臺灣博碩士論文加值系統

摘 要
由於生產技術不斷的進步與發展，對於產品良率與精密度之要求亦日益提升，因此控制產品生產過程中的潔淨度是極為重要的課題，為使得產品能在一個良好的環境中生產、製造，便發展出對環境條件嚴格控管的無塵室，並根據生產方式、作業流程及產品要求的不同，訂定各類無塵室之相關規格，然而所有無塵室之主要目的皆為清除空氣中之浮塵及微粒子，且微粒在空氣中之運動及分佈情形主要是根據無塵室內氣流流場變化，因此分析無塵室之氣流狀態對設計無塵室非常重要。
本研究針對欣興電子股份有限公司FLIP CHIP二廠(3F)無塵室實行全面氣流電腦模擬分析，分析各項參數條件對無塵室氣流之影響狀況，做為日後無塵室設計之參考。此次研究主要考慮(1)回風口角度、(2)FFU出口風速、(3)FFU開放數量、(4)作業員工作狀態、(5)FFU與機台相對位置等五項參數，探討其對於無塵室氣流之影響，分析結果發現FFU進氣量及進氣位置與潔淨度控制有明顯之影響，但在At-Rest狀態下之分析結果，並不適用於加入作業員後之Operational狀態。
關鍵字：無塵室、FFU、At-Rest

Abstract
Because the production technology is developing continuously, the quality of production and precision is demanded rigor and rigor. Therefore, controlling the cleanliness is very important during the process of production. In order to make a better production environment, the cleanroom must be developed and set all kinds of standards to meet the required level of cleanroom for process and production requirement. The main purpose of cleanroom is to clean pollutants away from air. However, those pollutants are taken away by airflow. For this reason, this study was conducted to analyze the airflow in the specific cleanroom.
The aim of this study is to estimate the airflow characteristics in Class 1000 FFU cleanroom by numerical calculation. There are five kinds of parameters selected in the analysis, such as angle of the vents, air velocity of FFU, opening amount of FFU, working state of operators, revealed relative position between FFU and working machine, etc.
The analysis results revealed that the air velocity of FFU and relative position between FFU and working machine play critical roles in controlling the cleanroom. Taking a good control on these five parameters, the efficiency of cleanroom will be expected.

Keyword : cleanroom、FFU、At-Rest

誌謝　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　 i
中文摘要 ii
英文摘要 iii
目錄 iv
圖目錄 vi
表目錄 ix
符號說明 x
第一章 前言 1
1.1 無塵室簡介 1
1.2 無塵室之定義與測試 1
1.3 無塵室之氣流分類 5
1.4 無塵室氣流測試種類 8
1.5 氣流對無塵室測試之影響 10
第二章 研究動機、方法、目標 12
2.1 研究動機 12
2.2 研究方法 12
2.3 研究目標 13
第三章 文獻回顧　 　　　　　　　 14
3.1 無塵室之誕生 14
3.2 無塵室之研究進展 17
3.3 實際無塵室之設備及流程 25
3.3.1 前處理 26
3.3.2 壓膜 26
3.3.3 曝光 27
3.3.4 顯影、蝕刻、去膜 28
3.4 CFX模擬軟體及模擬介紹 28
3.4.1 CFX 簡介 28
3.4.2 前處理器 29
3.4.3 處理器 29
3.4.4 後處理器 30
3.4.5 CFX無塵室模擬模型之介紹 30
3.4.6 CFX模擬狀況 30
3.4.7 CFX之模擬結果 31
3.4.8 模擬軟體Airpak比CFX之優勢 32
3.5 回顧文獻後之結論 32
第四章 研究設備及潔淨理論模式 34
4.1 電腦模擬分析 34
4.2 模擬分析軟體-AIRPAK 34
4.3 建立空間模型 35
4.4 基本假設 36
4.5 設定環境參數 37
4.6 統御方程式 37
4.7 模擬氣流狀態 42
4.8 分析結果 42 4.9 實際無塵室區域微粒子量測值 43


第五章 分析結果及討論 46
5.1 實際測量與模擬分析之比較 46
5.2 氣流模擬分析結果 48
5.3 研究各項條件對於氣流之影響 53
5.3.1 回風口角度對流場變化之研究 53
5.3.2 FFU風速對流場變化之研究 57
5.3.3 FFU開放位置及數量分析 59
5.3.4 作業員分析 63
5.3.5 FFU與機台相對位置研究 67
5.3.6 分析結果討論及建議 72
第六章 結論與建議事項 74
6.1 結論 74
6.2 建議事項 75
參考文獻 77

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