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臺灣博碩士論文加值系統

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研究生:黃俊傑
研究生(外文):Chun-chieh Huang
論文名稱:奈米碳管場發射顯示器(CNT-FED)技術生命週期與創新策略之研究
論文名稱(外文):On the Study for the Technology Life Cycle and Innovation Strategy of Carbon NanoTube-Field Emission Display(CNT-FED)
指導教授:辛玉蘭辛玉蘭引用關係
指導教授(外文):Yu-lan Hsing
學位類別:碩士
校院名稱:國立臺南大學
系所名稱:科技管理研究所
學門:商業及管理學門
學類:其他商業及管理學類
論文種類:學術論文
畢業學年度:94
語文別:中文
論文頁數:71
中文關鍵詞:奈米碳管場發射顯示器羅吉斯成長模型專利分析技術預測
外文關鍵詞:Patent analysisTechnology forecastingCarbon NanoTube-Field Emission DisplayLogistic growth model
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隨著科技技術的不斷發展,人類社會的市場經濟活動已經進入一個快速變動的時代,企業的獲利已不再有全然取決於效率提升與成本降低,而是取決於市場趨勢的掌握以及關鍵技術的研發。值此之故,惟有確實掌握智慧財產權才能在競爭日益激烈的國際市場中佔有一席之地。因此,智慧財產權制度之建置,向來與科技及產業有密不可分割的關係。不同產業對專利保護之需求是有差異的。然而隨著產業之轉型,以及高科技與資訊技術快速被導入所有產業之中,想要永續經營的,就要持續創新。
本研究使用專利分析與技術生命週期之觀點,對CNT-FED 技術發展進行趨勢的預測,獲得之主要結論有二:第一、我國顯示技術產業在技術創新能量方面,相對於日本、南韓仍居劣勢。並因為理性思考的理由而忽略或是反對破壞性的創新,因而讓新公司在後續的時間能掌握到顧客的需求選擇主流產業來擴大企業版圖,例如:PDP、OLED產業。建議應將重心放在CNT-FED、SED、…等FED技術進行專利的研發與佈局,以確保台灣在該領域的領先地位;第二、CNT-FED技術的成長期將會自2013年帶進另一個高峰,與工業技術研究院在2003年所進行專家論談的2010年相距不遠。
With the constant development of science and technology, the market economic activity of the human society has already entered an era changing fast, the making a profit of enterprises has not completely depended on efficiency is raised and reduced with the cost again yet , but depend on the research and development of mastering and key technology of the market trend. So, only really grasp the intelligence proprietary and could occupy a tiny space in the fierce international market day by day of the competition . The construction of the proprietary system of intelligence, always have dense and inalienable relations with science and technology and industry. Different demands for patent protection of industry have the difference. But with the transition of the industry, and Hi-Tech and information technology are channelled into all industries fast, ones that want and manage continuously forever, should innovate continuously.

This research uses the patent to analysis that carry on the prediction of the trend to CNT-FED technical development with the technological view of cycle of life, the main conclusion obtained is two: First, our display technical industry shows that the still occupies the inferior position to Japan , Korea . in technological innovation energy . And neglect or object to destructive innovation because of reason of rational thinking, let new company time in follow-up can know demand to reach customer choose the major industry to expand enterprise''s domain, for example: PDP, OLED industry. Propose placing center on CNT-FED , SED, wait for FED technology to carry on the research and development of the patent and overall arrangement, so as to ensure the very latest in this field of Taiwan; Second, would bring into another peak since 2013 at growth stage of CNT-FED technology, it will be not far apart in 2010 when experts had an informal discussion to carry on with the research institute of the industrial technology in 2003.
中文摘要 i
英文摘要 ii
誌謝 iii
目錄 iv
表目錄 vi
圖目錄 vii
一、 緒論 - 1 -
1.1 研究背景 - 1 -
1.2 研究動機 - 2 -
1.3 研究目的 - 2 -
1.4 研究範疇 - 2 -
1.5 論文架構 - 3 -
二、 文獻探討 - 4 -
2.1 技術預測與技術生命週期理論 - 4 -
2.1.1 技術預測的定義 - 4 -
2.1.2 技術預測方法的分類 - 4 -
2.1.3 選擇及應用技術預測方法 ─ 模型分析法 - 5 -
2.1.4 選擇及應用技術預測方法 ─ 成長(S)曲線預測法 - 5 -
2.1.5 S型曲線 ─ Pearl模型 - 6 -
2.1.6 技術創新及研發流程特性間的關係 - 7 -
2.1.7 傳統科技S型曲線與突破性科技S型曲線 - 10 -
2.1.8 技術生命週期的策略規劃 - 11 -
2.2 專利資訊分析與研究發展 - 13 -
2.2.1 專利分析之目的 - 13 -
2.2.2 專利分析之應用時機 - 13 -
2.2.3 專利地圖 - 14 -
2.2.4 專利之競爭處境與競爭定位 - 15 -
2.2.5 專利發展(技術生命)週期 - 16 -
2.2.6 技術生命週期與專利策略之關係 - 17 -
三、 奈米碳管場發射顯示器(CNT-FED)技術發展現況 - 19 -
3.1 前言 - 19 -
3.2 場發射顯示器(FED,field emission display) 技術簡介 - 20 -
3.2.1 場發射顯示器原理 - 20 -
3.2.2 CNT-FED基本製作流程 - 21 -
3.2.3 歷史沿革及技術發展 - 22 -
3.2.4 技術趨勢與發展現況 - 25 -
3.2.5 未來技術發展/應用趨勢概況 31
3.3 小結 32
3.3.1 技術的不連續性 32
3.3.2 技術與成本將是業者最重要課題 33
四、 研究設計 34
4.1 概念性架構 34
4.2 研究步驟與流程 35
4.3 專利資料檢索與分析 37
4.3.1 專利分析 37
4.3.2 選用專利資料庫 37
4.3.3 專利檢索 37
4.4 模擬軟體 ─ Loglet Lab 38
五、 專利檢索/分析及成果 42
5.1 專利資料檢索結果 42
5.1.1 關鍵字群搜尋 42
5.2 實審公告專利「經營管理面」分析 43
5.2.1 整體趨勢分析 43
5.2.2 所屬國別分析 44
5.2.3 公司別分析(專利權人分析) 46
5.2.4 引證分析 49
5.2.5 IPC分析 51
5.3 技術發展趨勢─早期公開專利 57
5.3.1 技術生命週期 57
5.3.2 所屬國別分析 57
5.3.3 公司研發能力分析 59
5.3.4 IPC分析 59
5.4 公司之專利競爭處境與競爭定位 63
5.5 運用Logistic growth模型之分析結果 64
5.5.1 專利成長之曲線估計配適 64
5.5.2 技術發展趨勢 ─ Loglet Lab軟體 65
六、 結論與建議 67
6.1 研究結論 67
6.2 後續研究方向與建議 68
參考文獻 70


表目錄
表 1 S型曲線類比數學模型 - 7 -
表 2 產品創新及生產流程特性間的關係 - 9 -
表 3 專利地圖 - 14 -
表 4 CRT與FED比較 - 20 -
表 5 主要CNT電子發射源製作方式 - 22 -
表 6 History of CNT-FED - 23 -
表 7 各種FED型式 - 24 -
表 8 各種顯示技術性能比較 - 25 -
表 9 國際現況 ─ FED的發展現況 27
表 10 國際現況 ─ CNT-FED的發展現況 28
表 11 各種FED平面顯示器的動作原理與特性 29
表 12 2010年各項顯示技術發展進度 30
表 13 USPTO-Advanced Search 38
表 14 Loglet Lab 英文文獻 39
表 15 Loglet Lab 中文文獻 40
表 16 專利檢索關鍵字 42
表 17 國家別專利分析表 45
表 18 主要公司研發能力詳細數據表 46
表 19 公司之相對研發能力比較表 47
表 20 分野年排行榜 ─ 1991年之前 47
表 21 分野年排行榜 ─ 1991年之後 48
表 22 分野年排行榜 ─ 2000年之前 48
表 23 分野年排行榜 ─ 2000年之後 49
表 24 專利引證次數表 50
表 25 專利引證次數表 50
表 26 引證率分析表 51
表 27 公司別引證率詳細數據 51
表 28 各領先IPC分類之內容描述 52
表 29 IPC分類展開4階之內容描述 54
表 30 所屬國別分析表 58
表 31 主要公司專利數量統計表 59
表 32 研發能力詳細數據表 59
表 33 專利處境彙總表 63
表 34 專利成長之曲線估計配適(Fitting)之摘要表 64


圖目錄
圖 1 論文架構 - 3 -
圖 2 科技預測的各種方法 - 4 -
圖 3 Foster的S曲線 - 5 -
圖 4 技術生命週期 - 6 -
圖 5 技術能力發展的途徑 - 8 -
圖 6 傳統科技S型曲線 - 10 -
圖 7 突破性科技S型曲線 - 11 -
圖 8 技術投資模式 - 12 -
圖 9 專利分析之概念 - 13 -
圖 10 專利分析流程 - 15 -
圖 11 競爭公司/國家之專利處境 - 15 -
圖 12 競爭公司/國家之競爭地位 - 16 -
圖 13 專利發展/技術生命週期 - 16 -
圖 14 基於技術優劣的專利策略 - 17 -
圖 15 專利發展/技術生命週期與專利策略 - 18 -
圖 16 顯示器產業主要產品族群一覽表 - 19 -
圖 17 場發射顯示器原理 - 21 -
圖 18 CNT-FED製作流程 - 21 -
圖 19 CNT-FED結構 - 25 -
圖 20 FED Families - 26 -
圖 21 FPD生命週期圖 30
圖 22 技術的不連續性 32
圖 23 概念性架構 34
圖 24 研究架構 36
圖 25 Logistic曲線 41
圖 26 歷年專利數量分析圖 43
圖 27 技術生命週期圖 44
圖 28 主要國家歷年專利數量統計圖 45
圖 29 主要公司歷年專利數量統計圖 46
圖 30 IPC專利技術歷年活動圖 52
圖 31 IPC分類─3階 53
圖 32 IPC分類─4階 54
圖 33 競爭公司IPC專利件數─3階 55
圖 34 競爭國家IPC專利件數─3階 56
圖 35 競爭國家IPC專利件數─4階 56
圖 36 技術生命週期圖 57
圖 37所屬國別分析圖 58
圖 38 IPC專利分類分析圖─3階 60
圖 39 競爭國家IPC專利件數分析圖─前3名前3階 61
圖 40競爭公司IPC專利件數分析圖─前5名前3階 62
圖 41 競爭公司IPC專利件數分析圖─前5名前4階 62
圖 42 競爭公司之專利處境圖 63
圖 43 專利成長之曲線估計配適(Fitting)之示意圖 64
圖 44 CNT-FED技術發展趨勢圖 65
圖 45 實審公告專利生命週期趨勢預測圖 66
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