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臺灣博碩士論文加值系統

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研究生:黃瑞卿
研究生(外文):Ruei- Ching Huang
論文名稱:使用微成形製程研製高分子濾波器
論文名稱(外文):Using a micro-molding process to fabricate polymeric wavelength filters
指導教授:何智廷何智廷引用關係
學位類別:碩士
校院名稱:國立虎尾科技大學
系所名稱:機械與機電工程研究所在職專班
學門:工程學門
學類:機械工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2009
畢業學年度:97
語文別:中文
論文頁數:75
中文關鍵詞:全象術干涉微成形高分子
外文關鍵詞:holographic interferometrymicro-moldingpolymeric
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在本篇論文裡,主要的研究是透過微成形鑄造以及黃光微影製程來製造高分子濾波器。首先,全象術干涉技術是使用波長為325nm的氦鎘雷射去產生一個i-line光線,將此光線打在次微米的正光阻膜上時,可以得到一個附有週期結構的母膜。在正光阻劑上濺渡一層20nm的鎳金屬薄膜後可以從鑄件的母模上獲得一個擁有週期圖案的UV高分子材料,最後經由測量顯示出附有高深寬比光柵的波導其波導長度會減少。
In this thesiss, a procedure for fabricating polymeric wavelength filters using holographic interferometry and molding processes is described. First, holographic interferometry using a He-Cd (325nm) laser was used to create the master of the periode line structure on an i-line sub-micron positive photoresist film.A 20nm nickel thin film was then sputtered on the photoresist. Final line pattern on a UV polymer was form from casting against the master mold. Finally, a SU8 polymer was spun on the polymer grating to form a planar waveguide. The measurement results were consistent with theoretical predictions.
摘 要 i
Abstract ii
致 謝 iii
第一章 緒論 1
1.1 前言 1
1.2 研究動機與目的 3
1.3論文架構 4
第二章 研究背景之理論與探討 5
2.1 微機電系統(Micro Electro-Mechanical System,MEMS)之定義5
2.2 MEMS之製造技術 7
2.2.1 MEMS 領域中微製造技術分類表 13
2.3 微機電之應用領域 14
2.3.1各種微細加工技術比較 20
2.4 微射出成型(Micro-Injection Molding) 21
2.4.1微射出成型之技術發展 22
2.4.2 微射出成型之模具、模仁 23
2.4.3 微模具(模仁)材料的探討 26
2.4.4 微射出與傳統射出的差異 26
2.5 全像術光柵之分類及特性 30
2.5.1光柵分類依光與材料發生的交互作用,光柵可分成四類[1]:30
2.5.2光柵的特性體積光柵(volume grating)和細薄光柵(thin grating)的特性探討[3] 32
2.6 光波導理論 36
2.7光波導元件介紹 37
2.8 高分子材料探討 39
2.8.1 高分子材料特性 39
2.9 SU8高分子波導特性討論 40
2.10 製作波導 41
2.11 光學微影之主要步驟及定義 41
2.12 光阻材料之探討 46
第三章 高分子濾波器研製 50
3.1實驗流程 50
3.1.1 高分子布拉格光柵元件架構說明 51
3.2全像術干涉技術與全像術的特點 51
3.2.1全像術 51
3.2.2 架設順序 53
3.2.3 全像術的特點 53
3.2.4 光學全像干涉系統架構與干涉角度計算 54
3.3 高分子濾波器之製程探討及實驗流程 57
3.3.1 製程探討 57
3.3.2 實驗製作流程 57
第四章 高分子濾波器元件測量 65
4.1 使用SEM和AFM量測光柵個別在正光阻、鎳和UV高分子材料上的結果。65
4.2 高分子濾波器元件之光譜特性 67
第五章 結論 70
參考文獻 71
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