[1] M. A. Sobolewski, J. Vac. Sci. Technol. A 10, 3550 (1992).
[2] N. Spiliopoulos, D. Mataras, and D. E. Rapakoulias, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 2757 (1996).
[3] Leon P. Bakker, Gerrit M. W. Kroesen, and Frederik J. de Hoog, IEEE Transaction on Plasma Science, Vol 27,759 (1999).
[4] 蔡世哲,大面積電感式電漿源之研製與特性量測, 國立清華大學工程與系統科學研究所碩士論文,1998.[5] www.scisys.com , SmartPIM Application Note No.1 and No.3。
[6] 羅佩珍教授, 國立交通大學數位訊號處理導論講義 (2002).
[7] 陳金雄, 電感耦合式電漿源不穩定性現象之量測與分析, 國立清華大學工程與系統科學研究所碩士論文,2001.[8] 林傳生,全華出版社,數位訊號處理簡介與應用(1999)
[9] 安捷倫33250A函數/任意波形產生器使用者手冊Phase Locked說明。
[10] 張家豪, Plasma Processing Lab, dep of ESS, NTHU, US patent 5834931, 1998 RF Current Sensor, Sematech, Inc。