1.游生任,電漿技術應用於處理全氟化物之研發與探討,工研院環安中心。
2.工業溫室氣體減量發展簡訊,22期,民國九十四年四月。
http://ghg.tgpf.org.tw/newsletter/epaper22-03.htm#n4
3.呂鴻光、簡慧貞、黃偉鳴、石信智,我國溫室氣體減量政策及措施,工業污染防治第88期,民國九十二年十月。4.馬振基、吳漢朗,我國主要工業製程之節能及溫室氣體減量現況與前瞻規劃 ,工業污染防治第94期,民國九十四年四月。
5.劉國忠,我國溫室氣體減量策略與實務之探討,工業污染防治第94期,民國九十四年四月。6.林俊男,半導體業全氟化物PFC減量技術,台灣半導體產業協會。
7.周崇光,積體電路製程尾氣的控制技術之發展與應用,工研院工安衛中心。
8.許榮男,Local Scrubber效率評估方法簡介,工研院環安中心。
9.Werner Herres, HRGC-FTIR: Capillary Gas Chromatography-Fourier Transform Infrared Spectroscopy: Theory and Applications, Ch. 1, Heidelberg; Basel; New York; Hüthig, 1987.
10.施惠雅、李壽南,半導體廠排放管路與作業環境之危害辨識與控制,華邦電子股份有限公司委託工研院研究計畫期末報告,民國九十一年。
11.鄭瑞翔、游生任、李壽南、王光聖、廖海瑞 TFT-LCD 產業PFCs 排放減量現況評估,工研院環境與安全衛生技術發展中心 /中華民國台灣薄膜電晶體液晶顯示器產業協會。
12.Shou-Nan Li, Jung-Nan Hsu , Gen-Hou Leu, Kirel Tang and Chung-Ling Chiu, An Improved Technique for Evaluating point-of-use Abatement Systems , Industry Technology Research Institute, CESH, Taiwan。
13.Shou-Nan Li, Hui-Ya Shih, Jui-Hsiang Cheng, Jung-Nan Hsu, Kuang-Sheng Wang and Chun-Nan Lin, Default values appear to be overestimating PFC emissions from fabs,Industrial Technology Research Institute, Hsinchu, Taiwan。
14.李壽南,半導體及LCD產業PFC排放減量技術,工研院環安中心。
15.顧鴻壽,光電液晶平面顯示器技術基礎及應用。
16.呂榮峰、吳關佑、張木彬,半導體製程之全氟化物控制技術。
17.廖伯佑、李盈壕,半導體製程用濕式化學品的發展趨勢,伊默克化學。