|
[1.1] Martin A. Green, Keith Emery, Yoshihiro Hishikawa, Wilhelm Warta, Prog. Photovolt.: Res. Appl., 17, 85,2009 [1.2] M.K. Nazeeruddin, A. Kay, I. Rodicio, R. Humphry, E. Muller, P. Liska, N. Vlachopoulos, M. Gr¨atzel, J. Am. Chem. Soc. 115, 6382, 1993. [1.3] http://www.pv.unsw.edu.au/am1.5.html [1.4] K. Tennakone, G.R.R. Kumara, I.R.M. Kottegoda, V.S.P. Perera, Chem. Commun., 15, 1999. [1.5] K. Sayama, H. Suguhara, H. Arakawa, Chem. Mater., 10, 3825, 1998. [1.6] G. San Vicente, A. Morales, and M. T. Gutierrez, 391, 133, 2001. [1.7] J. V. Grahn, M. Linder, and E. Fredriksson, J. Vac. Sci. Technol. A, 16, 2495, 1998. [1.8] R. Dannenberg and P. Greene, Thin Solid Films, 360, 122, 2000. [1.9] K. S. Yeung and Y. W. Lam, Thin Solid Films, 109, 169, 1983. [1.10] G. A. Battiston, R. Gerbasi, A. Gregori, M. Porchia, S. Cattarin, and G. A. Rizzi, Thin Solid Films, 371, 126, 2000. [1.11] H. S. Kim, D. C. Gilmer, S. A. Campbell, and D. L. Polla, Appl. Phys. Lett., 69, 3860, 1996. [1.12] Y. Gao and S. A. Chambers, Mater. Lett., 26, 217, 1996. [1.13] H. Nagayama, H. Honda, and H. Kawahara, J. Electrochem. Soc., 135, 2013, 1988. [1.14] C. F. Yeh, S. S. Lin, and T. Y. Hong, IEEE Electron Device Lett., 16, 316, 1995. [1.15] C. F. Yeh, S. S. Lin, C. L. Chen, and Y. C. Yang, IEEE Electron Device Lett., 14, 403, 1993. [1.16] S. Deki, Y. Aoi, O. Hiroi, and A. Kajinami, Chem. Lett., 17, 433, 1996. [1.17] H. Kishimoto, K. Takahama, N. Hashimoto, Y. Aoi, and S. Deki, J. Mater. Chem., 8, 2019, 1998. [1.18] Cameron P. J. and Peter L. M., J. Phys. Chem. B, 107, 14394, 2003. [1.19] Xia J., Masaki N., Jiang K. and Yanagida S., J. Phys. Chem. B, 110, 25222, 2006. [1.20] Hart J. N., Menzies D., Cheng Y. B., Simon G. P. and Spiccia L., C. R. Chimie, 9, 622, 2006. [1.21] I. G. Maslennikova, N. M. Laptash, T. A. Kaidalova, and V. Y. Kavun, Spectroscopy Letters, 34, 775, 2001. [1.22] D. Li, H. Haneda, S. Hishita, and N. Ohashi, Chem. Mater., 17, 2588, 2005. [3.1] I. Moriguchi, K. Sonoda, K. Matuso, S. Kagawa, and T. Yasutake, Chem. Commun., 15, 1344, 2001. [3.2] H. Nagayama, H. Honda, and H. Kawahara, J. Electrochem. Soc., 359, 2013, 1988. [3.3] S. Deki, T. Aoi, O. Hiroi, and A. Kajinami, J. Mater. Chem., 32, 4269, 1997. [3.4] R. H. Schmitt, H. L. Glove, and R. D. Brown, J. Am. Chem. Soc., 82, 5292, 1960. [3.5] C. A. Wamser, J. Am. Chem. Soc., 73, 409, 1951. [3.6] J. C. Yu, J. Yu, L. Zhang, and W. Ho, J. Photochem. Photobiol. A-Chem., 148, 263, 2002. [3.7] J. Pouilleau, D. Devilliers, H. Groult, P. Marcus, J. Mater. Sci., 32, 5645, 1998. J. Phys. Chem. B, 108, 10863, 2004. [3.9] D. Li, H. Haneda, S. Hishita, N. Ohashi, and N. K. Labhsetwar, J. Fluorine Chem., 126, 69, 2005. [3.10] Dong-Gen Huanga, Shi-Jun Liaoa, Jun-Min Liua, Zhi Danga and Leslie Petrikb, J. Photochem. Photobio. A, 184, 282, 2006. [3.11] J.C. Yu, J. Yu, W. Ho, Z. Jiang, and L. Zhang, Chem. Mater., 14, 3808, 2002. [3.12] Z.L. Liu, B. Guo, L. Hong, and H.X. Jiang, J. Phys. Chem. Solids, 66, 161,2005. [3.13] A. Bensalem, F. Bozon-Verduraz, M. Delamar, and G. Bugli, Appl. Catal. A: Gen., 121, 81, 1995.
|