臺灣博碩士論文加值系統

以彩色濾光片在產品線的評估設置角度而言，常常亦需搭配現今主流之市場TFT-LCD面板尺寸需求性以及廠區建置成本之資本資出預算，合併做出最適當之建廠或擴線考量規劃。若能利用現有機台達成產能擴充的目標，相較於新購置機台或是新增廠房，對於公司的整體經營成本，將更具競爭優勢。本研究即是進行縮短彩色濾光片OVEN固烤製程時間之先期性評估；其原理是利用彩色光阻高分子流變特性以補償因OVEN固烤製程時間縮短，所產生光阻Taper angle特性不佳之相關問題；同時並依據SEM(掃瞄式電子顯微鏡)所解析之結果，作為溫度補償實驗進行方向之實質明確依據。
而經由不同OVEN製程溫度補償的調整實驗得知：在縮短OVEN固烤製程時間後，而產生的光阻Taper angle特性不良變化，是可以利用再優化之固烤製程溫度提升搭配對應光阻本身之高分子流變原理，來成功達成實務上縮短固烤製程時間之具體應用實例。

The expansion of color filter production line frequently related to huge capital investment, therefore, a careful assessment of the situation on the demand on the variety of TFT-LCD displays; the setup cost as well as the factory district establishment is necessary. Normally, the most suitable plan will reveal the cost consideration on production line expansion or new factory construction. If the appraisal conclusions showed that the same achievement can be made by the efforts to upgrade or expand on the existing machines at less cost than to purchase the new equipments, the final decision for competitive advantage regarding the cost is apparent. This research is the study in upgrading the existing machines of the color filter production line by reducing the color filter oven process heating period to achieve a goal of increasing the productivity. It based on the rheology characteristics of photoresist polymer to study in reducing the Color Filter oven process heating period by the experiment of temperature compensation on the correct basis. From the SEM analysis results, the control of heating time and the compensation on the both "time and temperature" during the color filter over process can expect to obtain a solution that solves the quality issue of the photoresist taper angle. The performance of the "time and temperature" recipe is verified through the in-line process experiments, and the effectiveness is confirmed by FTIR analysis procedures. This "time and temperature" recipe is currently introduced in the color filter production process.

中文摘要-------------------------------------------i
英文摘要-------------------------------------------ii
誌謝-----------------------------------------------iii
目次-----------------------------------------------iv
表目錄---------------------------------------------vi
圖目錄---------------------------------------------vii
第一章 緒論----------------------------------------1
1.1 研究動機與緣起---------------------------------1
1.2 研究目的---------------------------------------1
1.3 研究架構---------------------------------------1
第二章 文獻探討------------------------------------2
2.1 高分子流變相關文獻探討-------------------------2
2.2 高分子流變特性簡介-----------------------------8
2.3 高分子CF光阻簡介-------------------------------9
2.4 高分子流變與溫度關係---------------------------12
第三章 實驗流程規劃與步驟--------------------------16
3.1 實驗量測儀器原理-------------------------------16
3.2 實驗流程規劃-----------------------------------17
3.3 CF LAYER設計-----------------------------------18
3.4 實驗步驟---------------------------------------21
3.5 實驗相關化學藥品-------------------------------22
第四章 實驗結果與討論------------------------------23
4.1 實驗過程之光阻斷面型態Taper angle判定依據來源--23
4.2 實驗過程說明-----------------------------------23
4.3 FTIR分析---------------------------------------34
4.4 實驗結果之信賴性分析---------------------------37
第五章 結論與建議----------------------------------41
5.1 結論-------------------------------------------41
5.2 實驗過程之注意事項-----------------------------41
5.3 未來展望---------------------------------------42
參考文獻-------------------------------------------43
附錄：---------------------------------------------45
論文期刊發表，化工資訊與商情，第60期，民國97年六月
期刊發行：工業技術研究院材料與化工研究所
期刊發表Title：利用高分子流變特性縮短彩色濾光片固烤製程時間評估

[1]林昭文，陳瑞堂，劉少筠，「顏料分散型彩色光阻劑發展趨勢及展望」，電子與材料，第7期，民國89年8月。
[2]李秀玉，「應用賽局理論分析我國薄膜電晶體液晶顯示器產業之競爭策略」，國立交通大學，碩士論文，民國88年。
[3]曾福勝，黃導陽，「彩色濾光片之製程技術與發展趨勢」，電子與材料，第11期，民國90年8月。
[4]陳姿秀，「同時聚合下製備聚苯乙烯/矽膠高分子混成體」，國立中央大學，碩士論文，民國88年。
[5]蔡育田，「高分子鏈在強拉伸流場下之研究」，國立中央大學，碩士論文，民國93年。
[6]鄭宗興，「偶氮系光敏感化合物合成及甲基丙烯酸酯系感光性高分子正、負型光阻製備與研究」，國立中央大學化學，碩士論文，民國93年。
[7]杜逸虹，聚合體學，三民書局股份有限公司，民國92年。
[8]謝俊雄，塑膠工程學，文京圖書有限公司，民國80年。
[9]邱以泰，胡應強，「塑膠高分子流變學」，電子與材料，第8期，139~140頁，民國89年11月。
[10]劉世榮，高分子流變學，滄海書局，民國94年。
[11]李榮哲，「LCD彩色濾光片材料」，化工技術，第三期，166~181頁，民國91年3月。
[12]張德宜，黃國棟，彭智偉，阮春惠，「感光樹脂」，工業材料雜誌，第211期，民國93年7月。
[13]郭東嶂，「Deep UV 高分子光阻劑之合成與其特性研究」，國立台灣大學，碩士論文，民國86年。
[14]黃振球，圖解高分子材料最前線，全華科技圖書股份有限公司，民國85年。
[15]李榮哲，「光阻材料在新世代顯示器的應用」，電子與材料雜誌，第11期，民國90年8月。
[16]李榮哲，「LCD濾光板用彩色光阻」，工業材料，第140期，民國87年8月。
[17]林建中，周宗華，高分子材料，文京圖書有限公司，民國91年。
[18]林建中，高分子化學原理，狀元出版社，民國78年。
[19]許文輔，「塗料的表面張力及流變性質之測量法」，化工技術，第五期，94~101頁，民國84年5月。
[20]王明光，王敏昭，實用儀器分析，合記圖書出版社，民國92年。
[21]曾伯逸，「含Ketal基化學增幅型光阻劑之合成及特性研究」，國立成功大學，碩士論文，民國91年。
[22]李孟錴，許明德，「彩色濾光片生產製程對色度的影響」，工業材料雜誌，第197期，民國92年5月。
[23]N. Shichiri, "Photoresist for color filter", Japanese patent No. JP2002071930.
[24]T. Suzuki, et. al., "Light sensitive alkali developable photoresist material with fluorine surfactant containing color layer", U.S. patent No. 4,803,145.
[25]T. Watanabe, K. Kusano, "Forming method for black matrix for color filter, substrate for formation and photoresist", Japanese patent No. JP9101407.
[26]溫俊祥，「彩色濾光板材料與製程技術」，化工技術，第11期，180-198頁，民國91年11月。
[27]蔡禮全，「影響有機顏料分散的重要特性(上) 」，工業材料，第110期，92-97頁，民國85年2月。
[28]蔡禮全，「影響有機顏料分散的重要特性(下) 」，工業材料,第111期, 142-148頁，民國85年3月。
[29]S. Hozumi, , "Negative photoresist for color filter", Japanese patent No. JP7028241.
[30]顧鴻壽，光電液晶平面顯示器-技術基礎及運用，新文京開發公司，民國93年。
[31]蕭宏，半導體製程技術導論，歐亞書局有限公司，民國90年。
[32]葉文冠，翁俊仁，半導體製程技術與元件設計，東華書局，民國97年。
[33]龍文安，積體電路微影製程，高立出版社，民國87年。
[34]W. M. Moreau, Semiconductor Lithography, Plenum, New York, 1991.
[35]N. Saburo, et. al., Microlithography fundamentals in semiconductor devices and fabrication technology, Marcel Dekker, Inc., New York, 1998.
[36]施仁傑，「壓克力系脂環族共聚物之合成及其在光酸增幅型光阻劑之應用研究」，國立成功大學，博士論文，民國90年。
[37]許兼貴，「深紫外線抗反射技術及次100奈米世代電子束直寫阻劑特性研究」，國立清華大學，碩士論文，民國90年。
[38]陳啟東，「微影技術簡介」，科學月刊，202-209頁，民國88年3月。
[39]王應瓊，儀器分析，中央圖書社，民國83年。
[40]黃永盛，「SEM/EDS與FIB的原理及其在半導體工業之應用」，科儀新知，第三期，36-54頁，民國84年12月。