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臺灣博碩士論文加值系統

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研究生:陳君豪
研究生(外文):Chun-Hao Chen
論文名稱:射頻電漿與聚合物表面之作用
論文名稱(外文):Effects of RF plasma on the surface of polymers
指導教授:寇崇善
指導教授(外文):Chwung-Shan Kou
學位類別:碩士
校院名稱:國立清華大學
系所名稱:物理學系
學門:自然科學學門
學類:物理學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2004
畢業學年度:92
語文別:中文
論文頁數:47
中文關鍵詞:電漿清潔中空陰極效應接觸角表面改質
外文關鍵詞:plasma cleaninghollow cathode effectcontact anglesurface modification
相關次數:
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本實驗為解決一般工業界中PCB板處理不均勻性的問題,因此發展了RF-HCD系統,藉中空陰極效應產生大面積且均勻之電漿,並利用氣流及擴散將電漿均勻且有效的帶至處理盒內,達成均勻且有效的處理效果。在效果方面,成功將PCB板之表面能量由原本的15 dynes/cm提升至65 dynes/cm;在均勻度方面,處理盒內PCB板之表面能量差異僅僅5 dynes/cm左右,均勻度相當良好。
量測上,我們量測了處理盒內之電漿離子密度,以瞭解電漿的均勻度;利用OES量測電漿區內參與反應的氣體種類與其能階狀態;量測接觸角,以瞭解PCB板在處理前後表面能量的變化。
目錄索引
第一章 緒論
1.1 電漿在工業界之應用/1
1.1.1 聚合物(polymer)的應用/1
1.1.2 電漿對聚合物之表面處理/1
1.2 研究方向與目的/2
第二章 實驗設備與操作流程
2.1 實驗設備介紹/4
2.2 射頻能量供應系統/6
2.2.1 電漿源設計/6
2.2.2 匹配線路(Matching network)/8
2.3 量測系統介紹/8
2.3.1 電漿離子密度量測:Langmuir probe量測/8
2.3.1.1 Langmuir probe之製作方法/9
2.3.1.2 Langmuir probe量測操作步驟/11
2.3.2 表面能量量測/11
2.3.3 原子光譜量測:光譜儀量測(OES)/13
第三章 實驗方法之原理
3.1 Langmuir probe之介紹/14
3.1.1 I-V特性曲線/16
3.1.1.1 I-V特性曲線分析/16
3.1.1.2 電漿參數計算/18
3.2 中空陰極放電(Hollow Cathode Discharge, HCD)/21
3.3 接觸角(Contact angle)之定義/24
3.4 電漿與聚合物表面之作用(plasma-surface interaction)/26
第四章 實驗結果與分析
4.1 電漿離子密度量測/28
4.1.1 RF-HCD系統之電漿離子密度量測/29
4.1.2 置入PCB對電漿離子密度之影響/32
4.2 PCB板之接觸角量測/34
4.2.1接觸角隨氣壓與處理時間之變化/34
4.2.2表面能量之均勻度分析/37
4.3 電漿系統之光譜量測/41
4.3.1 峰值強度與壓力之關係/42
4.3.2 氬氣加入對峰值強度之影響/42
第五章 結論
5.1 實驗結果摘要/46
5.2 RF-HCD系統之改良與發展/47
參考文獻
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