. S. Chung, J. H. Kang, H. Y. Kim, Y. W. Jin, I. T. Han, Y. H. Lee, J. E. Jung, N. S. Lee, G. S. Park, and J. M. Kim: Appl. Phys. Lett. vol. 75, p. 3129, 1999. [73] E. G. Zaidman, IEEE Trans. Electron Devices vol. 40, p. 1009, 1993. [74] T. K. Ku, M. S. Chen, C. C. Wang, M. S. Feng, L. J. Hsieh, C. M. Huang, and H. C. Cheng, Jpn. J. Appl. Vol. 35, p.5789, 1995. [75] R. L. Hartman, W. A. Mackie, and P. R. Davis, J. Vac. Sci. Technol. B vol. 12, p. 754, 1994. [76] Y. J. Yang, F. T. Korsmeyer, V. Rabinovich, M. Ding, S. D. Senturia, and A. I. Akinwande, IEDM 98, p. 863, 1998. [77] W. A. Anderson, J. Vac. Sci. Technol. B vol. 11, p. 383, 1993. [78] G. N. A. van Veen, J. Vac. Sci. Technol. B vol. 12, p. 655, 1994. [79] Y. Y. Lau and Y. Liu, Phys. Plasma vol. 1, p. 2082, 1994. [80] K. L. Jensen, M. A. Kodis, R. A. Murphy, E. G. Zaidmain, J. Appl. Phys. vol. 82, p. 845, 1997. [81] V. H. Barkhausen and K. Kurz, Phys. Z. vol. 21, p. 1, 1920. [82] R. A. Mathaffey, P. Sprangle, J. Golden, and C. A. Kapetanakos, Phys. Rev. Lett. vol. 39, p. 843, 1977. [83] R. J. Lomax, Proc. IEE vol. 108, Part C, p. 119, 1961. [84] E. A. Coutsias and D. J. Sullivan, Phys. Rev. A vol. 27, p. 1535, 1983. [85] H. R. Jory, A. W. Trivelpiece, J. Appl. Phys. vol. 40, p. 3924, 1969. [86] H. W. Chan and R. C. Davidson, J. Appl. Phys. vol. 61, p. 2152, 1987. [87] A. Kadish, IEEE Trans. Plasma Sci. vol. PS-13, p. 188, 1985. [88] A. Kadish, R. J. Faehl, C. M. Snell, Phys. Fluids vol. 29, p. 4192, 1986. [89] G. Yu, W. Wang, Y. Wei, and S. Liu, Int. J. Infra. Milli. Waves vol. 17, p. 1219, 1996. [90] C. K. Birdsall and W. Bridges, J. Appl. Phys. vol. 32, p. 2611, 1961. [91] W. Bridges and C. K. Birdsall, J. Appl. Phys. vol. 34, p. 2946, 1963. [92] T. J. T. Kwan, Phys. Fluids vol. 27, p. 228, 1984. [93] T. J. T. Kwan and L. E. Thode, Phys. Fluids vol. 27, p. 1570, 1984. [94] J. J. Ambrosiano and J. L. Geary, Computer Phys. Comm. vol. 67, p. 210, 1991. [95] C. K. Birdsall and A. B. Langdon, Plasma Physics via Computer Simulation, McGraw-Hill, New York, 1985. [96] I. B. Bernstein, L. K. Divringi, and T. M. Smith, Int. J. Infra. Milli. Waves vol. 4, p.57, 1983. [97] J. J. Barroso, A. Montes, and G. O. Ludwig, Int. J. Electronics vol. 61, p. 771, 1986. [98] K. R. Chu, C. S. Kou, J. M. Chen, Y. C. Tsai, C. Cheng, S. S. Bor, and L. H. Chang, Int. J. Infra. Milli. Waves vol. 13, p. 1571, 1992. [99] E. Borie and O. Dumbrajs, Int. J. Electronics vol. 60, p. 143, 1986. [100] E. Jensen and K. Schunemann, Int. J. Infra. Milli. Waves vol. 12, p. 1275, 1991. [101] F. Sporleder and H. G. Unger, Waveguide tapers transition and couplers, Peter Peregrinus Ltd., London, 1979. [102] S. D. Conte and C. deBoor, Elementary numerical analysis, 3rd ed., McGraw-Hill, New York, 1980. [103] J. S. Guo, W. W. Lin, and C. S. Wang, LINEAR ALGEBRA APPL vol. 231, p. 15, DEC. 1995.
|