|
1. See, for example, K. onabe, Y. Tashiro, and Y. Ide, Sur. Sci. 174, 401(1986) 2. S. Yamada, T. Fukui, and A. Sugimura, Sur. Sci. 174, 444(1986) 3. R. Dingle, W. Wiegman, and C. H. Henry, Phy. Rev. Lett. 33,827(1974) 4. C. Weisbuch, R. C. Miller, R.Dingle, A.C. Gossard, and W. Wiegmann, Solid State Commu. 37,219(1981) 5. D. Vignaud, X. Wallart, F. Mollot, and B. Sermage, J. Appl. Phys. 84, 2138(1998) 6. A. C. Wright and J. O. Williams, Mat. Letts. 3, 80(1985); R. D. Dupuis, R.C. Miller and P. M. Petroff, Mat. Letts. 3,398(1985) 7. J. S. Hwang, W. Y. Chou, M. C. Hung, J. S. Wang and H. H. Lin, J. Appl. Phys. 82, 3888(1997) 8. M. D. Pashley, K. W. Haberern, R. M. Feenstra and P. D. Kirchner, Phys. Rev. B48, 4612(1993) 9. H. Shen, P. Parayanthal, Y. F. Liu, and F. H. Pollak, Rev. Sci. Intrum. 58, 1429(1987) 10. H. Shen and M. Dutta, J. Appl. Phys. 78, 2151(1995) 11. C. M. Lai, F. Y. Chang, C. W. Chang, C. H. Kao, H. H. Lin, G. J. Jan and Johnson Lee, Appl. Phys. Lett. 82, 3895(2003) 12. X. Yin, H-M. Chen, F. H. Pollak, Y. Chan, P. A. Montano, P. D. Kirchner, G. D. Pettit, and J. M. Woodall, J. Vac. Scl. Technol. A10, 131(1992) 13. Weimin Zhou, M. Dutta, H. Shen, J. Pamulapati, Brian R. Bennett, Clive H. Perry, David W. Weyburne, J. Appl. Phys. 73, 1266(1993) 14. T. Kanata, M. Matsunaga, H. Takakura, Y. Hamakawa and T. Nishino, J. Appl. Phys. 68, 5309(1990) 15. D. Yan, E. Look, X. Yin, Fred H. Pollak and J. M. Woodall, Appl. Phys. Lett. 65, 186(1994) 16. J. S. Hwang, S. L. Tyan, W. Y. Chou, M. L. Lee, H. H. Lin, T. L. Lee, W. David, and Z. Hang, Appl. Phys. Lett. 64, 3314(1994) 17. W. Y. Chou, G. S. Chang, W. C. Hwang, and J. S. Hwang, J. Appl. Phys. 83, 3690(1998) 18. J. S. Hwang, Y. C. Wang, W. Y. Chou, and S. L. Tyan, J. Appl. Phys. 83, 2857(1998) 19. G. S. Chang, W. C. Hwang, Y. C. Wang, Z. P. Yang, and J. S. Hwang, J. Appl. Phys. 86, 1765(1999) 20. N. P. Lakshmi and F. G. Thomas, Appl. Phys. Lett. 61, 1081 21. D. E. Aspnes, in M. Balkanski, Handbook on Semiconductors, Vol. 2, North-Holland, New York, 1980, p.109; also Surf. Sci, 37, 418(1973) 22. D. E. Aspnes, Phys. Rev. B10, 4228(1974) 23. T. M. Hsu, Y. C. Tien, N. H. Lu, S. P. Ysai, D. G. Liu and C. P. Lee, J. Appl. Phys. 72, 1065(1992) 24. N. Bottka, D. K. Gaskill, R. J. M. Griffiths, R. R. Bradley, T. B. Joyce, C. Ito and D. McIntyre, J. Cryst. Growth, 93, 481(1988) 25. D. E. Aspnes and A. A. Studna, Phys. Rev. B7, 4605(1973) 26. C. Van Hoof, K. Deneffe, J. DeBoeck, D. J. Arent, and G. Borghs, Appl. Phys. Lett. 54, 608(1989) 27. J. S. Hwang, C. C. Chang, M. F. Chen, C. C. Chen, K. I. Lin, F. C. Tang, M. Hong and J. Kwo, J. Appl. Phys. 94, 348(2003) 28. J. S. Hwang, G. S. Chang, W. C. Hwang, and W. J. Chen, J. Appl. Phys. 89, 1771(2001) 29. Y. P. Varshni, Physica 34, 149(1967) 30. 施敏, 半導體元件物理與製作技術(第二版),(國立交通大學出版社,新竹), p180 31. J. L. Freeouf, and J. M. Woodall, Appl. Phys. Lett. 39, 727(1981) 32. W. E. Spicer, Z. Liliental-Weber, E. Weber, N. Newman, T. Kendelewicz, R. Cao, C. McCants, P. Mahowald, K. Miyano, and I. Lindau, J. Vac. Scl. Technol. B6, 1245(1988) 33. J. M. Garland, H. Abad, M. Viccaro and P. M. Raccah, Appl. Phys. Lett. 52, 1176(1988) 34. R. N. Bhattacharya, H. Shen, P. Parayanthal, Fred H. Pollak, T. Coutts and H. Aharoni, Phys. Rev. B37, 4044(1988) 35. M. D. Pashley, K. W. Haberern and R. M. Feenstra, J. Vac. Scl. Technol. B 10,1874(1992) 36. F. H. Pollak and H. Shen, J. Cryst. Growth 98, 53(1989) 37. Yichun Yin, D. Yan, Fred H. Pollak, G. D. Pettit and J. M. Woodall, Phys. Rev. B43, 12138(1991) 38. S. L. Tyan, M. L. Lee, Y. C. Wang, W. Y. Chou, and J. S. Hwang, J. Vac. Scl. Technol. B13, 1010(1995) 39. H. Shen, W. Zhou, J. Pamulapati and F. Ren, Appl. Phys. Lett. 74, 1430(1999) 40. Donald A. Neamen, 半導體物理及元件(第三版),(台商圖書有限公司,台北), p159
|