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臺灣博碩士論文加值系統

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研究生:邱祺雄
研究生(外文):Chi-Hsiung Chiu
論文名稱:氯化鉀在矽(100)晶面上的原子結構
論文名稱(外文):The structure of KCl on the Si(100) surface
指導教授:林登松林登松引用關係
指導教授(外文):Deng-Sung Lin
學位類別:碩士
校院名稱:國立交通大學
系所名稱:物理研究所
學門:自然科學學門
學類:物理學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2005
畢業學年度:93
語文別:中文
論文頁數:54
中文關鍵詞:氯化鉀掃描穿遂顯微鏡
外文關鍵詞:KClSTM
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本文主要是研究氯化鉀薄層在Si(100)-2�e1上的原子結構。有別於以往文獻中直接蒸鍍離子固體到樣品表面上的方法;我們的實驗方法是分別吸附氯和鉀原子到矽(100)表面上,可以藉此觀察氯化鉀在矽(100)表面上的成長機制並得到單層的氯化鉀薄層於矽(100)表面上的原子結構。由掃描取得的STM影像我們得知:

(a).在Si(100)-2�e1:Cl表面上蒸鍍鉀,鉀原子會在表面上移動,在表面能量降低的狀態下逐漸的與氯鍵結形成氯化鉀薄層,並慢慢擴大薄層的面積。
(b).成長的模式是以單層氯化鉀薄層的方式成長。
(c).由STM影像中我們可以推論氯化鉀在矽晶面上為2�e2的原子結構,晶格常數上的差異使得氯化鉀的原子結構有所不同。
(d).偶極距方向為平行樣品表面的方向。
(e).我們交換原子吸附到矽(100)表面上的順序,一樣能夠得到相似的氯化鉀薄層之原子結構
(f).在本實驗室過去對氯化鉀在矽晶面上使用XPS的研究結果得知氯化鉀與矽之介面沒有電子轉移現象,而為類似地毯附著在表面。
[1] 楊正成 國立交通大學物理研究所碩士論文 (2001).
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