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臺灣博碩士論文加值系統

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研究生:趙光品
研究生(外文):KUANG-PIN CHAO
論文名稱:熱蒸鍍製程參數對金屬Mask及玻璃基板熱膨脹關係探討
論文名稱(外文):Thermal expansion effects of evaporating parameters on OLED metal mask and glass substrate
指導教授:周榮華周榮華引用關係
指導教授(外文):Jung-Hua Chou
學位類別:碩士
校院名稱:國立成功大學
系所名稱:工程科學系專班
學門:工程學門
學類:綜合工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2009
畢業學年度:97
語文別:中文
論文頁數:69
中文關鍵詞:玻璃基板熱膨脹OLED熱蒸鍍
外文關鍵詞:evaporatingglass substrate thermal expansionOLED.
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本論文主旨係探討有機發光顯示器(Organic Light Emitting Display)在真空環境下使用熱蒸鍍製程將有機發光材料蒸鍍於玻璃基板,相關熱蒸鍍製程參數對於玻璃基板的熱膨脹量影響關係,包含熱蒸發源的溫度、蒸發源與玻璃基板間的距離、鍍膜的速度、鍍膜次數、玻璃基板冷卻等,對於玻璃基板表面溫度與金屬mask熱膨脹不匹配性之影響,利用溫度計算膨脹量估算兩者膨脹量差異,建立參數與膨脹量關係式進行模擬與驗證。
蒸發源與玻璃基板間距離調整30mm可使玻璃基板產生溫度差達3.4℃,玻璃與金屬mask膨脹量差6.9μm;鍍膜次數與速度影響玻璃基板接受熱輻射的時間,鍍膜時間差30sec,可使玻璃基板產生溫度差達0.8℃,玻璃與金屬mask膨脹量差1.6μm;以上兩項為主要影響玻璃基板表面溫度升高的重要因子,因此可使用這些參數關係控制膨脹量。
In the thesis we study the parameters affecting the thermal expansion of the metal mask and the glass of panel of Organic Light Emitting Display during the evaporation process, and establish the relationship between these parameters and the thermal expansion of glass substrate.
The parameters include heat source temperature, distance from the heat source to glass substrate, heat source scan speed, heat source scan times, chiller cooling temperature in vacuum chamber. Firstly we use different parameters to evaluate the effect of the surface temperature on the metal mask and the glass substrate to calculate the difference of thermal expansion between the metal mask and the glass substrate, to establish a table for further estimation purpose.
The main factors are the evaporator time, heat source temperature and the distance of heat source to glass substrate. Their relationships of the can be used to control the thermal expansion of the glass substrate.
中文摘要----------------------------------------------I
Abstract ---------------------------------------------II
誌謝 -------------------------------------------------Ⅲ
目錄 -------------------------------------------------Ⅳ
圖目錄------------------------------------------------Ⅸ
表目錄------------------------------------------------ XII
第一章、緒論
1-1 研究背景---------------------------------------1
1-2 研究動機---------------------------------------3
1-3 研究目的---------------------------------------6
1-3.1蒸鍍精度factor-----------------------------6
1-3.2 蒸鍍精度與開口率關係-----------------------8
1-3.3 研究目標-----------------------------------9
1-4 文獻回顧---------------------------------------9
第二章、基本理論分析
2-1 名詞解釋----------------------------------------11
2-1.1 真空環境-----------------------------------11
2-1.2 熱蒸鍍製程---------------------------------12
2-1.3 蒸發源溫度---------------------------------13
2-1.4 蒸鍍技術-----------------------------------13
2-1.5 鍍膜行程-----------------------------------14
2-1.6 鍍膜速度-----------------------------------14
2-1.7 鍍膜次數-----------------------------------14
2-1.8 鍍膜時間-----------------------------------15
2-1.9 蒸發源與物體據間距離-----------------------15
2-1.10 玻璃冷卻水溫度----------------------------15
2-2 熱膨脹------------------------------------------16
2-2.1 線性膨脹(linear expansion)-----------------16
2-2.2 孔膨脹 (hole expansion)--------------------17
2-2.3 體膨脹 (volume expansion)------------------18
2-2.4 玻璃基板實際熱膨脹情況---------------------18
2-3 熱傳機制----------------------------------------20
2-3.1 熱傳導-------------------------------------20
2-3.2 熱對流-------------------------------------20
2-3.3 熱輻射 (Thermal radiation)-----------------21
2-3.4 輻射形狀因子(radiation shape factor)-------22
2-3.5 熱傳方程式 (heat transfer equation)-------23
2-4 理論分析 --------------------------------------24
2-4.1 蒸鍍熱傳方程式----------------------------24
2-4.2 預期模式----------------------------------24
2-5 達成方法 --------------------------------------25
第三章、實驗架構
3-1 實驗流程說明-----------------------------------26
3-2 實驗設備說明-----------------------------------27
3-2.1 蒸鍍設備----------------------------------27
3-2.2 溫度紀錄器--------------------------------27
3-2.3 金屬 mask---------------------------------28
3-2.4 玻璃基板----------------------------------29
3-2.5 測長儀------------------------------------29
3-2.6螢光顯微鏡UVOM(二次元量測儀)--------------30
3-3 實驗計畫說明-----------------------------------31
3-3.1 首次實驗----------------------------------31
3-3.2 2ND 實驗計畫------------------------------33
3-4 實驗投入--------------------------------------34
3-4.1 玻璃基板變異確認----------------------34
3-4.2 量測儀器架設--------------------------35
3-5實驗數據蒐集----------------------------------35
3-5.1溫度器(thermocouple)量測位置------------35
3-5.2使用螢光顯微鏡量測實際鍍膜位置----------36
第四章、實驗結果
4-1 溫度量測數據說明-------------------------------37
4-2 1st 實驗結果-----------------------------------38
4-2.1玻璃表面與Metal mask 溫度趨勢------------38
4-2.2 量測位置A與B溫度趨勢-------------------40
4-2.3 參數對於玻璃基板影響分析-----------------42
1. 圖形說明------------------------------42
2. ”鍍膜次數”關係實驗結果--------------42
3. ”鍍膜速度”關係實驗結果--------------44
4.“鍍膜時間”關係實驗結果---------------45
5. ”source溫度”關係實驗結果-----------48
6. ”冷卻水溫度”關係實驗結果------------49
7. 參數模擬table------------------------51
4-3 2nd 實驗結果(參數對於玻璃基板影響分析)-------52
4-3.1 ”蒸發源距離”實驗結果------------------52
4-3.2 參數模擬 Table-------------------------53
4-3.3 玻璃基板表面溫度與膨脹量估算-----------54
4-3.4 實際鍍膜位置量測-----------------------56
4-4 實驗誤差-------------------------------------62
4-4.1 參數模擬table誤差-----------------------62
4-4.2 實際鍍膜位置誤差-------------------------62
第五章、結論與建議
5-1 實驗結論:------------------------------------64
5-2 未來研究方向----------------------------------65
參考文獻
[1] C.W. Tang, S.A. VanSlyke, Two-layer organic photovoltaic cell, Appl. Pghys. Lett, 51, 913,1987.
[2] 陳金鑫、黃孝文著,有機電激發光材料與元件,Chapter1-9,五南出版,2005.
[3] 凌岩村, 台灣OLED產業技術選擇與市場進入策略之研究,成功大學,工程管理研究所碩士論文,2004.
[4] Hsin Her Yu, Shug-June Hwang, Kuo-Cheng Hwang, Preparation and characterization of a novel flexible substrate for OLED, Optics Communications, vol.248, pp.51–57, 2005.
[5] Displaysearch, OLED Characterization report: SONY XEL-1, May 2008.
[6] UBI SANUP Research, 2008 OLED annual report, 2008.
[7] H.J. Lee, Active Matrix Organic Light- Emitting Displays: Novel Amorphous Silicon Thin-Film Transistors and Pixel Electrode Circuits, University of Michigan, 2008.
[8] 城戶淳二,王政友譯, 圖解有機EL, 世茂出版, 2004.
[9] 陳信文, 陳立軒, 林永森, 陳志銘編譯, 微系統構裝基礎原理,Chapter12, 高立出版, 2005.
[10] T. Zheng, W.C.H. Choy, An effective intermediate Al/Au electrode for stacked color-tunable organic light emitting devices, Appl. Phys. A, vol.91, 501–506, 2008.
[11] 曾慶章, 台灣大學,光電工程研究所碩士論文, 矽材料熱蒸度遮罩製作與應用, 2004.
[12] 張耀宇, 華梵大學電機工程研究所碩士論文,有機發光二極體OLED蒸鍍製程磁板壓合機構對面板混色影響與改善, 2007.
[13] Eungki Lee, A study on the new substrate handler for the OLED evaporating process system, The International Journal of Advanced Manufacturing Technology, DOI 10.1007/s00170-008-1814-9, Nov 2008.
[14] 蘇青森, 真空技術精華Chapter1-2, 五南出版, 2009.
[15] J.P. Holman, Heat Transfer 8th ed, McGraw-Hill, 1997.
[16] John D. Cutnell, Kenneth W .Johnson, 劉彥宏, 張聖朋譯,物理學 6th ed, Chapter12, 台灣西書, 1996.
[17] Brian Vincent Nutter, Virginia Polytechnic Institute and State University, Thermal Analysis of a Vaporization Source for Inorganic Coatings, 2000.
[18] 小栗富士雄, 小栗達男著, 黃癸森譯, 機械設計圖表便覽, 眾文圖書, 1993.
[19] S. Jin and H. Mavoori , Low-thermal-expansion copper composites via negative CTE metallic elements, JOM Journal of the Minerals, Metals and Materials Society, vol.50, Num.6, pp.70-72, July 1998.
[20] Corning Display Technologies Taiwan co. Ltd., EAGLE XG AMLCD glass substrates material information (MIE301), January 2006.
[21] T.K. Hatwar, John W Harmer, Steve A Van Slyke, International Photonics report, Sept. 2005.
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