|
[1] L. R. Sheppard, J. Nowotny, Adv. Appl. Ceram. 2007, 106, 9. [2] A. Fujishima, K. Honda, Nature 1972, 238, 37. [3] S. U. M. Khan, M. Al-Shahry, W. B. Ingler, Science 2002, 297, 2243. [4] H. S. Jung, Y. J. Hong, Y. Li, J. Cho, Y. J. Kim, G. C. Yi, ACS Nano 2008, 2, 637. [5] C. G. Walle, J. Neugebauer, Nature 2003, 423, 626. [6] M. Ono, K. Fujii, T. Ito, A. Hirako, T. Yao, K. Ohkawa, J. Chem. Phys. 2007, 126, 054708. [7] O. Khaselev, J. A. Turner, Science 1998, 280, 425. [8] J. D. Beach, R. T. Collins, J. A. Turner, J. Electrochem. Soc. 2003, 150, A899. [9] K. Fujii, T. Karasawa, K. Ohkawa, Jpn. J. Appl. Phys. 2005, 44, L543. [10] I. Waki, D. Cohen, R. Lal, U. Mishra, S. P. DenBaars, S. Nakamura, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 093519. [11] K. Fujii, Y. Iwaki, H. Masui, T. J. Baker, M. Iza, H. Sato, J. Kaeding, T. Yao, J. S. Speck, S. P. Denbaars, S. Nakamura, K. Ohkawa, Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 - Regul. Pap. Brief Commun. Rev. Pap. 2007, 46, 6573. [12] I. M. Huygens, A. Theuwis, W. P. Gomes, K. Strubbe, Phys. Chem. Chem. Phys. 2002, 4, 2301. [13] R. S. Chen, H. Y. Chen, C. Y. Lu, K. H. Chen, C. P. Chen, L. C. Chen, Y. J. Yang, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 3. [14] R. S. Chen, S. W. Wang, Z. H. Lan, J. T. H. Tsai, C. T. Wu, L. C. Chen, K. H. Chen, Y. S. Huang, C. C. Chen, Small 2008, 4, 925.
[1] J. D. Beach, R. T. Collins, J. A. Turner, J. Electrochem. Soc. 2003, 150, A899. [2] X. S. Peng, K. Koczkur, S. Nigro, A. C. Chen, Chem. Commun. 2004, 2872. [3] B. J. Rodriquez, W.-C. Yang, R. J. Nemanich, A. Gruverman, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 112115. [4] R. Calarco, M. Marso, T. Richter, A. I. Aykanat, R. Meijers, A. v.d. Hart, T. Stoica, H. Lth, Nano Lett. 2005, 5, 981. [5] R. Lewandowska, J. L. Weyher, J. J. Kelly, L. Konczewicz, B. Lucznik, J. Cryst. Growth 2007, 307, 298. [6] M. Ono, K. Fujii, T. Ito, A. Hirako, T. Yao, K. Ohkawa, J. Chem. Phys. 2007, 126, 054708.
[1] N. Tian, Z. Y. Zhou, S. G. Sun, Y. Ding, Z. L. Wang, Science 2007, 316, 732. [2] X. Q. Gong, A. Selloni, J. Phys. Chem. B 2005, 109, 19560. [3] X. Q. Gong, A. Selloni, J. Catal. 2007, 249, 134. [4] X. Q. Gong, A. Selloni, A. Vittadini, Abstr. Pap. Am. Chem. Soc. 2006, 231, 481. [5] K. Fujii, Y. Iwaki, H. Masui, T. J. Baker, M. Iza, H. Sato, J. Kaeding, T. Yao, J. S. Speck, S. P. Denbaars, S. Nakamura, K. Ohkawa, Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 - Regul. Pap. Brief Commun. Rev. Pap. 2007, 46, 6573. [6] H. M. Ng, N. G. Weimann, A. Chowdhury, J. Appl. Phys. 2003, 94, 650. [7] D. Zhuang, J. H. Edgar, Mat. Sci. Eng. R 2005, 48, 1. [8] J. D. Beach, R. T. Collins, J. A. Turner, J. Electrochem. Soc. 2003, 150, A899. [9] K. Yang, Y. Dai, B. Huang, M.-H. Whangbo, Chem. Mater. 2008, 6528. [10] D. Q. Fang, A. L. Rosa, T. Frauenheim, R. Q. Zhang, Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 3. [11] B. J. Rodriquez, W.-C. Yang, R. J. Nemanich, A. Gruverman, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 112115. [12] R. Calarco, M. Marso, T. Richter, A. I. Aykanat, R. Meijers, A. v.d. Hart, T. Stoica, H. Lth, Nano Lett. 2005, 5, 981. [13] R. Lewandowska, J. L. Weyher, J. J. Kelly, L. Konczewicz, B. Lucznik, J. Cryst. Growth 2007, 307, 298. [14] M. Ono, K. Fujii, T. Ito, A. Hirako, T. Yao, K. Ohkawa, J. Chem. Phys. 2007, 126, 054708.
[1] K. Fujii, T. Karasawa, K. Ohkawa, Jpn. J. Appl. Phys. 2005, 44, L543. [2] I. Waki, D. Cohen, R. Lal, U. Mishra, S. P. DenBaars, S. Nakamura, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 093519. [3] M. Ono, K. Fujii, T. Ito, A. Hirako, T. Yao, K. Ohkawa, J. Chem. Phys. 2007, 126, 054708. [4] K. Fujii, K. Ohkawa, J. Electrochem. Soc. 2006, 153, A468. [5] K. Fujii, K. Ohkawa, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 2005, 44, L909. [6] K. Fujii, Y. Iwaki, H. Masui, T. J. Baker, M. Iza, H. Sato, J. Kaeding, T. Yao, J. S. Speck, S. P. Denbaars, S. Nakamura, K. Ohkawa, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 2007, 46, 6573. [7] Y. Gao, M. D. Craven, J. S. Speck, S. P. DenBaars, E. L. Hu, Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 3322. [8] D. A. Stocker, E. F. Schubert, J. M. Redwing, Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 2654. [9] D. A. Stocker, I. D. Goepfert, E. F. Schubert, K. S. Boutros, J. M. Redwing, J. Electrochem. Soc. 2000, 147, 763. [10] D. Zhuang, J. H. Edgar, Mat. Sci. Eng. R 2005, 48, 1. [11] D. A. Stocker, E. F. Schubert, J. M. Redwing, Applied Physics Letters 1998, 73, 2654. [12] J. D. Beach, R. T. Collins, J. A. Turner, J. Electrochem. Soc. 2003, 150, A899. [13] X. S. Peng, K. Koczkur, S. Nigro, A. C. Chen, Chem. Commun. 2004, 2872. [14] A. Shintani, S. Minagawa, J. Electrochem. Soc. 1976, 123, 707. [15] T. Kozawa, T. Kachi, T. Ohwaki, Y. Taga, N. Koide, J. Electrochem. Soc. 1996, 143, L17. [16] P. Visconti, K. M. Jones, M. A. Reshchikov, R. Cingolani, H. Morkoc, R. J. Molnar, Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 3532. [17] R. Lewandowska, J. L. Weyher, J. J. Kelly, L. Konczewicz, B. Lucznik, J. Cryst. Growth 2007, 307, 298. [18] K. Fujii, Y. Iwaki, H. Masui, T. J. Baker, M. Iza, H. Sato, J. Kaeding, T. Yao, J. S. Speck, S. P. Denbaars, S. Nakamura, K. Ohkawa, Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 - Regul. Pap. Brief Commun. Rev. Pap. 2007, 46, 6573. [19] D. R. e. Lide, CRC Handbook of Chemistry and Physics, CRC Press LLC, 2002-2003. [20] P. Holt-Hindle, Q. F. Yi, G. S. Wu, K. Koczkur, A. C. Chen, J. Electrochem. Soc. 2008, 155, K5. [21] K. Koczkur, Q. F. Yi, A. C. Chen, Adv. Mater. 2007, 19, 2648. [22] V. Spagnol, E. Sutter, C. Debiemme-Chouvy, H. Cachet, B. Baroux, Electrochim. Acta 2009, 54, 1228. [23] M. Sumiya, K. Ohara, T. Ohsawa, Y. Kawai, M. Shirai, S. Fuke, H. Koinurna, Y. Matsumoto, "Photo-catalysis effect of III-V nitride film", presented at International Workshop on Nitride Semiconductors 2006 (IWN 2006), Kyoto, JAPAN, Oct 22-27, 2006. [24] P. Atkins, J. de Paula, Atkins'' Physical Chemistry, Oxford University Press, Oxford University 2006. [25] N. Tian, Z. Y. Zhou, S. G. Sun, Y. Ding, Z. L. Wang, Science 2007, 316, 732. [26] C. H. Cho, M. H. Han, D. H. Kim, D. K. Kim, Mater. Chem. Phys. 2005, 92, 104.
[1] R. van de Krol, Y. Q. Liang, J. Schoonman, J. Mater. Chem. 2008, 18, 2311. [2] R. Memming, Semiconductor Electrochemistry, Wiley, Weinheim 2000. [3] M. W. Kanan, D. G. Nocera, Science 2008, 321, 1072. [4] M. W. Kanan, Y. Surendranath, D. G. Nocera, Chem. Soc. Rev. 2009, 38, 109. [5] D. A. Lutterman, Y. Surendranath, D. G. Nocera, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 3838. [6] D. K. Zhong, J. W. Sun, H. Inumaru, D. R. Gamelin, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 6086. [7] E. M. P. Steinmiller, K. S. Choi, Proc. Natl. Acad. Sci. U. S. A. 2009, 106, 20633. [8] J. D. Beach, R. T. Collins, J. A. Turner, J. Electrochem. Soc. 2003, 150, A899. [9] K. Fujii, K. Kusakabe, K. Ohkawa, Jpn. J. Appl. Phys. 2005, 44, 7433.
[1] R. van de Krol, Y. Q. Liang, J. Schoonman, J. Mater. Chem. 2008, 18, 2311. [2] A. Wolcott, W. A. Smith, T. R. Kuykendall, Y. P. Zhao, J. Z. Zhang, Small 2009, 5, 104. [3] N. K. Allam, K. Shankar, C. A. Grimes, J. Mater. Chem. 2008, 18, 2341. [4] Q. Q. Chen, D. S. Xu, Z. Y. Wu, Z. F. Liu, Nanotechnol. 2008, 19. [5] D. Eder, M. Motta, A. H. Windle, Nanotechnol. 2009, 20. [6] M. Z. Hu, P. Lai, M. S. Bhuiyan, C. Tsouris, B. H. Gu, M. P. Paranthaman, J. Gabitto, L. Harrison, J. Mater. Sci. 2009, 44, 2820. [7] M. A. Khan, M. S. Akhtar, S. I. Woo, O. B. Yang, Catal. Comm. 2008, 10, 1. [8] E. Y. Kim, J. H. Park, G. Y. Han, J. Power Sources 2008, 184, 284. [9] C. J. Lin, Y. T. Lu, C. H. Hsieh, S. H. Chien, Appl. Phys. Lett. 2009, 94. [10] S. Y. Kuang, L. X. Yang, S. L. Luo, Q. Y. Cai, Appl. Surf. Sci. 2009, 255, 7385. [11] Y. X. Yin, Z. G. Jin, F. Hou, Nanotechnol. 2007, 18. [12] K. S. Ahn, S. Shet, T. Deutsch, C. S. Jiang, Y. F. Yan, M. Al-Jassim, J. Turner, J. Power Sources 2008, 176, 387. [13] K.-S. Ahn, Y. San, S. Shet, K. Jones, T. G. Deutsch, J. A. Turner, M. Al-Jassim, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 163117. [14] J. S. Jang, C. J. Yu, S. H. Choi, S. M. Ji, E. S. Kim, J. S. Lee, J. Catal. 2008, 254, 144. [15] G. W. She, X. H. Zhang, W. S. Shi, X. Fan, J. C. Chang, Electrochem. Commun. 2007, 9, 2784. [16] A. Wolcott, W. A. Smith, T. R. Kuykendall, Y. P. Zhao, J. Z. Zhang, Adv. Func. Mater. 2009, 19, 1849. [17] X. Yang, A. Wolcottt, G. Wang, A. Sobo, R. C. Fitzmorris, F. Qian, J. Z. Zhang, Y. Li, Nano Lett. 2009, 9, 2331. [18] Y. J. Hwang, A. Boukai, P. D. Yang, Nano Lett. 2009, 9, 410. [19] R. S. Chen, H. Y. Chen, C. Y. Lu, K. H. Chen, C. P. Chen, L. C. Chen, Y. J. Yang, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 3. [20] C. C. Chen, C. C. Yeh, C. H. Chen, M. Y. Yu, H. L. Liu, J. J. Wu, K. H. Chen, L. C. Chen, J. Y. Peng, Y. F. Chen, J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 2791. [21] J. D. Beach, R. T. Collins, J. A. Turner, J. Electrochem. Soc. 2003, 150, A899. [22] C. Y. Zhi, X. D. Bai, E. G. Wang, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 1802. [23] M. Ono, K. Fujii, T. Ito, A. Hirako, T. Yao, K. Ohkawa, J. Chem. Phys. 2007, 126, 054708. [24] S. L. Chou, F. Y. Cheng, J. Chen, J. Power Sources 2006, 162, 727. [25] I. Waki, D. Cohen, R. Lal, U. Mishra, S. P. DenBaars, S. Nakamura, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 093519. [26] R. S. Chen, S. W. Wang, Z. H. Lan, J. T. H. Tsai, C. T. Wu, L. C. Chen, K. H. Chen, Y. S. Huang, C. C. Chen, Small 2008, 4, 925.
[1] K. Fujii, K. Kusakabe, K. Ohkawa, Jpn. J. Appl. Phys. 2005, 44, 7433.
[1] G. Steinhoff, O. Purrucker, M. Tanaka, M. Stutzmann, M. Eickhoff, Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 841. [2] J. L. Chiang, Y. C. Chen, J. C. Chou, Jpn. J. Appl. Phys. 1 2001, 40, 5900. [3] G. Steinhoff, M. Hermann, W. J. Schaff, L. F. Eastman, M. Stutzmann, M. Eickhoff, Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 177. [4] Y. Alifragis, G. Konstantinidis, A. Georgakilas, N. A. Chaniotakis, Electroanal. 2005, 17, 527. [5] C. P. Chen, A. Ganguly, C. H. Wang, C. W. Hsu, S. Chattopadhyay, Y. K. Hsu, Y. C. Chang, K. H. Chen, L. C. Chen, Anal. Chem. 2009, 81, 36. [6] A. Ganguly, C. P. Chen, Y. T. Lai, C. C. Kuo, C. W. Hsu, K. H. Chen, L. C. Chen, J. Mater. Chem. 2009, 19, 928. [7] N. A. Chaniotakis, Y. Alifragis, G. Konstantinidis, A. Georgakilas, Anal. Chem. 2004, 76, 5552. [8] B. S. Kang, F. Ren, L. Wang, C. Lofton, W. W. Tan, S. J. Pearton, A. Dabiran, A. Osinsky, P. P. Chow, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 023508. [9] O. Ambacher, J. Phys. D Appl. Phys. 1998, 31, 2653. [10] H. Lu, W. J. Schaff, L. F. Eastman, J. Appl. Phys. 2004, 96, 3577. [11] O. Kryliouk, H. J. Park, H. T. Wang, B. S. Kang, T. J. Anderson, F. Ren, S. J. Pearton, J. Vac. Sci. Technol. B 2005, 25, 1891. [12] W. T. Lim, J. S. Wright, B. P. Gila, S. J. Pearton, F. Ren, W. T. Lai, L. C. Chen, M. S. Hu, K. H. Chen, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 3. [13] C. H. Liang, L. C. Chen, J. S. Hwang, K. H. Chen, Y. T. Hung, Y. F. Chen, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 22. [14] C. Y. Chang, G. C. Chi, W. M. Wang, L. C. Chen, K. H. Chen, F. Ren, S. J. Pearton, J. Electron. Mater. 2006, 35, 738. [15] Z. H. Lan, C. H. Liang, C. W. Hsu, C. T. Wu, H. M. Lin, S. Dhara, K. H. Chen, L. C. Chen, C. C. Chen, Adv. Funct. Mater. 2004, 14, 233. [16] C. Y. Chang, G. C. Chi, W. M. Wang, L. C. Chen, K. H. Chen, F. Ren, S. J. Pearton, Appl. Phys. Lett. 2005, 87. [17] H. Lu, W. J. Schaff, L. F. Eastman, Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 1736. [18] I. Mahboob, T. D. Veal, C. F. McConville, H. Lu, W. J. Schaff, Phys. Rev. Lett. 2004, 92, 036804. [19] C. F. Chen, C. L. Wu, S. Gwo, Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 252109. [20] J. T. Chen, C. L. Hsiao, H. C. Hsu, C. T. Wu, C. L. Yeh, P. C. Wei, L. C. Chen, K. H. Chen, J. Phys. Chem. A 2007, 111, 5. [21] W. C. Poh, K. P. Loh, W. D. Zhang, S. Triparthy, J.-S. Ye, F.-S. Sheu, Langmuir 2004, 20, 5484. [22] E. Kohn, "Surface Energy Levels for Diamond, GaN, InN, and AlN in Contact with Electrolytes", presented at 17th European Conference on Diamond, Diamond-Like Materials, Carbon Nanotubes, Nitrides and Silicon Carbide, Estoril, Portugal, 2006. [23] J. M. Nugent, K. S. V. Santhanam, A. Rubio, P. M. Ajayan, Nano Lett. 2001, 1, 87. [24] R. Dimitrova, L. Catalan, D. Alexandrov, A. Chen, Electroanal. 2007, 19, 1799. [25] R. Dimitrova, L. Catalan, D. Alexandrov, A. Chen, Electroanal. 2008, 20, 789. [26] Y. S. Lu, C. C. Huang, J. A. Yeh, C. F. Chen, S. Gwo, App. Phys. Lett. 2007, 91, 3. [27] M. C. Granger, M. Witek, J. Xu, J. Wang, M. Hupert, A. Hanks, M. D. Koppang, J. E. Butler, G. Lucazeau, M. Mermoux, J. W. Strojek, G. M. Swain, Anal. Chem. 2000, 72, 3793. [28] T. Lindgren, M. Larsson, S. E. Lindquist, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2002, 73, 377. [29] V. Y. Davydov, A. A. Klochikhin, V. V. Emtsev, S. V. Ivanov, V. V. Vekshin, F. Bechstedt, J. Furthmuller, H. Harima, A. V. Mudryi, A. Hashimoto, A. Yamamoto, J. Aderhold, J. Graul, E. E. Haller, Phys Status Solidi B-Basic Res 2002, 230, R4. [30] V. Y. Davydov, A. A. Klochikhin, R. P. Seisyan, V. V. Emtsev, S. V. Ivanov, F. Bechstedt, J. Furthmuller, H. Harima, V. Mudryi, J. Aderhold, O. Semchinova, J. Graul, Phys Status Solidi B-Basic Res 2002, 229, R1.
|