|
參 考 文 獻 1. R.Behrisch, sputtering by Particle Bombardment, Springer-Verlag Berlin and Heidelberg GmbH & Co. KG, P.2. 2. 陳寶清,真空表面處理工學,傳勝出版社,P.20-130 (1992). 3. A. M. Hoff and J. Ruzyllo, Appl. Phys. Lett. 52, 48 (1988). 4. T.Bobek, S.Facsko, T.Dekorsy, and H.Kurz, Phys. Res. B 178, 101-104 (2001). 5. B.Ziberi, F.Frost, and B.Rauschenbach, Appl. Phys. Lett. 88, 173115 (2006). 6. R. Gago and L. Vazquez, Appl. Phys. Lett. 78, 21 (2001). 7. G. Ozaydin, S. Ahmet, Y. Wang, and K. F. Ludwig, Appl. Phys. Lett. 87, 163104 (2005). 8. 近角聰信著,張煦、李學養譯,磁性物理學,聯經出版(1982). 9. 鄭振東,實用磁性材料,全華科技圖書股份有限公司(1999). 10. T. Shinohara, T. Sato and T. Taniyama, Phys. Rev. Lett. 91, 197201. (2003). 11. P. Crespo, A. Hernando, R. Litran, J. C. Sanchez Lopez, C. Lopez Cartes, A. Fernandez, J. Ramirez, J. Gonzalez Calbet, and M.Vallet, Phys. Rev. Lett. 91, 237203 (2003). 12. L. P. Levy, D. H. Reich, L. Pfeiffer, and K. West, Phys. B 189, 204 (1993). 13. S. Neeleshwar, C. L. Chen, C. B. Tsai, Y. Y. Chen,C. C. Chen, S. G. Shyu, and M. S. Seehra, Phys. Rev. B 71, 201307 (2005). 14. P. Esquinazi, D. Spemann, R. Hohne, A. Setzer, K-H. Han, and T. Butz, Phys. Rev. Lett.91, 22 (2003).
15. S. Talapatra, P. G. Ganesan, T. Kim, R. Vajtai, M. Huang, M. Shima, G. Ramanath, D. Srivastava, S. C. Deevi, and P. M. Ajayan, Phys. Rev. Lett. 95, 097201 (2005). 16. T. Dubroca, J. Hack, and R. E. Hummel, Appl. Phys. Lett. 88, 182504 (2006). 17. 田民波,物理,26卷2期 (1997). 18. B. Kahng, H. jeong and A.-L. Barabasi, Appl. Phys. Lett. 78, 6 (2001). 19. Y. Oba, T. Sato, and T. Shinohara, Phys. Rev. B 78, 224417 (2008). 20. 潘漢昌、蘇健穎、蕭健男,科儀新知28卷第三期。 21. G. Ozaydin, A. S. Ozcan, Y. Wang, K. F. Ludwig, H. Zhou, and R. L. Headrick, Appl. Phys. Lett. 87, 163104 (2005). 22. J. W. Rabalais, Low Energy Ion-Surface Interactions, John Wiley & Son Ltd P.402 (1994). 23. S. Dannefaer, V. Avalos, D. Kerr, R.poirier, V. Shmarovoz, and S. H. Zhang, Phys. Rev. B 73, 115202 (2006). 24. T. Asano and Y. Oobuchi, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2 (1995). 25. S. G. Mayr and R. S. Averback, Phys. Rev. B 71, 134102 (2005). 26. W. K. Choi, L. K. Teh, L. K. Bera, and W. K. Chim, J. Appl. Phys. 91, 1 (2002). 27. J. Lu, and M. J. Kushner, J. Appl. Phys. 87, 10 (2000). 28. B. R. Appleton, O. W. Holland, J. Narayan, and O. E. Schow, Appl. Phys. Lett. 41, 8 (1982). 29. L. J. Shi, L. F. Zhu, Y. H. Zhao, and B. G. Liu, Phys. Rev. B 78, 195206 (2008). 30. W. B. Fan, L. J. Qi, H. T. Sun, Y. Y. Zhao and M. Lu, Nanotechology 17, 1878-1883 (2006). 31. D. G. Choi, J. R. Jeong, K. Y. Kwon, H. T. Jung, S. C. Shin and S. M. Yang, Nanotechology 15, 970-974 (2004).
|