|
References(Chapter 1)
1.M. G. Bawendi, M. L. Steigerwald, and L. E. Brus, Annu. Rev. Phys Chem. 41, 477 (1990). 2.J. R. Heath, Science, 270, 1315 (1995). 3.J. Tittel, W. Gohde, F. Koberling, T. Basche, A. Kornowski, H. Weller, and A. Eychmuller, J. Phys. Chem. B 101, 3013 (1997). 4.W. Z. Lee, G. W. Shu, J. C. Wang, J. L. Shen, C. A. Lin, W. H. Chang, R. C. Ruaan, W. C. Chou, C. H. Lu, and Y. C. Lee, Nanotechnology 16, 1 (2005). 5.L. Brus, Appl. Phys. Lett. 53, 465 (1991). 6.C. P. Collier, T. Vossmeyer, and J. R. Heath Annu. Rev. Phys Chem. 49, 371 (1998). 7.M. Bruchez, Jr., M. Moronne, P. Gin, S. Weiss, and A. P. Alivisatos, Science 281, 2013 (1998). 8.K. Sungjee, F. Brent, E. H. Jürgen, and B. Moungi, J. Am. Chem. Soc. 125, 11466 (2003). 9.A. R. Kortan, R. Hull, R. L. Opila, M. G. Bawendi, M. L. Steigerwald, P. J. Carroll, and L. E. Brus, J. Am. Chem. Soc. 112, 1327 (1990). 10.S. T. Lee, J. Haetty, and A. Petrou, Phys. Rev. B 53, 12912 (1996). 11.M. Larsson, A. Elfving, P. O. Holtz, G. V. Hansson, and W. X. Ni, Appl. Phys. Lett. 82, 4785 (2003). 12.Y. S. Chiu, M. H. Ya, W. S. Su, and Y. F. Chen, J. Appl. Phys. 92, 5810 (2002).
References(Chapter 2)
1.L. E. Brus, J. Chem. Phys. 80, 4403 (1984). 2.U. E. H. Laheld, F. B. Pedersen, and P. C. Hemmer, Phys. Rev. B 48, 4659 (1993). 3.U. E. H. Laheld, F. B. Pedersen, and P. C. Hemmer, Phys. Rev. B 52, 2697 (1995). 4.J. R. Lakowicz, Principles of Flurescence Spectroscopy (Academic, New York 1999), p.95. 5.Al. L. Efros, M. Rosen, M. Kuno, M. Nirmal, D.J. Norris, and M. Bawendi, Phys. Rev. B 54, 4843 (1996). 6.W. Z. Lee, G. W. Shu, J. C. Wang, J. L. Shen, C. A. Lin, W. H. Chang, R. C. Ruaan, W. C. Chou, C. H. Lu, and Y. C. Lee, Nanotechnology 16, 1 (2005).
References(Chapter 3)
1.S. T. Lee, J. Haetty, and A. Petrou, Phys. Rev. B 53, 2912 (1996). 2.M. Larsson, A. Elfving, P. O. Holtz, G. V. Hansson, and W. X. Ni, Appl. Phys. Lett. 82, 4785 (2003). 3.Y. S. Chiu, M. H. Ya, W. S. Su, and Y. F. Chen, J. Appl. Phys. 92, 5810 (2002). 4.F. Hatami, M. Grundmann, N. N. Ledentsov, F. Heinrichsdorff, R. Heitz, J. Bohrer, and D. Bimberg, Phys. Rev. B 57, 4635 (1998). 5.S. V. Zaitsev, A. A. Maksimov, V. D. Kulakovskii, and I. I. Tartakovskii, J. Appl. Phys. 91, 652 (2002). 6.H. Cao, J. Y. Xu, W. H. Xiang, Y. Ma, S. H. Chang, S. T. Ho, and G. S. Solomon, Appl. Phys. Lett. 76, 3519 (2000). 7.S. W. Lee, K. Hirakawa, and Y. Shimada, Appl. Phys. Lett. 75, 1428 (1999). 8.E. Leobandung, L. Guo, Y. Wang, and S. Y. Chou, Appl. Phys. Lett. 67, 938 (1995). 9.D. Bimberg, and N. Ledentsov, J. Phys. Condens. Matter. 15, R1063 (2003). 10.H. Pettersson, L. Btááh, N. Carlsson, W. Seifert, and L. Samuelson, Appl. Phys. Lett. 79, 78 (2001). 11.a) H. Weller, Adv. Mater. 5, 88, (1993). b) V. L. Colvin, M. C. Schlamp, and A. P. Alivisatos, Nature 370, 354 (1994). c) W. C.W. Chan, and S. Nie, Science 281, 2016 (1998). d) A. J. Nozik, Phys. E 14, 115 (2002). 12.Z. A. Peng, X. Peng, J. Am. Chem. Soc. 123, 183 (2001). 13.K. Sungjee, F. Brent, E. H. Jürgen, and B. Moungi, J. Am. Chem. Soc. 125, 11466 (2003). 14.L. E. Brus, J. Chem. Phys. 80, 4403 (1984). 15.J. M. Iannelli, J. Maserjian, B. R. Hancock, P. O. Andersson, and F. J. Grunthaner, Appl. Phys. Lett. 54, 301 (1989). 16.C. Weisbuch, B. Vinter, Quantum Semiconductor Structures (Academic, Boston, 1991), p. 20. 17.U. E. H. Laheld, F. B. Pedersen, and P. C. Hemmer, Phys. Rev. B 48, 4659 (1993). 18.U. E. H. Laheld, F. B. Pedersen, and P. C. Hemmer, Phys. Rev. B 52, 2697 (1995). 19.Z. Y. Xu, Z. D. Lu, X. P. Yang, Z. Zheng, and J. Z. Xu, Phys. Rev. B 54, 11528 (1996). 20.R. Seguin, S. Rodt, A. S trittmatter, L. Reimann, T. Bartel, A. Hoffmann, D. Bimberg, E. Hahn, and D. Gerthsen, Appl. Phys. Lett. 84, 4023 (2004).
References(Chapter 4)
1.S. T. Lee, J. Haetty, and A. Petrou, Phys. Rev. B 53, 12912 (1996). 2.D. Bimberg, M. Groundmann, and N. N. Ledentsov, Quantum Dot Heterostructures (New Yourk : Wiley, 1998) 3.M. Schlamp, X. Peng, and A. P. Alivisatos, J. Appl. Phys. 82, 5837 (1997). 4.B.O. Dabbousi, M. G.. Bawendi, O. Onitsuka, and M. F. Rubner, Appl. Phys. Lett. 66, 1316 (1995). 5.V. L. Colvin, M. C. Schlamp, and A. P. Alivisatos, Nature (London) 370, 354 (1994) 6.C. P. Collier, T. Vossmeyer, and J. R. Heath, Annu. Rev. Phys. Chem. 49, 371 (1998). 7.V. I. Klimov et al., Science 290, 314 (2000). 8.M. Bruchez, Jr. et al., Science 281, 2013 (1998). 9.C. Landes, C. Burda, and M. A. El-Sayed, J. Phys. Chem. B 105, 2981 (2001). 10.X. Wang, L. Qu, J. Zhang, X. Peng, and M. Xiao Nano Lett. 3, 1103 (2003). 11.X. Wang, J. Zhang, A. Nazzal, M. Darangh, and M. Xiao Appl. Phys. Lett. 81, 4829 (2002). 12.A. Javier, D. Magana, T. Jennings, and G. F. Strouse, Appl. Phys. Lett. 83, 1423 (2003). 13.W. Z. Lee, G. W. Shu, J. C. Wang, J. L. Shen, C. A. Lin, W. H. Chang, R. C. Ruaan, W. C. Chou, C. H. Lu, and Y. C. Lee, Nanotechnology 16, 1 (2005). 14.A. R. Kortan, R. Hull, R. L. Opila, M. G. Bawendi, M. L. Steigerwald, P. J. Carroll, and L. E. Brus, J. Am. Chem. Soc. 112, 1327 (1990). 15.M. A. Hines, P. J. Guyot-Sionnest, Phys. Chem. 100, 468 (1996). 16.B. O. Dabbousi, J. R. Viejo, F. V. Mikulec, J. R. Heine, H. Mattoussi, R. Ober, K. F. Jensen, and M. G. Bawendi, J. Phys. Chem. B, 101, 9463 (1997). 17.J. Bellessa, V. Voliotis, R. Grousson, X. L. Wang, M. Ogura, and H. Matsuhata, Phys. Rev. B 58, 9933 (1998). 18.V. A. Fonoberov, and A. A. Balandin, Phys. Rev. B 70, 195410-1 (2004). 19.Al. L. Efros, M. Rosen, M. Kuno, M. Nirmal, D.J. Norris, and M. Bawendi, Phys. Rev. B 54, 4843 (1996). 20.C. Gourdon, and P. Lavallard, Phys. Status Solid B 153, 641 (1989). 21.E. Cohn, and M. D. Sturge, Phys. Rev. B 25, 3828 (1982). 22.M. Strassburg, M. Dworzak, H. Born, R. Heitz, and A. Hoffmann, Appl. Phys.Lett. 80, 473 (2002). 23.H. Gotoh, H. Ando, T. Takagahara, H. Kamada, A. Chavez- Pirson, and J. Temmyo, Jpn. J. Appl. Phys. 36, 4204 (1997).
|