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臺灣博碩士論文加值系統

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研究生:謝世芳
研究生(外文):Shieh Shih-Fang
論文名稱:矽酸根對AZ31B鎂合金陽極處理行為之影響
論文名稱(外文):The Influence of Silicate on The Anodization of AZ31B Magnesium Alloy
指導教授:李春穎李春穎引用關係林招松林招松引用關係
指導教授(外文):Chun-Ying LeeChao-Sung Lin
學位類別:碩士
校院名稱:大葉大學
系所名稱:機械工程研究所碩士班
學門:工程學門
學類:機械工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2007
畢業學年度:95
語文別:中文
論文頁數:90
中文關鍵詞:AZ31B鎂合金濃度矽酸根陽極處理火花放電極化曲線
外文關鍵詞:AZ31B magnesium alloyconcentrationsilicateanodic spark depositionsparkingpolarization curve
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本論文選用AZ31B壓延鎂合金為底材,分別對KOH+KF電解液濃度改變及加入矽酸根之後的濃度改變,來探討AZ31B鎂合金陽極處理行為的影響。溶液溫度維持在15℃,施加1A/dm2之定電流進行10分鐘陽極處理。另外再對定電流實驗結果進行10分鐘定電壓處理,比較定電壓處理前後陽極膜的變化。由實驗結果發現,電解液中矽酸根的添加可以抑制氟離子對底材的侵蝕,隨著火花放電的作用下,陽極膜會持續增厚。根據極化曲線實驗的觀察下,可以得知此陽極膜的腐蝕速率,進一步了解陽極膜抵抗腐蝕的程度。電解液濃度則對火花放電的行為有所影響,當濃度較高時,火花放電的程度較大。
This study used AZ31B magnesium alloy to investigate the influence of changing concentration of potassium hydroxide plus potassium fluoride and the concentration of the solution after adding silicate, respectively. On the anodic spark deposition, solution temperature was kept at 15℃ and a constant current density of 1A/dm2 was applied for 10 minutes. In addition, several specimens being processed in the previous treatment were undergone a 10-minunte constant voltage past process. It is found that adding silicate can restrain the attack of fluoride ions on the substrate. Anodic film keeps growing as the consequence of sparking. Measured anodization polarization curves can indicate the corrosion velocity of anodic film and therefore the corrosion resistance of the processed film. Moreover, solution concentration affects sparking behavior during the anodization. The higher solution concentration is, the larger sparking appears.
封面內頁
簽名頁
授權書
中文摘要
英文摘要
誌謝
目錄
圖目錄
表目錄
第一章 序論
1.1前言
1.2研究動機
1.3論文架構
第二章 文獻回顧
2.1 鎂合金介紹
2.1.1 鎂合金來源與特性
2.1.2 鎂合金分類及製備
2.1.3 鎂合金成型方式與應用
2.2 鎂合金表面處理
2.2.1 化成皮膜處理
2.2.2 陽極處理
2.2.3 電鍍與無電鍍鎳處理
2.2.4 表面改質及塗層披覆
第三章 實驗方法
3.1 試片製備
3.2 實驗流程
3.3 實驗條件
3.4 陽極膜分析
第四章 結果與討論
4.1 KOH+ KF溶液陽極處理
4.1.1 3g/L KOH+5g/L KF溶液
4.1.2 6g/L KOH+10g/L KF溶液
4.1.3 KOH+ KF溶液定電流+定電壓實驗
4.1.4 KOH+ KF溶液電壓斜率改變處表面形態之比較
4.2 KOH+ KF+ Na2O.2SiO2.nH2O溶液陽極處理
4.2.1 3g/L KOH+5g/L KF+4.89g/L Na2O.2SiO2.nH2O溶液
4.2.2 6g/L KOH+10g/L KF+9.78g/L Na2O.2SiO2.nH2O溶液
4.2.3 KOH+ KF+ Na2O.2SiO2.nH2O溶液定電流+定電壓處理
4.2.4 KOH+ KF+ Na2O.2SiO2.nH2O溶液電壓轉折處表面形態之比較
4.3 極化曲線結果分析
第五章 結論
5.1總結
5.2未來展望
參考文獻
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