[1] H. Amano, I. Akasaki, K. Hiramatsu, and N. Koide, Thin Solid Films, 163 (1988) 415.
[2] I. Akasaki, H. Amano, Y. Koide, K. Hiramatsu, and N. Sawaaki, J. Cryst. Growth, 98 (1989) 209.
[3] H. Amano, M. Kito, K. Hiramatsu, and I. Akasaki, Jpn. J. Appl. Phys., 28 (1989) L2112.
[4] S. Nakamura, M. Senoh, and T. Mukai, Jpn. J. Appl. Phys., 30 (1991) L1708.
[5] S. Nakamura, T. Mukai, M. Senoh, and N. Iwasa, Jpn. J. Appl. Phys., Part2, 31 (1992) L139.
[6] T. Makino, A. Ohtomo, C. H. Chia, Y. Segawa, H. Koinuma, M. Kawasaki, Physica E, 21 (2004) 671.
[7] C. E. Morosanu, “Thin Films by Chemical Vapor Deposition”, New York : Elsevier 1990, pp.101-137.
[8] H. O. Pierson, “Handbook of Chemical Vapor Deposition”, Noyes Publications, Second Edition, 1999, pp.17-31.
[9] K. J. Sladek, J. Electrochem. Soc., 118 (1971) 654.
[10] J. E. Ayers, ”Heteroepitaxy of semiconductor.”, CRC Press, 2006, pp.117-127, 163-199, 355-389.
[11] J. Mlynek, M. Linscheid, Transmission electron microscopy studies of GaN/γ-LiAlO2 heterostructuers, Ph.D Dissertation, Humboldt-Universität zu Berlin Germany, (2004).
[12] 羅吉宗譯,“薄膜科技與應用(修訂版)”,全華科技圖書股份有限公司出版,2005年,pp. 5-14~5-15。
[13] P. Waltereit, O. Brandt, A. Trampert, H. T. Grahn, J. Menniger, M. Ramsteiner, M. Reiche, and K. H. Ploog, Nature, 406 (2000) 865.
[14] M. Marezio, Acta Crys.,18 (1965) 396.
[15] 黃鐙興,“磊晶於鋰酸鋁基板的氧化鋅薄膜成長機構研究與缺陷分析”,國立中山大學材料科學研究所碩士論文 (2008)。[16] 陳正桓,“以自遮罩法成長氧化鋅磊晶”,國立中山大學材料科學研究所碩士論文 (2009)。[17] M. Marezio, Acta Crys.,18 (1965) 481.
[18] T. Ishii, Y. Tazoh, S. Miyazawa, J. Cryst. Growth, 186 (1998) 409.
[19] S. Duan, X. Teng, P. Han, D. C. Lu, J. Cryst. Growth, 195 (1998) 304.
[20] M. Okada, Y. Higaki, T. Yanagi, Y. Shimizu, Y. Nanishi, T. Ishii, S.Miyazawa, J. Crystal Growth 189/190 (1998) 213.
[21] T. Huang, S. Zhou, H. Teng, H. Lin, J. Wang, P. Han, and R. Zhang, J. Cryst. Growth, 310 (2008) 3144.
[22] H. Amano, I. Akasaki, K. Hiramatsu, N. Koide, and N. Sawaki, Thin Solid Films, 163 (1988) 415.
[23] H. Amano, I. Akasaki, K. Hiramatsu, N. Koide, and N. Sawaki, J. Cryst. Growth, 98 (1989) 209.
[24] K. Hiramatsu, S. Itoh, H. Amano, I. Akasaki, N. Kuwamo, T, Shiraishi, and K. Oki, J. Cryst. Growth, 115 (1991) 628.
[25] P. Chen, S.Y. Xie, Z.Z. Chen, Y.G. Zhou, B. Shen, R. Zhang, Y.D. Zheng, J. M. Zhu, M. Wang, X. S. Wu, S. S. Jiang, and D. Feng, J. Cryst. Growth, 213 (2000) 27.
[26] P. R. Hagaman, S. Haffouz, V. Kirilyuk, A. Grzegorczyk, and P. K. Larsen, Phys. Stat. Sol.,188 (2001) 523.
[27] S. Yoshida, S. Misawa, and S. Gonda, J. Vac. Sci. Technol. B, 1 (1983) 250.
[28] S. Yoshida, S. Misawa, and S. Gonda, Appl. Phys. Lett., 42 (1983) 427
[29] T. Hashimoto, M. Yuri, M. Ishida, Y. Terakoshi, O. Imafuji, T. Sugino, and K. Itoh, Jpn. J. Appl. Phys., 38 (1999) 6605.
[30] K. Hoshino, N. Yanagita, M. Araki, K. Tadatomo, J. Cryst. Growth, 298 (2007) 232.
[31] N. Oshima, H. Yonezu, S. Yamahira, and K. Pak, J. Cryst. Growth,189 (1998) 275
[32] S. Nakamura, Jpn. J. Appl. Phys., 30 (1991) L1705
[33] H. Amano, N. Sawaki, I. Akasaki, and Y. Toyoda, Appl. Phys. Lett., 48 (1986) 353.
[34] J. N. Kuznia, M. Asif Khan, D. T. Olson, R. Kaplan, and J. Freitas, J. Appl. Phys., 73 (1993) 4700.
[35] H. Murakami, Y. Kangawa, Y. Kumagai, and A. Koukitu, Jpn. J. Appl. Phys., 42 (2003) L526.
[36] H. Murakami, N. Kawaguchi, Y. Kangawa, Y. Kumagai, and A. Koukitu, J. Cryst. Growth, 275 (2005) 1149
[37] K. Uchida, K. Nishida, M. Kondo, and H. Munekada, Jpn. J. Appl. Phys., 37 (1998) 3882.
[38] V. Khranovskyy, R. Minikayev, S. Trushkin, G. Lashkarev, V. Lazorenko,
U. Grossner, W. Paszkowicz, A. Suchocki, B. G. Svensson, and R. Yakimova, J. Cryst. Growth, 308 (2007) 93.
[39] T. Nakamura, Y. Yamada, T. Kusumori, H. Minoura, and H. Muto, Thin Solid Films 411 (2002) 60.
[40] S. H. Jeong, I. S. Kim, S. S. Kim, J. K. Kim, B. T. Lee, J. Cryst. Growth, 264 (2004) 110.
[41] Y. Chen, S. K. Hong, H. J. Ko, V. Kirshner, H. Wenisch, T. Yao, K. Inaba, and Y. Segawa. Appl. Phys. Lett. 78 (2001) 3352.
[42] Y. Chen, H. J. Ko, S. K. Hong, T. Yao, and Y. Segawa, J. Cryst. Growth, 214 (2000) 87.
[43] Y. F. Chen, H. Ko, S. K. Hong, T. Yao, Appl. Phys. Lett., 76 (2000) 559.
[44] H. Kato, K. Miyamoto, M. Sano, and T. Yao, Appl. Phys. Lett., 84 (2004) 4562.
[45] K. Miyamoto, M. Sano, H. Kato, and T. Yao, J. Cryst. Growth, 265 (2004) 34.
[46] K. Vanheusden, W. L. Warren, C. H. Seager, D. R. Tallant, J. A. Voigt, and B. E. Gnade, J. Appl. Phys., 79 (1996) 10.
[47] R. J. Hill, J. R. Craig, and G.V. Gibbs, Phys. Chem. Miner., 4 (1979) 317.
[48] A S Risbud, R Seshadri, J Ensling, and C Felser, J. Phys.: Condens. Matter 17 (2005) 1003.