|
[1] 曾致遠,機械工業雜誌246期,P.108-119。 [2] 皮敦文,科儀新知第十六卷第二期,83.10,P.40。 [3] 王昭平,核能天地1995 年四月號,p.27。 [4] Alvin Warren, Czanderna, “Methods of Surface Analysis” p.108(1975)。 [5] E. P. Marsh, T. L. Gilton, W. Meier, M. R. Schneider and J. P. Cowin, Phys. Rev. 61, 2725 (1990)。 [6] 崔古鼎,物理雙月刊第二十卷第五期,P.607 (1994)。 [7] 郭錦城,科儀新知第十六卷第二期,P.31 (1994) [8] 同步輻射簡介,行政院同步輻射研究中心,2005.5。 [9] 陳慶曰,科儀新知第十六卷第二期,P.8 (1994)。 [10] M. L. Knotek ,Rep. Prog. Phys., Vol 47, pp 1499-1561, 1984. [11] L.-C. Chou, C.-R. Wen and J. Chen , CHINESE JOURNAL OF PHYSICS VOL. 38, NO. 5, OCTOBER 2000,P.987-998 [12] C.-R. Wen and L.-C. Chou, The Journal Of Chemical Physics. 112, 9068 (2000) 。 [13] 吳映璇,同步輻射光電子譜分析及吸附在矽單晶表面的CF3Cl分子之光解離研究。 [14] H. Hoptop and W. C. Linberger , J. Phys Chem. Ref. Data 4, 539 (1975) 。 [15] T. Cvitas, H.Gusten, L. Klasinc, I. Novadj and Vancik , Z. Naturforch. 33a,1528-1532(1978) 。 [16] B. W. Yates, K. H. Tan, and G. M. Bancroft , J. Chem. Phys. 85(7) , October 1986。 [17] Z. M. Liu, X. L. Zhou, J. Kiss and J. M. White, Surface Science 286 (1993) 233-245。 [18] Miguel E.Castro, Laura A. Pressley, J.Kiss, Eddie D. Pylant, S. K. Jo, X. L. Zhou, and J. M. White, J.Phys. Chem.1993, 97, 8476-8484。
|