跳到主要內容

臺灣博碩士論文加值系統

(18.97.9.169) 您好!臺灣時間:2025/02/18 21:54
字體大小: 字級放大   字級縮小   預設字形  
回查詢結果 :::

詳目顯示

: 
twitterline
研究生:陳怡珍
論文名稱:動態漂移模型下DoubleEWMA控制器之穩定性研究
論文名稱(外文):The Stability Analysis of Double EWMA Controller under a Drifted, Dynamic Model
指導教授:曾勝滄曾勝滄引用關係
學位類別:碩士
校院名稱:國立清華大學
系所名稱:統計學研究所
學門:數學及統計學門
學類:統計學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2005
畢業學年度:93
語文別:中文
論文頁數:37
中文關鍵詞:批次控制動態模型製程干擾Single EWMA 控制器穩定條件折扣因子
相關次數:
  • 被引用被引用:4
  • 點閱點閱:194
  • 評分評分:
  • 下載下載:30
  • 收藏至我的研究室書目清單書目收藏:0
批次控制是針對IC製程特殊的生產型態所發展出來之製程回饋控制工具,由於IC製程的投入變數可調整範圍通常很窄,因此製程之投入-產出模型大多用一靜態 (static) 線性模型來描述之。然而,實際製程之投入-產出大多為動態 (dynamic) 系統,因此,使用double EWMA控制器來微調動態漂移系統是否可確保製程穩定收斂是十分重要之研究課題。在兩種最常見的動態模型之假設下,考慮製程發生老化現象,本文將分別探討 double EWMA控制器的穩定條件,以及可確保製程穩定收斂的機率高於給定之機率值的最適樣本數。由本文可知,在一般常見的製程干擾下,採用double EWMA控制器來微調製程,均可找到合適的折扣因子來確保製程穩定收斂。
目錄

第一章 簡介 1
1.1 前言 1
1.2 批次控制簡介 2
1.3 研究目的 4
1.4 研究架構 5

第二章 動態模型之批次控制文獻回顧與問題描述 8
2.1 動態模型¬-線性轉換函數 8
2.2 動態模型下的Single EWMA控制器 10
2.3 在SISO系統有漂移的情況下,最適樣本數的決定 12
2.4 問題描述 13

第三章 動態漂移模型下的Double EWMA控制器 14
3.1 Double EWMA控制器在動態漂移模型(I)下之表現 14
3.1.1 製程產出及其穩定條件 14
3.1.2 確保製程穩定的最小樣本數 20
3.1.3 特定折扣因子下最小樣本數之決定 22
3.1.4 敏感度分析 23
3.2 Double EWMA控制器在動態漂移模型(II)下之表現 25
3.2.1 製程產出及其穩定條件 25
3.2.2 確保製程穩定的最小樣本數 29
3.2.3 特定折扣因子下最小樣本數之決定 30

第四章 結論與後續研究 33

附錄一 引理3.1一之證明 34
附錄二 Jury’s Test for Stability of a Polynomial 35
附錄三 引理3.2之證明 36
參考文獻 37

圖目錄

圖1.1 EPC與SPC兩種製程監控方法 6
圖1.2 批次控制流程圖 7
圖1.3 簡易回饋控制流程圖 4
圖2.1 製程的I-O模型 8
圖3.1 Double EWMA製程控制流程圖 15
圖3.2 製程產出表現,
17
圖3.3 製程產出表現,
18
圖3.4 的可行解區域
18
圖3.5 全域折扣因子的參數關係 19
圖3.6 全域折扣因子的樣本數 21
圖3.7 限定條件下的樣本數 22
圖3.8 折扣因子不受限制下的敏感度分析 24
圖3.9 折扣因子在限定範圍下的敏感度分析 24
圖3.10 製程 之產出表現,
26
圖3.11 製程 之產出表現,
27
圖3.12 的可行解區域
27
圖3.13 全域折扣因子的參數關係 28
圖3.14 全域折扣因子的樣本數 29
圖3.15 限定條件下的樣本數 30

表目錄

表3.1 各種不同 情況下,確保製程達到穩定條件的機率為 之最適樣本數, 。
31
表3.2 各種不同 情況下,確保製程達到穩定條件的機率為 之最適樣本數, 。
32
參考文獻

[1] Box, G. E. P., Jenkins, G. M. and Reinsel, G. C. (1994). Time Series Analysis, Forcasting, and Control, 3rd ed., Prentice Hall, Englewood Cliffs, NJ.
[2] Bulter, S.W. and Stefani, J. A. (1994). “Supervisory Run-to-Run Control of a Polysilicon Gate Etch using in Situ Ellipsometry.” IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, 7, pp. 193-201.
[3] Del Castillo, E., and Hurwitz, A. (1997). “Run-to-Run Process Control: Literature Review and Extensions.” Journal of Quality Technology, 29, pp. 184-196.
[4] Del Castillo, E., (1999). “Long Run and Transient Analysis of a Double EWMA Feedback Controller.” IIE Transactions, 31, pp. 1157-1169.
[5] Del Castillo, E. (2002). Statistical Process Adjustment for Quality Control, John Wiley & Sons Inc., New York.
[6] Ingolfsson, A. and Sachs, E. (1993). “Stability and Sensitivity of an EWMA Controller.” Journal of Quality Technology, 25, pp. 271-287.
[7] Tseng, S. T., Chou, R.J. and Lee, S. P. (2002). “Statistical Design of Double EWMA controller.” Applied Stochastic Models in Business and Industry, 18, pp. 313-322.
[8] Tseng, S. T. and Hsu, N. J. (2005). “Sample-Size Determination for Achieving Asymptotic Stability of a Double EWMA Control Scheme.” IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, 18, pp. 104-111.
[9] 林資程 (2004) “Single EWMA控制器在動態模型下之績效分析”。國立清華大學統計學研究所碩士論文。
[10] 莊達人 (1996), VLSI製造技術,第三版,高立圖書有限公司。
QRCODE
 
 
 
 
 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                               
第一頁 上一頁 下一頁 最後一頁 top