|
1.Mach, R.; Mueller, G. O. Semicond. Sci. Techno. 1991, 6, 305. 2.Pope, M.; Kailmann, H. P. J. Chem Phys. 1963, 38, 2042. 3.Tang, C.-W.; VanSlyke, S. A. Appl. Phys. Lett. 1987, 51, 913. 4.Adachi, C.; Tokito, S.; Tsutsui, T.; Saito, S. Japan J. Appl. Phys. Part 2 1988, 27, L713. 5.Era, M.; Adachi, C.; Tsutsui, T.; Saito, S. Chem. Phys. Lett. 1991, 178, 488. 6.Tang, C.-W.; VanSlyke, S. A.; Chen, C.-H. J. Appl. Phys. 1989, 65, 3610. 7.Shen, C.; Hill, I. G.; Kahn, A. Adv. Mater. 1999, 11, 1523. 8.Haskal, E. I.; Curioni, A.; Seidler, P. F.; Andreoni, W. Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 1151. 9.Ishida, T.; Kobayashi, H.; Nakato, Y. J. Appl. Phys. 1993, 73, 4344. 10.Ishii, M.; Mori, T.; Fujikawa, H.; Tokito, S.; Taga, Y. Journal of Luminescence 2000, 87, 1165. 11.Kim, J. S.; Granström, M.; Friend, R. H.; Johansson, N.; Salaneck, W. R.; Daik, R.; Feast, W. J.; Cacialli, F. J. Appl. Phys. 1998, 84, 6859. 12.Mason, M. G.; Hung, L.-S.; Tang, C.-W.; Lee, S.-T.; Wong, K.-W.; Wang, M. J. Appl. Phys. 1999, 86, 1688. 13.Bender, M.; Trube, J.; Stollenwerk, J. Appl. Phys. A 1999, 69, 397. 14.Maruyama, T.; Fukui, K. Thin Solid Films 1991, 203, 297. 15.Vasu, V.; Subrahmanyam, A. Thin Solid Films 1990, 193/194, 696. 16.Shi, J.; Tang, C.-W. Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 1665. 17. (a) Klupfel, K.-W.; Sus, O.; Behmenburg, H.; Neugebauer, W. US 3,180,730, 1965.; (b) Brantly, T. B.; Contois L. E.; Fox, C. J. US 3,567,450, 1971.; (c) Brantly, T. B.; Contois, L. E.; Fox, C. J. US 3,658,520, 1972. 18.Kuwabara, Y.; Ogawa, H.; Inada, H.; Noma, N.; Shirota, Y. Adv. Mater. 1994, 6, 677. 19. Inada, H.; Shirota Y. J. Mater. Chem. 1993, 3, 319. 20.Salbeck, J.; Yu, N.; Bauer, J.; Weissoörtel, F.; Bestgen, H. Synth. Met. 1997, 91, 209. 21.PBD: (a) Adachi, C.; Tsutsui, T.; Saito, S. Appl. Phys. Lett. 1989, 55, 1489. (b) Pommerehne, J.; Vesweber, H.; Guss, W.; Mahrt, R. F.; Bassler, H.; Porsch, M.; Daub, J. Adv. Mater. 1995, 7, 551. (c) Adachi, C.; Tsutsui, T.; Saito, S. Appl. Phys. Lett. 1990, 56, 779. 22. TAZ: (a) Kido, J.; Ohtaki, C.; Hongawa, K.; Okuyama, K. Nagi, K. Jpn. J. Appl. Phys. Part 2 1993, 32, L917. (b) Kido, J.; Hongawa, K.; Okuyama, K.; Nagi, K. Appl. Phys. Lett. 1993, 63, 2627. (c) Kido, J.; Kimura, M.; Nagi, K. Science 1995, 267, 1332. 23.TRZ: Fink, R.; Heischkrl, Y.; Thelakkat, M.; Schmidt, H.-W.; Jonda, C.; Huppauff, M. Chem. Mater. 1998, 10, 3620. 24.Lo, S.-C.; Male, N. A. H.; Markham, J. P. J.; Magennis, S. W.; Burn, P. L.; Salata, O. V.; Samuel, I. D. W. Adv. Mater. 2002, 14, 975. 25.Hosokawa, C.; Tokailin, H.; Higashi, H. and Kusumoto, T. Appl. Phys. Lett. 1992, 60, 1220. 26.Hamada, Y.; Sano, T.; Fujita, T.; Nishio, Y.; Shibata, Y. Japan J. Appl Phys. 1993, Part 2, 32, L514. 27.Wu, C.-C.; Liu, T.-L.; Hung, W.-Y.; Lin, Y. T.; Wong, K.-T.; Chien, Y.-Y.; Chen, R.-T. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 3710. 28.Elschnerm, A.; Bruder, F.; Heuer, H.-W.; Jonas, F.; Karbach, A.; Kirchmeyer, S.; Thurm, S. Syn. Met. 2000, 111, 139. 29.Saitoh, A.; Yamada, N.; Yashima, M.; Okinaka, K. Proceeding of SID’04, P.150, May 23-28, 2004, Seattle, Washington, USA. 30.Suzuki, K.; Seno, A.; Tanabe, H.; Ueno, K. Synth. Met, 2004, 143, 89. 31.Lee, M.-T.; Chen, H.-H.; Liao, C.-H.; Tasi, C.-H.; Chen, C.-H. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 3301. 32.(a)Wong, K. T.; Chien, Y. Y.; Chen, R. T.; Wang, C. F.; Lin, Y. T.; Chiang, H. H.; Hsieh, P. Y.; Wu, C. C.; Chou, C. H.; Su, Y. O.; Lee, G. H.; Peng, S. M. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 11576. (b) 趙登志,國立台灣大學博士論文,寡聚芴及含茚噻吩寡聚物之合成、性質與應用,中華民國95年6月。 33.Ohmori, Y.; Uchida, K.; Muro, K.; Yoshino, K. Jpn. J. Appl. Phys. 1991, 30, 1941. 34.Yang,Y.; Pei, Q.; Heeger, A. J.; J. Appl. Phys. 1996, 79, 934 35.Remmers, M.; Neher, D.; Grüner, J.; Friend, R. H.; Gelinck, G. H.; Warman, J. M.; Quattrocchi, C.; dos Santos,D. A.; BreÂdas, J.-L. Macromolecules. 1996, 29, 7432 36.Setayesh,S. ; Marsitzky, D.; Müllen, K. Macromolecules. 2000, 33, 2016. 37.Grimsdale, A. C.; Lecle`re, Ph.; Lazzaroni, R.; MacKenzie, J. D.; Murphy, C.; Setayesh, S.; Silva, C.; Friend, R. H.; Müllen, K. Adv. Funct. Mater. 2002, 12, 729. 38.Scherf, U. J. Mater. Chem. 1999, 9, 1853. 39.Jacob, J.; Sax, S.; Piok, T.; List, E. J. W.; Grimsdale, A. C.; Müllen, K. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 6987. 40.Jacob, J.; Zhang, J.; Grimsdale, A.; Müllen, K. Macromolecules. 2003, 36, 8240. 41.(a) Bellmann, E.; Shaheen, S. E.; Grubbs, R. H.; Marder, S. R.; Kippelen, B.; Peyghambarian, N. Chem. Mater. 1999, 11, 399. (b)Shaheen, S. E.; Jabbour, G. E.; Kippelen, B.; Peyghambarian, N.; Anderson, J. D.; Marder, S. R.; Armstrong, N. R.; Bellmann, E.; Grubbs, R. H. Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 3212. 42. (a) Smith, P. F.; Gerroir, P.; Xie, S.; Hor, A. M.; Popovic, Z. Langmuir 1998, 14, 5946. (b) Fenter, P.; Schreiber, F.; Bulovic´, V.; Forrest, S. R. Chem. Phys. Lett. 1997, 277, 521 43.(a) The strain energy in tetrafluoroethylene was found to be 41.2 vs 22.39 kcal/mol for ethylene whereas the strain energy of perfluorocyclobutane is 32.0 vs 26.2 kcal/mol in cyclobutane. ( Bernett, W. A. J. Org. Chem. 1969, 34, 1772) 44. The C=C π-bond dissociation energy of ethylene was found to be 64-65 kcal/mol (Wang, S. Y.; Borden, W. T. J. Am. Chem. Soc. 1989, 111, 7282) whereas that for tetrafluoroethylene was 53 kcal/mol (Wu, E. C.; Rodgers, A. S. J. Am. Chem. Soc. 1976, 98, 6112) 45.Feiring, A. E. In Organofluorine Chemistry Principles and Commercial Applications; Banks, R. E., Smart, B. E., Tatlow, J. C., Eds.; Plenum Press: New York, 1994; Chapter 15, p 339. 46.Jiang, X. Z. ; Liu, S. Liu, M. S.; Herguth, P.; Jen, A. K.-Y.; Fong, H.; Sarikaya, M. Adv. Funct. Mater. 2002, 12, 745 47.Niu,Y.-H.; Tung, Y.-L.; Chi, Y.; Shu, C.-F.; Kim, J. H.; Chen, B.; Luo, J.; Carty, A. J.; Jen, A. K.-Y. Chem. Mater. 2005, 17, 3532 48. Greczynski, G.; Kugler, Th.; Salaneck, W. R. Thin Solid Films 1999, 354, 129. 49.(a) de Jong, M. P.; van lJzendoom, L.; de Voigt, M. J. A. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 2255. (b) Lee, Y. J. Synth. Met. 2006, 156, 537. (c) Wong, K. W.; Yip, H. L.; Luo, Y.; Wong, K. Y.; Lau, W. M.; Low, K. H.; Chow, H. F.; Gao, Z. Q.; Yeung, W. L.; Chang, C. C. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 2788. 50.Graham, W. D.; Green, J. G.; Pryor W. A. J. Org. Chem. 1979, 44, 907 51.Klärner, G.; Lee, J.-I.; Lee, V. Y. E.; Chan, J.-P.; Chen, A.; Nelson, D.; Markiewicz, R.; Siemens, J. C. Scott, and R. D. Miller Chem. Mater. 1999, 11, 1800 52.Cheng, Y.; Liu, M. S.; Zhang, Y.; Niu, Y.; Huang, F.; Ka, J.; Yip, H.; Tian, Y.; Jen, A. K. Chem. Mater. 2008, 20, 413 53.Seo, E. T.;Nelson, R. F.; Fritsch, J. M.; Marcoux, L. S.; Leedy, D. W.;Adams, R. N. J. Am. Chem. Soc. 1966, 88, 3498
|