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研究生:劉珮筠
研究生(外文):Liu, Pei-yun
論文名稱:ModifiedVEWMA控制器之研究
指導教授:曾勝滄曾勝滄引用關係
學位類別:碩士
校院名稱:國立清華大學
系所名稱:統計學研究所
學門:數學及統計學門
學類:統計學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2003
畢業學年度:91
語文別:中文
論文頁數:43
中文關鍵詞:EWMA控制器回饋控制批次控制SPCEPC老化
外文關鍵詞:EWMA controllerfeedback controlRbR controldriftdouble EWMA
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針對有老化現象的生產製程,傳統上使用Double EWMA回饋控制器來進行批次控制(RbR control),亦即使用二個不同的折扣因子,利用製程前一批量的產出表現,來對下一批量投入變數進行調整。一般而言,使用固定折扣因子通常需要極大的批量數才可將製程產出調整到目標值,而為了使製程產出能快速地調整至目標值,可應用變動折扣因子來調整製程。然而,Double EWMA變動折扣因子回饋控制器的製程產出公式卻相當煩雜,實際應用上有其困難。有鑒於此,本文以單一變動折扣因子的觀念來調整有老化現象的製程,在要求有限批量的總均方差(Total mean square error, )和重製率(Rework rate, )極小化的限制下,分別建構出方便使用的最適變動折扣因子,並比較此最適變動折扣因子控制器與傳統Double EWMA控制器在執行效能上的優劣。
第一章 簡介
1.1 前言
1.2 研究動機
1.3 研究架構
第二章 文獻回顧及問題描述
2.1 Single VEWMA回饋控制器
2.2 Double VEWMA 回饋控制器
2.3問題描述
第三章 Modified VEWMA回饋控制器
3.1 Modified VEWMA回饋控制器之製程產出值及其穩定性質
3.2 TMSE極小化之最適變動折扣因子
3.3 RR極小化之最適變動折扣因子
3.4 Modified VEWMA與Double EWMA回饋控制器之績效比較
第四章 結論與後續研究
[1] Del Castillo, E., “Long run and transient analysis of a double EWMA feedback controller, ” IIE Transactions, 31, 1157-1169, 1999.
[2] Butler, S. W. and Stefani, J. A., “Supervisory run-to-run control of a polysilicon gate etch using in situ ellipsometry,” IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, 7, 193-201, 1994.
[3] Ingolfsson, A. and Sachs, E., “Stability and sensitivity of an EWMA controller, ” Journal of Quality Technology, 25, 271-287, 1993.
[4] Suttipan, Jennie and Kostas, “Monitoring and control of semiconductor manufacturing processes,” IEEE Control Systems, 46-58, 1998.
[5] Tseng, S. T., Chou, R. J. and Lee, S. P., “A study of multivariate EWMA controller,” IIE Transactions 34, 541-549, 2002.
[6] Sachs, E., Guo, A. Hu, and A. Ingolfsson, “Process control system for VLSI fabrication,” IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, 4, 134-144, 1991.
[7] Tseng, S. T., Yeh, A. B, Tseng, F and Chan, T. Y., “A study of Variable EWMA Controller,” Tentatively Accepted by IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing.
[8] 楊嘉文 "Double EWMA控制器最適變動折扣因子之研究"。清華大學工業工程與工程管理所碩士論文,2002。
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