臺灣博碩士論文加值系統

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 In the thesis we study the parameters affecting the thermal expansion of the metal mask and the glass of panel of Organic Light Emitting Display during the evaporation process, and establish the relationship between these parameters and the thermal expansion of glass substrate.The parameters include heat source temperature, distance from the heat source to glass substrate, heat source scan speed, heat source scan times, chiller cooling temperature in vacuum chamber. Firstly we use different parameters to evaluate the effect of the surface temperature on the metal mask and the glass substrate to calculate the difference of thermal expansion between the metal mask and the glass substrate, to establish a table for further estimation purpose. The main factors are the evaporator time, heat source temperature and the distance of heat source to glass substrate. Their relationships of the can be used to control the thermal expansion of the glass substrate.
 中文摘要----------------------------------------------IAbstract ---------------------------------------------II誌謝 -------------------------------------------------Ⅲ目錄 -------------------------------------------------Ⅳ圖目錄------------------------------------------------Ⅸ表目錄------------------------------------------------ XII第一章、緒論1-1 研究背景---------------------------------------11-2 研究動機---------------------------------------31-3 研究目的---------------------------------------61-3.1蒸鍍精度factor-----------------------------61-3.2 蒸鍍精度與開口率關係-----------------------8 1-3.3 研究目標-----------------------------------91-4 文獻回顧---------------------------------------9第二章、基本理論分析2-1 名詞解釋----------------------------------------112-1.1 真空環境-----------------------------------112-1.2 熱蒸鍍製程---------------------------------122-1.3 蒸發源溫度---------------------------------132-1.4 蒸鍍技術-----------------------------------132-1.5 鍍膜行程-----------------------------------142-1.6 鍍膜速度-----------------------------------142-1.7 鍍膜次數-----------------------------------142-1.8 鍍膜時間-----------------------------------152-1.9 蒸發源與物體據間距離-----------------------152-1.10 玻璃冷卻水溫度----------------------------152-2 熱膨脹------------------------------------------162-2.1 線性膨脹(linear expansion)-----------------162-2.2 孔膨脹 (hole expansion)--------------------172-2.3 體膨脹 (volume expansion)------------------182-2.4 玻璃基板實際熱膨脹情況---------------------182-3 熱傳機制----------------------------------------202-3.1 熱傳導-------------------------------------202-3.2 熱對流-------------------------------------202-3.3 熱輻射 (Thermal radiation)-----------------212-3.4 輻射形狀因子(radiation shape factor)-------222-3.5 熱傳方程式 (heat transfer equation)-------232-4 理論分析 --------------------------------------242-4.1 蒸鍍熱傳方程式----------------------------242-4.2 預期模式----------------------------------242-5 達成方法 --------------------------------------25第三章、實驗架構3-1 實驗流程說明-----------------------------------263-2 實驗設備說明-----------------------------------273-2.1 蒸鍍設備----------------------------------273-2.2 溫度紀錄器--------------------------------273-2.3 金屬 mask---------------------------------283-2.4 玻璃基板----------------------------------293-2.5 測長儀------------------------------------293-2.6螢光顯微鏡UVOM(二次元量測儀)--------------303-3 實驗計畫說明-----------------------------------313-3.1 首次實驗----------------------------------313-3.2 2ND 實驗計畫------------------------------333-4 實驗投入--------------------------------------343-4.1 玻璃基板變異確認----------------------343-4.2 量測儀器架設--------------------------353-5實驗數據蒐集----------------------------------353-5.1溫度器(thermocouple)量測位置------------353-5.2使用螢光顯微鏡量測實際鍍膜位置----------36第四章、實驗結果4-1 溫度量測數據說明-------------------------------37 4-2 1st 實驗結果-----------------------------------384-2.1玻璃表面與Metal mask 溫度趨勢------------384-2.2 量測位置A與B溫度趨勢-------------------404-2.3 參數對於玻璃基板影響分析-----------------42 1. 圖形說明------------------------------42 2. ”鍍膜次數”關係實驗結果--------------423. ”鍍膜速度”關係實驗結果--------------444.“鍍膜時間”關係實驗結果---------------455. ”source溫度”關係實驗結果-----------486. ”冷卻水溫度”關係實驗結果------------497. 參數模擬table------------------------514-3 2nd 實驗結果(參數對於玻璃基板影響分析)-------52 4-3.1 ”蒸發源距離”實驗結果------------------52 4-3.2 參數模擬 Table-------------------------534-3.3 玻璃基板表面溫度與膨脹量估算-----------544-3.4 實際鍍膜位置量測-----------------------564-4 實驗誤差-------------------------------------624-4.1 參數模擬table誤差-----------------------624-4.2 實際鍍膜位置誤差-------------------------62第五章、結論與建議5-1 實驗結論：------------------------------------645-2 未來研究方向----------------------------------65參考文獻
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 國圖紙本論文
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 1 台灣OLED產業技術選擇與市場進入策略之研究 2 有機發光二極體OLED蒸鍍製程磁板壓合機構對面板混色影響與改善 3 矽材料熱蒸鍍遮罩之製作與應用

 1 [2] 陳金鑫、黃孝文著,有機電激發光材料與元件,Chapter1-9,五南出版,2005.

 1 有機發光二極體OLED蒸鍍製程磁板壓合機構對面板混色影響與改善 2 有機發光二極體薄膜封裝製程最佳化之研究 3 提高有機發光二極體(OLED)對比度之黑膜研究 4 OLED產業未規格化量產機台採購評估之研究 5 電漿輔助化學氣相沉積法製備OLED元件氣體阻障層之研究 6 有機發光二極體製程中金屬光罩熱脹與畫素混色之研究 7 高功率發光二極體之亮度特性 8 以熱蒸鍍法製作氧化鋅薄膜之研究 9 大面積高解析度有機發光二極體蒸鍍遮罩之製程設計與數值模擬 10 矽材料熱蒸鍍遮罩之製作與應用 11 液晶平面顯示器非均勻性薄膜的光學特性 12 玻璃基板上利用電子束蒸鍍法沉積氧化鋁薄膜作為高頻氧化鋅薄膜表面聲波元件之應用 13 TCAD技術於OLED之議題：物理調變&電特性探討 14 有機發光二極體OLED廠商國際競爭優勢之探討---以奇晶、錸寶、SONY、SAMSUNGSMD為例 15 以熱蒸鍍法於矽基板上製作氮氧化鋅薄膜之研究

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