|
1. Y. Irokawa, J. Kim, F. Ren, K. H. Baik, B. P. Gila, C. R. Abernathy, S. J. Pearton, C. C. Pan, G. T. Chen, and J. I. Chyi, Appl. Phys. Lett. 83, 4987 (2003). 2. J. K. Sheu, M. L. Lee, L. S. Yeh, C. J. Kao, C. J. Tun, M. G. Chen, G. C. Chi, S. J. Chang, Y. K. Su, and C. T. Lee, Appl. Phys. Lett. 81, 4263 (2002). 3. J. K. Sheu, C. J. Pan, G. C. Chi, C. H. Kuo, L. W. Wu, C. H. Chen, S. J. Chang, and Y. K. Su, IEEE Photon. Technol. Lett. 14, 450 (2002). 4. J. C. Zolper, R. J. Shul, A. G. Baca, R. G. Wilson, S. J. Pearton, and R. A. Stall, Appl. Phys. Lett. 68, 2273 (1996). 5. J. K. Sheu and G. C. Chi, J. Phys. Condens. Matter 14, R657 (2002). 6. S. J. Pearton, J. C. Zolper, R. J. Sheu, and F. Ren, J. Appl. Phys. 86, 1 (1999). 7. J. K. Sheu, M. L. Lee, C. J. Tun, C. J. Kao, L. S. Yeh, S. J. Chang, and G. C. Chi, IEEE J. Select. Topics. Quantum Electron. 8, 767 (2002). 8. J. K. Sheu, C. J. Tun, M. S. Tsai, C. C. Lee, G. C. Chi, S. J. Chang, and Y. K. Su, J. Appl. Phys. 91, 1845 (2002). 9. C. F. Lin, C. H. Cheng, G. C. Chi, C. J. Bu, and M. S. Feng, Appl. Phys. Lett. 76, 1878 (2000). 10. Y. Chen, D. M. Bagnall, H. J. Koh, K. T. Park, K. Hiraga, Z. Zhu, and T. Yao, J. Appl. Phys. 84, 3912 (1998). 11. D. M. Bagnall, Y. F. Chen, Z. Zhu, T. Yao, M. Y. Shen, and T. Goto, Appl. Phys. Lett. 73, 1038 (1998). 12. D. C. Look, Mater. Sci. Eng. B 80, 383 (2001). 13. D. C. Look, D. C. Reynolds, C. W. Litton, R. L. Jones, D. B. Eason, and G. Cantwell, Appl. Phys. Lett. 81, 1830 (2002). 14. D. M. Bagnall, Y. F. Chen, Z. Zhu, T. Yao, S. Koyama, M. Y. Shen, and T. Goto, Appl. Phys. Lett. 70, 2230 (1997). 15. Ohtomo, M. Kawasaki, Y. Sakurai, Y. Yoshida, H. Koinuma, P. Yu, Z. Tang, G. Wong, and Y. Segawa, Mater. Sci. Eng. B 54, 24 (1998). 16. C. J. Pan, C. W. Tu, J. J. Song, G. Cantwell, C. C. Lee, B. J. Pong, and G. C. Chi, Proc. SPIE 5722, 410 (2005). 17. K. Minegishi, Y. Koiwai, Y. Kikuchi, K. Yano, M. Kasuga, and A. Shimizu, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 36, L1453 (1997). 18. K. Ogata, T. Kawanishi, K. Maejima, K. Sakurai, Sz. Fujita, and Sg. Fujita, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 40, L657 (2001). 19. S. F. Chichibu, T. Yoshida, T. Onuma, and H. Nakanishi, J. Appl. Phys. 91, 874 (2002). 20. Y. Chen, D. Bagnall, and T. Yao, Mater. Sci. Eng. B 75, 190 (2000). 21. S. J. Pearton, D. P. Norton, K. Ip, Y. W. Heo, and T. Steiner, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 932 (2004). 22. H. P. Maruska and J. J. Tietjen, Appl. Phys. Lett. 15, 327 (1969). 23. C. J. Pan, G. C. Chi, B. J. Pong, J. K. Sheu, and J. Y. Chen, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 1727 (2004). 24. C. J. Pan, C. W. Tu, J. J. Song, G. Cantwell, C. C. Lee, B. J. Pong, and G. C. Chi, accepted by J. Cryst. Growth. 25. C. J. Pan, W. M. Wang, C. W. Tu, C. J. Tun, and G. C. Chi, submitted to Mater. Chem. Phys.
|