|
1. Cover of the July 1995 issue of IBM J. Res. Dev. 2. H. B. Huntington and A. R. Grone, J. Phys. Chem. Solid 20, 76 (1961). 3. J. R. Black, IEEE Trans Electron Device, ED-16, 348 (1969). 4. J. R. Black, Proc. IEEE, 57, 1587 (1969). 5. J. A. Blech and E. S. Meieran, J. Appl. Phys., 40, 485 (1969). 6. K. L. Lee, C. K. Hu and K. N. Tu, J. Appl. Phys., 78, 4428 (1995). 7. J. W. Nah, K. W. Paik, J. O. Suh, and K. N. Tu, J. Appl. Phys., 94, 7560 (2003). 8. W. J. Choi, E. C. C. Yeh and K. N. Tu, J. Appl. Phys., 94, 5665 (2003). 9. K. N. Tu, J. Appl. Phys., 94, 5451 (2003). 10. P. C. Wang, G. S. Cargill III, I. C. Noyan and C. K. Hu, Appl. Phys. Lett., 72, 1296 (1998). 11. P. C. Wang, I. C. Noyan, S. K. Kaldor, J. L. Jordan-Sweet, E. G. Liniger and C. K.Hu, Appl. Phys. Lett., 76, 3726 (2000). 12. H. K. Kao, G. S. Cargill III and C. K. Hu. J. Appl. Phys., 89, 2588 (2003). 13. H. K. Kao, G. S. Cargill III, F. Giuliani, and C. K. Hu. J. Appl. Phys., 93, 2516 (2003). 14. A. T. Wu, K. N. Tu, J. R. Lloyd, N. Tamura, B. C. Valek, and C. R. Kao, Appl. Phys. Lett., 85, 2490 (2004). 15. A. T. Wu, A. M. Gusak, and K.N. Tu, and C. R. Kao, Appl. Phys. Lett., 86, 241902 (2005). 16. A. T. Wu and Y. C. Hsieh, Appl. Phys. Lett., 92, 121921 (2008) 17. V. B. Fiks, Sov. Phys., Solid state, 1, 14 (1959). 18. K. N. Tu, J. W. Mayer and L. C. Feldman, Pearson Education POD, 355 (1996). 19. C. Bosvieux and J. Friedel, J. Phys. Chem. Solid, 23, 123 (1962). 20. R. S. Sorbrllo, Phys. Rev. B, 31, 798 (1985). 21. R. Landauer and J. W. F. Woo, Phys. Rev. B, 10, 1266 (1974). 22. I. A. Blech, J. Appl. Phys., 47, 1203 (1976). 23. I. A. Blech and C. Herring, Appl. Phys. Lett., 29, 131 (1976) 24. C. Herring, J. Appl. Phys., 21, 437 (1950). 25. M. A. Korhonen, P. Borgesen, K. N. Tu and C. Y. Li, J. Appl. Phys., 73, 3790 (1993). 26. J. J. Clement and C. V. Thompson, J. Appl. Phys., 78, 900 (1995). 27. D. D. Brown, J. E. Sanchez, Jr., M. A. Korhonen and C. Y. Li, Appl. Phys. Lett. 67, 439 (1995). 28. R. Kirchheim, Acta Metall. Mater., 40, 309 (1992). 29. National Synchrotron Radiation Research Center” Synchrotron Light Source”. 30. N. Tamura, R.S. Celestre, A. A. MacDowell, H. A. Padmore, R. Spolenak, B. C. Valek, N. Meier Chang, A. Manceau and J. R. Patel, Rev. Sci. Instrum., 73, 1369 (2002). 31. M. A. Korhonen, R. D. Black and C. Y. Li, J. Appl. Phys., 69, 1748 (1991). 32. Electronic thin film science for electrical engineers and materials scientists, K. N. Tu, J. W. Mayer, and L. C. Feldman, 1992 Macmillan Publishing Co.
|