|
參考文獻: 1. Burrows, P. E.; Gu, G.; Bulovic V.; Shen, Z.; Forrest, S. R.; Thompson, M. E. IEEE Trans. Electron Device 1997, 44, 11888. 2. Pope, P.; Kallmann, H. P.; Magnante, P. J. Chem. Phys. 1963, 38, 2042. 3. Tang, C. W.; VanSlyke, S. A. Appl. Phys. Lett. 1987, 51, 913. 4. Burroughes, J. H.; Bradley, D. D. C.; Brown, A. R.; Marks, R. N.; Mackay K. D.; Friend R.H.; Burn P. L.; Holmes A. B. Nature 1990, 347, 539. 5. 審譯:林敬二, 林宗義,儀器分析第四版, 1994, 上冊, 174 — 193. 6. Ishida, T.; Kobayashi, H.; Nakato, Y. J. Appl. Phys. 1993, 73, 4344. 7. Van Slyke, S. A.; Tang, C. W.; Roberts, L. C. US 4, 720, 1988, 432. 8. Adachi, C.; Tokito, S.; Tsutsui, T.; Saito, S. Japan J. Appl. Phys. 1988, 27, L713. 9. Era, M.; Adachi, C.; Tsutsui, T.; Saito, S. Chem. Phys. Lett. 1991, 178, 488. 10. VanSlyke, S. A.; Tang, C. W. US 4,539,507, 1985. 11. (a) Hamada, Y.; Sano, T.; Fujita, M.; Fujii, T.; Nishio, Y.; Chem. Lett. 1993, 905. (b) Hamada, Y.; Shibata, K.; Shibata, K.; Kuroki, K. Japan J. Appl. Phys. 1995, Part 2, 34, L824-L826. 12. Kido, J. J. Appl. Phys. 1993, Part 2, 32 (7A), L917. 13. (a) Adachi, C.; Tsutsui, T.; Saito, S. Appl. Phys. Lett. 1989, 55, 1489. (b) Ohta, M.; Sakon, Y.; Takahashi, T.; Adachi, C.; Nagai, K. US 5,420,288, 1995. (c) Saito, S.; Tsutsui, T.; Adachi, C.; Hamada, Y. US 5,382,744, 1995. (d) Hironaka, Y.; Tokailia, H.; Hosokawa, C.; Kusumoto, T, US. 5,336,546, 1994. 14. (a) Klupfel, K. —W.; Sus, O.; Behmenburg, H.; Neugebauer, W. US 3,180,730, 1965. (b) Chen, C. H.; Hung, Y. US 4,992,349, 1991. 15. (a) Scozzafava, M.; Chen, C. H.; Reynolds, G. A.; Perlstein, J. H. US 4,514,481, 1985 (b) Kung, T. M.; Chen, C. H. US 5,236,797, 1993. 16. Shi, J.; Tang, C. W.; Chen, C. H. US 5,646,948, 1997. 17. Hosokawa, C.; Tokailin, H.; Higashi, H.; Kusumoto, T. Appl. Phys. Lett. 1992, 60, 1220. 18. An single crystal X-ray crystallography of Alq was performed by Analitical Technology Division, Eastman Kodak Company. 19. Bryan, P. S.; Lovecchio, F. V.; Van Slyke, S. A. US 5, 141, 671, 1992. 20. Sano, T.; Fujita, M.; Fujita, T.; Nishio, Y.; Hamada, Y.; Shibata, K.; Kurpki, K. US 5, 432, 014, 1995. 21. Sato, Y.; Otsuka, S. EP 510, 541 1992. 22. Hamada, Y.; Sano, T.; Fujita, M.; Fujii, T.; Nishio, Y.; Shibata, K. Japan J. Appl. Phys. 1993, part 2, 32, L514—L515. 23. Brantly, T. B.; Contois, L. E.; Fox, C. J. US 3, 567,450, 1971. 24. Brantly, T. B.; Contois, L. E.; Fox, C. J. US 3, 658, 520, 1972. 25. Borsenberger, P. M.; Mey, W.; Chowdry, A. Appl. Phys. 1978, 49, 273. 26. Iwaski, K.; Adachi, C.; Tsutsui, T.; Saitp, S. Abstract of the 51st Autumn Meeting of Japan Society of Applied Physics, Iwate, 1933, Sept., 28a-PB-3. 27. Shirota, Y.; Kuwabara, Y.; Inada, H. Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 807. 28. Imai, K.; Shinkai, M.; Wakimoto, T.; Shirota, Y. US 5,256,945, 1993. 29. Wu, I. Y.; Lin, J. T.; Tao, Y. T.; Balasubramaniam, E.; Su, Y. Z.; Ko, C. W. Chem. Mater. 2001, 13, 2626. 30. (a) Justin Thomas, K. R.; Lin, J. T.; Tao, Y. T.; Ko, C. W. Adv. Mater. 2000, 12, 1949. (b) Justin Thomas, K. R.; Lin, J. T.; Tao, Y. T.; Ko, C. W. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 9404. 31. Tao, Y. T.; Ko, C. W. Synth. Met. 2002, 126, 37. 32. J. L. Fox and C. H. Chen, US 4,736,032, 1998; T. Inoe and K. Nakatani, JP 6,009,952, 1994; J. Ito, JP 7,166,160, 1995. 33. Chen, C. H.; Tang, C. W.; Shi, J. Klubek, K. P. Macromol. Symp. 1997, 125, 49. 34. J. Shi, C. W. Tang, C. H. Chen, US 5,935,721, 1999. 35. B. X. Mi, Z. Q. Gao, C. S. Lee, S. T. Lee, H. L. Kwong, N. B. Wong, Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 4055. 36. S. Yin, Y. Hua, S. Chen, X. Yang, Y. Hou, X. Xu, Syn. Met. 2000, 111, 109. 37. L. M. Leung, W. Y. Lo, S. K. So, K. M. Lee, W. K. Choi, J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 5640. 38. H. Jang, L. —M. Do, Y. Kim, J. G. Kim, T. Zyung, Y. Do, Syn. Met. 2001, 121, 1669. 39. Y. Shao, Y. Qiu, X. Hu, X. Hong, Chem. Lett. 2000, 1068. 40. Dongge Ma, Guang Wang, Yufeng Hu, Yanguang Zhang, Lixiang Wang, Xiabin Jing, Fosong Wang, C. S. Lee and S. T. Lee, Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 1296. 41. Yuji Hamada, Hiroshi Kanno, Takeshi Sano, Hiroyuki Fujii, Yoshitaka Nishio, Hisakazu Takahashi, Tatsuro Usuki, and Kenichi Shibata, Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 1939. 42. Juan Qiao, Yong Qiu, Liduo Wang, Lian Duan, Yang Li, and Deqiang Zhang, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 4913. 43. Janietz, S.; Bradley, D. D. C.; Grell, M.; Giebeler, C.; Inbasekaran, M.; Woo, E. P. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 2453. 44. Burrows, P. E.; Shen, Z.; Bulovic, V.; McCarty, D.M.; Forrest, S. R. J. Appl. Phys. 1996, 79, 7991. 45. Junji Kido and Yashhiro lizumi, J. Appl. Phys. 1998, 73, 2721. 46. M. A. Baldo, D. F. O’Brien, Y. You, A. Shoustikov, S. Sibley, M. E. Thompson, S. R. Forrest, Nature(London), 1998, 395,151. 47. M. A. Baldo, S. Lamansk, P. E. Burrows, M. E. Thompson, S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 1994, 75, 4. 48. C. Adachi, M. A. Baldo, S. R. Forrest, S. Lamansky, M. E. Thompson, R. C. Kwong, J. Am. Chem. Soc. 2001, 78, 1622. 49. S. Lamansky, R. C. Kwong, M. Nugent, P. I. Djurovich, M. E. Thompson, Org. Electronics, 2001, 2, 53. 50. P. I. Djurovich, A. Tamayo, M. E. Thompson, Abs. 3nd Internat. Conf. EL Mol. Mater. Relat. Phenom. (ICEL-3), p.45, Sept. 5-8, 2001, Los Angelos, CA, USA. 51. Hong Zhi Xie, Man Wah Liu, Oi Yan Wang, Xiao Hong Zhang, Chun Sing Lee, Liang Sun Hung, Shuit Tong Lee, Pang Fei Teng, Hoi Lun Kwong, Hui Zheng, Chi Min Che, Adv. Mater. 2001, 13, 1245. 52. Vladimir V. Grushin, Norman Herron, Daniel D. LeCloux, William J. Marshall, Viacheslav A. Petrov, Ying Wang, Chem. Commun, 2001, 1494. 53. Sergey Lamansky, Peter Djurovich, Drew Murphy, Hae-Eun Lee, Feras Abdel-Razzaq, Chihaya Adachi, Paul E. Burrows, Stephen R. Forrest, Mark E. Thompson, J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 4304. 54. 國立清華大學化學系施槐庭博士論文, 2001. 55. 陳金鑫, 鄭榮安, 化學, 2002, 60, 135. 56. Jerchel et al.; Justus Liebigs Ann. Chem.; 1952; 162, 167.
|