第一章 參考文獻
〔1〕張立德、牟季美著，奈米材料和奈米結構，滄海書局出版，民國91年6月初版。
〔2〕張志誠，“奈米技術，全面報到”，就業情報，No.319., P43, 2002.
〔3〕Feynman, R.P., The Pleasure of Finding Things Out,“費曼的主張”，吳程遠等人譯，天下文化書坊，P155－190（2001）。
〔4〕呂宗昕著，奈米科技與光觸媒，商周出版，2003年10月13日初版。
〔5〕“奈米技術短波”，工業材料雜誌，第178期，民國90年10月，P70。
〔6〕馬振基主編，奈米材料科技原理與應用，全華科技圖書股份有限公司出版，民國92年12月初版一刷，P1-8－1-9。
〔7〕朱屯、王福明、王習東等編著，奈米材料技術，五南圖書出版股份有限公司出版，民國92年11月初版一刷，P23。
〔8〕甘明吉，“奈米尺寸碳材料之電子發射特性”，國立成功大學材料科學及工程研究所博士論文初稿，民國92年，P1－4。〔9〕Candescent Technologies Corporation, web site:http://www.candescent. com/
〔10〕W.A.D Heer, A Chatelain, and D. Ugarte, “A carbon nanotubes field-emission electron source,” Science, 270 (1995) 1179-80.
〔11〕M.C.Kan, J.L. Huang, J.C. Sung, and D.F. Lii, “Electron emission from nanotips of amorphous diamond,” J. Vac. Sci. Technol. B, 21 (2003) 1216-23.
〔12〕M.C.Kan, J.L. Huang, J.C. Sung, and D.F.Lii, “Field emission of microalumium cones coated by nano-tips amorphous diamond,” Diamond Rel. Mater., 12 (2003) 1610－14.
〔13〕S.Fan, M.G. Chapline, N.R. Franklin, T.W. Tombler, A.M. Cassell, and H.Dai, “Self-oriented regular arrays of carbon nanotubes and their field emission properties,” Science, 283 (1999) 512－14.
〔14〕Y.Nishibayashi, Y.Ando, H.Furuta, K.Kobashi, K.Meguro, T.Imai, T.Hirao, and K.Oura, “Various field emitters of single crystal diamond,” New Diamond and Frontier Carbon Technology, 13 (2003) 19－30.
〔15〕O.M.Kuttel, O.Groning, C.Emmenegger, L.Nilsson, E,Maillard, L.Diederich, and L.Schlapbach, “Field emission from diamond, diamond-like and nanostructured carbon films,” Carbon, 37 (1999) 745－52.
〔16〕J.M.Kim, W.B.Choi, N.S.Lee, J.E.Jung, “Field emission from carbon nanotubes for display,” Diamond Rel. Mater., 9 (2000) 1184－89.
〔17〕A. A. Talin, K. A. Dean, J. E. Jaskie, Solid－State Electronics, 45（2001）963－976.
〔18〕Suk Jae Chung, Sung Hoon Lim, Choong Hun Lee, Jin Jang, Diamond and Related Materials, 10 (2001) 248－253.
〔19〕Yih-Ming Shyu, Franklin Chau-Nan Hong, Diamond and Related Materials, 10 (2001) 1241－1245.
〔20〕Vladimir I. Merkulov et. al., Solid－State Electronics, 45（2001）949－956.
〔21〕Z. F. Ren et. al., Appled Physics Letter, Vol. 75, 8 (1999) 1086－1088.
〔22〕J. Li, C. Papadopoulos et. al., Appled Physics Letter, Vol. 75, 3 (1999) 367－369.
第二章 參考文獻
〔1〕T.W. Tomaszewski, Trans. Inst. Met. Finish., 54 (1976) 45.
〔2〕J.R. Roos, J.P. Celis and J.A.Helsen, Trans. Inst. Met. Finish., 55 (1977) 113.
〔3〕C. Buelens, J.P. Celis and J.R.Roos, J.Appl. Electrochem., 13 (1983) 541.
〔4〕Guanghong Lu, Xiaotian Li and Hancheng Jiang, Composites Sci. and Technol., 56 (1996) 193.
〔5〕C. Iwakura, N. Furukowa, M.Tanaka and S. Nakamatsu, ISE Meet., Montreux, August 1991, Abstract No. 3-05.
〔6〕V.D. Stankovic and M. Gojo, ISE Meet., Montreux, August 1991, Abstract No. 3-24.
〔7〕V.D. Stankovic, M. Gojo, Surf. And Coat. Technol., 81 (1996) 225.
〔8〕呂維明、戴怡德，粉粒體量測技術，高立圖書公司，P68-74 (1996).
〔9〕O. Stern, Z. Elelctrochemistry, Vo1. 30 (1924), pp.508
〔10〕J.S.Reed, Principles of Ceramics Processing, Second Edition, WILEY INTER. SCIENCE, Alfred, New York, 401 (1995).
〔11〕黃敬任，“鎳－鐵－二氧化鈦奈米粉末之複合鍍”，國立交通大學材料科學與工程研究所碩士論文，民國九十一年七月。〔12〕許鴻生，“鎳基納米級碳化矽粉末之複合電鍍”，國立交通大學材料科學與工程研究所碩士論文，民國八十八年七月。〔13〕趙承琛，界面科學基礎，復文書局出版，1996年16版發行。
〔14〕R.J.Hunter, Zeta Potential in Colloid Science：Principles and Applications, New York (1981).
〔15〕P.S.N, “Electrophoretic Deposition (EPD)：Mechanisms, Kinetics, and Application to Ceramics”, J.Am. Ceram. Soc., 79 (8) 1987-2002 (1996).
〔16〕鄧國欣，“粉體表面吸附有機界面活性劑對氧化鋁懸浮體之分散與流變行為的影響”，義守大學材料與工程學系碩士論文，民國九十年七月。〔17〕林俊良，“鈦酸鋧陶瓷粉體於乙醇－異丙醇混合液中之分散與流變行為研究”，中國文化大學材料科學與製造研究所碩士論文，民國九十一年六月。〔18〕吳俊賢，“水系氧化鋁懸浮液之酸鹼度對沉降、流變行為與電泳披覆影響之研究”，中國文化大學材料科學與製造研究所碩士論文，民國九十年六月。〔19〕同參考文獻〔13〕，P.51－60。
〔20〕徐開鴻，粉體工程特論課程講義，民國九十年十月。
〔21〕宋健民，鑽石合成，民國八十九年七月。
〔22〕Ian D. Morrison, Sydney Ross, Colloidal Dispersions：Suspensions, Emulsions, and Foams, Wiley-InterScience, New York, 2002.
〔23〕陳建民，“鑽石線鋸切割碳化矽與氧化鋁陶瓷材料之特性研究”，國立清華大學動力機械工程研究所碩士論文，民國九十二年六月三十日。〔24〕Jacqueline Krim, “Friction at the Atomic Scale”, Sci. Am., October 1996, P.78
〔25〕同參考文獻〔24〕，P.80
〔26〕V. Ramakrishnan, Pradip, S.G. Malghan, “Yield Stress of Alumian－Zirconia Suspensions”, J. Am. Ceram. Soc., 79, 2567-76 (1996).
〔27〕M.N. Rahaman, “Science of Colloidal Processing in Ceramic Processing and Sintering”, Marcel Dekker, New York, 146-200 (1995).
〔28〕H.A. Barnes, J.F. Hutton, and K. Walters, An Introduction to Rheology, Elsevier, Amersterdam, 1989.
〔29〕盧晏君，“去離子水中碳化矽奈米粉末帶電性研究”，國立台北科技大學製造科技研究所碩士論文，民國九十一年六月。〔30〕吳習之，“鎳與碳化矽在瓦氏浴的複合電鍍研究”，國立成功大學化學工程研究所碩士論文，民國七十九年六月。〔31〕成雲遠，“鎳與二硫化鈅自潤滑性複合電鍍研究”，中正理工學院應用化學研究所碩士論文，民國八十五年五月三十日。〔32〕謝培煥，“鎳－氧化鋁複合鍍電鍍行為對鍍層性質之影響”國立成功大學化學工程研究所碩士論文，民國九十一年六月。〔33〕江禎斌，“鈣硼矽玻璃陶瓷粉末在水系漿料中的分散行為及溶解動力學研究”，國立清華大學材料科學工程所碩士論文，民國八十九年七月。〔34〕鐘超群，“Aqueous Electrophoretic Deposition of Alumina and Zirconia”，國立東華大學材料工程研究所碩士論文，〔35〕Daniel J. Shanefield, Organic Additives and Ceramic Processing：With Applications in Powder Metallurgy, Ink, and Paint, Kluwer Academic Publishers, 2nd ed. 1996.
〔36〕Richard E. Mistler and Eric R. Twiname, Tape Casting：Theory and Practice, American Ceramic Society, 735 Ceramic Place, Westerville, OH 43801, 2000.
〔37〕宋健民，“PVD鑽石的應用”，超硬材料，民國八十九年七月。
〔38〕彭國光，“微波電漿化學氣相沉積法之鑽石薄膜的成長與特性研究”，國立清華大學材料科學與工程研究所博士論文，民國九十一年七月。〔39〕林佳明，“氮硼共摻及熱處理對鑽石薄膜場發射特性的影響”，國立清華大學材料科學與工程研究所碩士論文，民國九十年七月。〔40〕同參考文獻〔21〕，P.2－6。
〔41〕S. Ray, A.R. Middya and A.K. Barua, Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993).
〔42〕宋健民，“鑽石的熱生電及電吸熱效應：尖端奈米科技的奇蹟”，物理雙月刊，廿四卷四期，2002年8月，P.591－594。〔43〕Kroto HW, Heath JR, Brien SCO, etal., Nature, 1985, 318：162.
〔44〕Krastschmer W, Lamb LD, Fortiropoulos K, etal., Nature, 1990, 347：354.
〔45〕T.G. Sxhmalz, Chem. Phys. Lett., 130, P203 (1986).
〔46〕G.E. Gadd and P.J. Evans etal., Fullerene Science and Technology, V.7, P1043－1143 (1999).
〔47〕程光煦，拉布里散射──原理及應用，科學出版社出版，2001年3月，P.315－347.
〔48〕Iijima S., Nature, 56 (1991) 354.
〔49〕M. Terrones etal., MRS Bull., Aug 43 (1999).
〔50〕R.S. Smalley and B.I. Yakobson, Solid State, V.11 (1998) 107.
〔51〕成會明，奈米碳管，五南圖書出版股份有限公司出版，2004年2月初版一刷。
〔52〕Gibson JAE., Nature, 359 (1992) 369.
〔53〕Mintmire JW, Dunlap BI, White CT, Phys. Rev. Lett., 68 (1992) 631.
〔54〕Dresselhaus MS, Dresselhaus G, Saito R, Phys. Rev. B., 45 (1992) 6234.
〔55〕C. Liu, H.T. Cong, F. Li et al., Carbon, 37 (1999) 1865.
〔56〕M. Yudasaka, T. Komatsu, T. Ichihashi et al., Chem. Phys. Lett., 278 (1997) 102.
〔57〕H.M. Cheng, F. Li, G. Su et al., Appl. Phys. Lett. 72 (1998) 3282.
〔58〕同第一章參考文獻〔6〕，P1－3。
〔59〕同第一章參考文獻〔4〕。
〔60〕A.A. Kalachev, “Industrial Nanopowders－The Way Towards New Materials And Applications”, 奈米級超微粒粉末之製程與應用發表論文集, P.23－63, 中華民國台北市華立企業暨國立台灣大學應用力學研究所共同舉辦, 1996.
〔61〕鄭岳世，“奈米級粉末的性質量測與複合鍍之應用”，國立台灣大學應用力學研究所碩士論文，民國八十六年六月。〔62〕董允等編著，現代表面工程技術，機械工業出版社出版，2001年8月1版2刷。
〔63〕D.R. Brown and F.W. Salt, Journal of Applied Electrochemistry, ( Jan. 1965 ) 40.
〔64〕R.V. Williams, Metal Finishing Journal, Oct., (1965) 399.
〔65〕P.W. Martin, Electroplating and Metal Finishing, (1966) 92.
〔66〕E.A. Brandes and D. Goldthrope, Metallutgia., Nov., (1967) 195.
〔67〕H. Matsuda, Y. Kiyono, M. Nishira, and O. Tankano, Trans. IMF, 72, 55 (1994).
〔68〕P. Sarkar and P.S. Nicholson, Journal of the American Ceramic Society, Vol. 79 (1996), No. 8, P.1987－2002.
〔69〕N. Guglielimi, J. Electrochem. Soc., 119, 8. P.1009－1012 (1972).
〔70〕K. Kurozaki, J.Jpn. Inst. Metals, (1979) 10.
〔71〕J. Fransaer, J.P. Celis and J.R. Roos, “Analysis of the Electrolytic Codeposition of Non-Brownian Particles with Metals”, Journal of the Electrochemical Society, 139 (1992) 413.
〔72〕J.P. Celis, J.R. Roos, C. Buelens and J. Fransear, “Mechanism of electrolytic composite plating：survey and trend”, Transactions of the Institute of Metal Finishing, 69, 4 (1991) 133.
〔73〕J.P. Celis and J. Fransear, “Composite coatings－new insight leading to improved process control”, Transactions of the Institute of Metal Finishing, 75, 3 (1997) 118.
〔74〕增子昇，虫明克彥，“Deposition kinetics of alumina particle during electroplating of nickel－alumina composites”, 金屬表面技術, 31, 10, (1980) 541.
〔75〕增子昇，虫明克彥，“分散型複合電析”, Denki kagaku, 53, 1, (1985) 45.
〔76〕Frederick A. Lowenheim, Modern Electroplating, John Wiley & Sons, Inc, 2nd Edition, P.714－730 (1968).
〔77〕邵建榮，“多孔陶瓷基材之水系電泳沉積研究”，國立東華大學材料科學與工程研究所碩士論文，民國九十二年七月。〔78〕鄭紳江，“硼引發物理化學效應之人工石墨應用研究”，國立台灣大學材料科學與工程學研究所，民國九十二年七月。第四章 參考文獻
〔1〕同第一章參考文獻〔8〕，P.53.
〔2〕洪新欽，“以R.F.－PVD製作二極與三極式奈米類鑽膜陣列之場效電性之研究”，國立台北科技大學機電整合研究所碩士學位論文，民國九十一年六月。〔3〕薛泓岳，“具特殊物理化學性質之高質化石墨材料的應用研究”，國立台灣大學材料科學與工程學研究所碩士學位論文，民國九十一年六月，P.103.〔4〕鄭紳江，“硼引發物理化學效應之人工石墨應用研究”，國立台灣大學材料科學與工程學研究所碩士學位論文，民國九十二年七月，P.80.
〔5〕阮彥凱，“製程參數對直流濺鍍複合電子迴旋共振系統沈積類鑽碳膜之研究”，國立成功大學材料科學與工程研究所碩士學位論文，民國九十一年六月，P.25－32.〔6〕同第一章參考文獻〔8〕，P.57-58.
〔7〕陳偉斯，“滲硼之化學氣相沉積鑽石的拉曼光譜分析”，國立中山大學物理研究所碩士學位論文，民國九十二年7月，P.55.〔8〕同第一章參考文獻〔1〕，P.129－130.
〔9〕蔡佳倫，“新穎碳基奈米材料在場發射應用上的合成與改良”，國立交通大學材料科學與工程研究所博士論文初稿，民國九十二年，P.57－77.〔10〕A. A. Talin, K. A. Dean, J. E. Jaskie, Solid－State Electronics, 45（2001）963－976.
〔11〕Suk Jae Chung, Sung Hoon Lim, Choong Hun Lee, Jin Jang, Diamond and Related Materials, 10 (2001) 248－253.
〔12〕Yih-Ming Shyu, Franklin Chau-Nan Hong, Diamond and Related Materials, 10 (2001) 1241－1245.
〔13〕Vladimir I. Merkulov et. al., Solid－State Electronics, 45（2001）949－956.
〔14〕Z. F. Ren et. al., Appled Physics Letter, Vol. 75, 8 (1999) 1086－1088.
〔15〕J. Li, C. Papadopoulos et. al., Appled Physics Letter, Vol. 75, 3 (1999) 367－369.
第五章 參考文獻
〔1〕同第一章參考文獻〔1〕，P.129－130
第六章 參考文獻
〔1〕D.A. Porter and K.E. Easterling，”Phase Transformations in Metals and Alloys”，Van Nostrand Reinhold（UK），1984 Reprinted.
〔2〕Robert E. Reed－Hill，Physical Metallurgy Principles，PWS Publish Company，Boston，3rd ed.（1994）
〔3〕B.S. Satyanarayana, A. Hart, W.I. Mline, J. Robertson, Appl. Phys. Lett. 71 1997 1430.
〔4〕J.B. Cui, M. Stammler, J. Ristein, L. Ley, J. Appl. Phys. 88. （2000）3667.
〔5〕F.J. Himpsel, J.A. Knapp, J.A. Van Vechten, D.E. Eastman, Phys. Rev. B 20（2）（1979） 624.
〔6〕A.V. Karabuto et al., Diamond and Relat. Mater. 10 （2001）840.
〔7〕A. Watanabe et al., Ultramicroscopy 95 (2003) 145.