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研究生:林綉蕙
研究生(外文):Lin, Shiu-Hui
論文名稱:晶片對晶片通訊之電容耦合互連技術的設計與實現
論文名稱(外文):Design and Implementation of Capacitive Coupling Interconnect for Chip-to-Chip Communication
指導教授:許孟烈
指導教授(外文):Sheu, Meng-Lieh
學位類別:碩士
校院名稱:國立暨南國際大學
系所名稱:電機工程學系
學門:工程學門
學類:電資工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2007
畢業學年度:95
語文別:中文
論文頁數:58
中文關鍵詞:電容耦合互連技術收發器
相關次數:
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摘要

近年來積體電路製程技術進步,使得晶片內的工作速度增加,但是相較之下,晶片間的工作速度卻受限於封裝技術而增加有限,因此有一些取代傳統金屬連線的非直接接觸的連接方式被提出來,包含有光學式、無線射頻式和交流耦合式。而其中交流耦合式分為電感式耦合和電容式耦合,適合與標準CMOS製程整合。
本論文首先分析電容耦合傳輸通道的等效電路模型,並且分別以metal4和I/O pad 來做為耦合的電極板,以探討兩者所產生的耦合電容值(CC)和寄生電容值(CP)對傳輸效率的影響,實作晶片時則以晶片上內部耦合電容進行驗證,由實驗可得知當CC/CP比為1/8以上時,電容耦合資料傳輸可以正常工作。
吾人設計一電容耦合收發器晶片以進行實驗。在傳輸端利用鎖相迴路提供多相位時脈輸出給亂數產生器和4對1多工器,並將一組並列資料轉換為串列輸出,再經傳輸器使輸出的資料振幅放大,最後將資料傳輸至耦合的電極板上。耦合電容則透過晶片上耦合電容陣列的選取決定其耦合電容值,接收端以接收器接收耦合電極板上的耦合訊號,並將其回復為資料,所設計的電路採用國家晶片系統設計中心(CIC)提供的TSMC 3.3V 0.35μm 2P4M CMOS 製程實現,量測結果顯示傳輸端與接收器的工作速度可達到1Gbps。
目 錄

致謝
中文摘要 .................................................... Ⅰ
英文摘要 .................................................... Ⅱ
目錄 ........................................................ III
圖目錄 ...................................................... V
表目錄 ...................................................... VIII

第一章 緒論 ................................................ 1
1.1 研究動機 .......................................... 1
1.2 研究背景 .......................................... 2
1.3 論文架構 .......................................... 4

第二章 非直接接觸的資料傳輸方式 ............................ 5
2.1 非直接接觸的資料傳輸方式 ........................... 5
2.1.1 光學式 .................................... 5
2.1.2 無線射頻式 ................................ 7
2.1.3 交流耦合式 ................................ 9
2.1.3.1 電感式耦合 ...................... 9
2.1.3.2 電容式耦合 ...................... 10
2.2 晶片對晶片之電容耦合系統簡介 ....................... 12
2.3 電容耦合傳輸的等效電路分析 ........................ 15

第三章 1Gbps 電容耦合通訊電路設計與實現 .................... 23
3.1 電容耦合通訊傳輸器電路設計 ......................... 24
3.1.1 傳輸器電路 ................................ 24
3.1.2 鎖相迴路電路 .............................. 24
3.1.2.1 相位頻率檢測器 .................. 25
3.1.2.2 電荷幫浦 ........................ 26
3.1.2.3 二階低通濾波器 .................. 27
3.1.2.4 電壓控制振盪器 .................. 27
3.1.2.5 除頻器 .......................... 28
3.1.3 雙端轉單端電路 ............................ 29
3.1.4 亂數產生器電路 ............................ 29
3.1.5 多工器電路 ................................ 30
3.2 電容耦合通訊接收器電路設計 ......................... 31
3.3 內部耦合電容選取電路設計 .......................... 34
3.4 模擬結果 .......................................... 36
3.4.1 鎖相迴路電路模擬結果 ...................... 36
3.4.2 雙端轉單端電路模擬結果 .................... 40
3.4.3 亂數產生器電路模擬結果 .................... 40
3.4.4 內部耦合電容選取電路模擬 .................. 41
3.4.5 收發路電路模擬結果 ........................ 41

第四章 晶片製作及量測結果 .................................. 42
4.1 比較A、B晶片佈局與設計差異 ....................... 42
4.2 A晶片量測結果 ..................................... 45
4.3 B晶片量測結果 ..................................... 49
4.4 量測儀器 ........................................... 55

第五章 結論 ................................................. 56

參考文獻 ..................................................... 57
參考文獻

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