|
1. Nobel e-Museum web: http://www.nobel.se/chemistry/laureates/2000/ 2. 陳壽安,物理雙月刊 第二十三卷二期,312 (2001). 3. A. Tsumura, H. Koezuka, and T. Ando, Appl. Phys. Lett. 49, 1210 (1986). 4. Z. Bao, A. Dodabalapur, and A. J. Lovinger, Appl. Phys. Lett. 69, 4108 (1996). 5. P. W. M. Blom, M. J. M. de Jong, and M. G. van Munster, Phys. Rev. B 55, R656 (1997). 6. M. Zhu, T. Cui, and K. Varahramyan, Microelectron. Eng. 75, 269 (2004). 7. G. Wang, J. Swensen, D. Moses, and A. J. Heeger, J. Appl. Phys. 93, 6137 (2003). 8. D. McBranch, I. H. Campbell, D. L. Smith, and J. P. Ferraris, Appl. Phys. Lett. 66, 1175 (1995). 9. C. Y. Yang, F. Hide, M. A. Diaz-Garcia, A. J. Heeger, and Y. Cao, Polymer 39, 2299 (1998). 10. K. L. Tzeng, H. F. Meng, M. F. Tzeng, Y. S. Chen, C. H. Liu, S. F. Horng, S. M. Chang, C. S. Hsu, and C. C. Chi, Appl. Phys. Lett. 84, 619 (2004). 11. H. Campbell, P. S. Davids, D. L. Smith, N. N. Barashkov, and J. P. Ferraris, Appl. Phys. Lett. 72, 1863 (1998). 12. D. Braun and A. J. Heeger, Appl. Phys. Lett. 58, 1982 (1991). 13. M. Tammer and A. P. Monkman, Adv. Mater. 14, 210 (2002). 14. A. Ltaief, A. Bouazizi, J. Davenas, R. B. Chaabane, and H. B. Ouada, Synth. Met. 147, 261 (2004). 15. R. J. O. M. Hoofman, M. P. de Haas, L. D. A. Siebbeles, and J. M. Warman, Nature 392, 54 (1998). 16. J. H. Burroughes, D. D. C. Bradley, A. R. Brown, R. N. Marks, K. Mackay, R. H. Friend, P. L. Burns, and A. B. Holmes, Nature 347, 539 (1990). 17. J. Kalinowski, J. Phys. D: Appl. Phys. 32, R179 (1999). 18. F. Huang, L. Hou, H. Wu, X. Wang, H. Shen, W. Cao, W. Yang, and Y. Cao, J. Am. Chem. Soc. 126, 9845 (2004). 19. H. Yan, B. J. Scott, Q. Huang, and T. J. Marks, Adv. Mater. 16, 1948 (2004). 20. C. J. Hung, J. Mater. Sci. Lett. 22, 1423 (2003). 21. J. Kim, J. Lee, C. W. Han, N. Y. Lee, and I.-J. Chung, Appl. Phys. Lett. 82, 4328 (2003). 22. A. Dodabalapur, L. Torsi, and H. E. Katz, Science 268, 270 (1995). 23. D. Kinpp, R. A. Street, A. Volkel, and J. Ho, J. Appl. Phys. 93, 347 (2003). 24. Z. L. Li, S. C. Yang, H. F. Meng, Y. S. Chen, Y. Z. Yang, C. H. Liu, S. F. Horng, C. S. Hsu, L. C. Chen, J. P. Hu, and R. H. Lee, Appl. Phys. Lett. 84, 3558 (2004). 25. Y. H. Kim, S. K. Park, D. G. Moon, W. K. Kim, and J. I. Han, Jpn. J. Appl. Phys. 43, 3605 (2004). 26. H. Sirringhaus, N. Tessler, and R. H. Friend, Science 280, 1741 (1998). 27. T. G. Backlund, H. G. O. Sandberg, R. Osterbacka, H. Stubb, T. Makela, and S. Jussila, Synth. Met. 148, 87 (2005). 28. Y. Xu and P. R. Berger, J. Appl. Phys. 95, 1497 (2004). 29. M. M.-Torrent, D. den Boer, M. Durkut, P. Hadley, and A. P. H. J. Schenning, Nanotechnology 15, S265 (2004). 30. M. D. Austin and S. Y. Chou, Appl. Phys. Lett. 81, 4431 (2002). 31. H. Yanagi and Y. Kawai, Jpn. J. Appl. Phys. 43, L1575 (2004). 32. S. Scheinert, T. Doll, A. Scherer, G. Paasch, and I. Horselmann, Appl. Phys. Lett. 84, 4427 (2004). 33. Y. Chen, W. W. Zhu, S. Xiao, and I. Shin, J. Vac. Sci. Technol. A 22, 768 (2004). 34. C. D. Dimitrakopoulos and P. R. L. Malenfant, Adv. Mater. 14, 99 (2002). 35. T. Sakanoue, E. Fujiwara, R. Yamada, and H. Tada, Appl. Phys. Lett. 84, 3037 (2004). 36. M. Ahles, A. Hepp, R. Schmechel, and H. von Seggern, Appl. Phys. Lett. 84, 428 (2004). 37. I. Tanahashi, A. Yoshida, and A. Nishino, J. Electrochem. Soc. 137, 3052 (1990). 38. A. Rudge, J. Davey, I. Raistrick, S. Gottesfeld, and J. P. Ferraris, J. Power Sources 47, 89 (1994). 39. H. Shi, Electrochim. Acta 41, 1633 (1996). 40. A. Lewandowski, M. Zajder, E. Frackowiak, and F. Beguin, Electrochim. Acta 46, 2777 (2001). 41. W.-C. Chen, T.-C. Wen, and H. Teng, Electrochim. Acta 48, 641 (2003). 42. W.-C. Chen and T.-C. Wen, J. Power Sources 117, 273 (2003). 43. R. Kotz, M. Carlen, Electrochim. Acta 45, 2483 (2000). 44. S. C. Jain, T. Aernout, A. K. Kapoor, V. Kumar, W. Geens, J.Poortmans, and R. Mertens, Synth. Met. 148, 245 (2005). 45. Y. Sakurai, H.-S. Jung, T. Shimanouchi, T. Inoguchi, S. Morita, R. Kuboi, K. Natsukawa, Sens. Actuators B 83, 270 (2002). 46. M. Atreya, S. Li, E. T. Kang, K. G. Neoh, Z. H. Ma, K. L. Tan, and W. Huang, Polym. Degrad. Stab. 65, 287 (1999). 47. K. Tada and M. Onoda, J. Appl. Phys. 86, 3134 (1999). 48. I. D. Parker, J. Appl. Phys. 75, 1656 (1994). 49. P. W. M. Blom, M. J. M. de Jong, and J. J. M. Vleggaar, Appl. Phys. Lett. 68, 3308 (1996). 50. J. C. Scott, P. J. Brock, J. R. Salem, S. Ramos, G. G. Malliaras, S. A. Carter, and L. Bozano, Synth. Met. 111�{112, 289 (2000). 51. D. J. Pinner, R. H. Friend, and N. Tessler, J. Appl. Phys. 86, 5116 (1999). 52. Y. He and J. Kanicki, Appl. Phys. Lett. 76, 661 (2000). 53. A. Rose, Phys. Rev. 97, 1538 (1955). 54. H. C. F. Martens, J. N. Huiberts, P. W. M. Blom, Appl. Phys. Lett. 77, 1852 (2000). 55. P. W. M. Blom, H. C. F. Martens, J. N. Huiberts, Synth. Met. 121, 1621 (2001). 56. K. C. Kao and W. Hwang, Electrical Transport in Solids (1981). 57. A. J. Campbell, D. D. C. Bradley, and D. G. Lidzey, J. Appl. Phys. 82, 6326 (1997). 58. D. Chirvase, Z. Chiguvare, M. Knipper, J. Parisi, V. Dyakonov, and J. C. Hummelen, Synth. Met. 138, 299 (2003). 59. H.-N. Lin, H.-L. Lin, S.-S. Wang, L.-S. Yu, G.-Y. Perng, S.-A. Chen, and S.-H. Chen, Appl. Phys. Lett. 81, 2572 (2002). 60. M. Gailberger and H. Bassler, Phys. Rev. B 44, 8643 (1991). 61. C. H. Tan, A. R. Inigo, W. Fann, P.-K. Wei, G.-Y. Perng, and S.-A. Chen, Org. Electron. 3, 81 (2002). 62. L. Bozano, S. A. Carter, J. C. Scott, G. G. Malliaras, and P. J. Brock, Appl. Phys. Lett. 74, 1132 (1999). 63. H. Bassler, Phys. Stat. Sol. (b) 175, 15 (1993). 64. Y. N. Gartstein and E. M. Conwell, Chem. Phys. Lett. 245, 351 (1995). 65. S. V. Rakhmanova and E. M. Conwell, Synth. Met. 116, 389 (2001). 66. 林鶴南、李龍正、劉克迅,科儀新知 第十七卷三期,12 (1995). 67. H.-N. Lin, S.-H. Chen, S.-T. Ho, P.-R. Chen, and I-N. Lin, J. Vac. Sci.Technol. B 21, 916 (2003). 68. S.-T. Ho, Y.-H. Chang, and H.-N. Lin, J. Appl. Phys. 96, 3562 (2004). 69. H.-N. Lin, Y. H. Chiou, B.-M. Chen, H.-P. D. Shieh, and C.-R. Chang, J. Appl. Phys. 83, 4997 (1998). 70. R. Buzio, C. Boragno, and U. Valbusa, Wear 254, 981 (2003). 71. Z. Wei, C. Wang, and C. Bai, Langmuir 17, 3945 (2001). 72. M. Cavallini, M. Facchini, M. Massi, and F. Biscarini, Synth. Met. 146, 283 (2004). 73. K. W. Guarini, C. T. Black, Y. Zhang, H. Kim, E. M. Sikorski, and I. V. Babich, J. Vac. Sci. Technol. B 20, 2788 (2002). 74. P. B. Fischer and S. Y. Chou, Appl. Phys. Lett. 62, 2989 (1993). 75. P. Ruchhoeft, J. C. Wolfe, and R. Bass, J. Vac. Sci. Technol. B 19, 2529 (2001). 76. S. Y. Chou, P. R. Krauss, and P. J. Renstrom, Appl. Phys. Lett. 67, 3114 (1995). 77. M. A. McCord and R. F. W. Pease, J. Vac. Sci. Technol. B 6, 293 (1988). 78. Q. Li, J. Zheng, and Z. Liu, Langmuir 19, 166 (2003). 79. J.-H. Hsu, H.-W. Lai, H.-N. Lin, C.-C. Chuang, and J.-H. Huang, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 2599 (2003). 80. R. Magno and B. R. Bennett, Appl. Phys. Lett. 70, 1855 (1997). 81. Y. Kim and C. M. Lieber, Science 257, 375 (1992). 82. J.-H. Hsu, C.-Y. Lin, and H.-N. Lin, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 2768 (2004). 83. A. Notargiacomo, V. Foglietti, E. Cianci, G. Capellini, M. Adami, R. Faraci, F. Evangelisti, and C. Nicolini, Nanotechnology 10, 458 (1999). 84. E. Dubois and J.-L. Bubbendorff, Solid-State Electron. 43, 1085 (1999). 85. A. Majumdar, P. I. Oden, J. P. Carrejo, L. A. Nagahara, J. J. Graham, and J. Alexander, Appl. Phys. Lett. 61, 2293 (1992). 86. M. Ara, H. Graaf, and H. Tada, Appl. Phys. Lett. 80, 2565 (2002). 87. M. Wendel, S. Kuhn, H. Lorenz, J. P. Kotthaus, and M. Holland, Appl. Phys. Lett. 65, 1775 (1994). 88. V. Bouchiat and D. Esteve, Appl. Phys. Lett. 69, 3098 (1996). 89. H. Sirringhaus, P. J. Brown, R. H. Friend, M. M. Nielsen, K. Bechgaard, B. M. W. Langeveld-Voss, A. J. H. Spiering, R. A. J. Janssen, E. W. Meijer, P. Herwig, and D. M. de Leeuw, Nature 401, 685 (1999). 90. N. S. Murthy and H. Minor, Polymer 31, 996 (1990). 91. S. Roth, One-Dimensional Metals; VCH: Weinheim, (1995).
|