摘要 I
Abstract III
致謝 V
目錄 VI
圖目錄 IX
表目錄 XIII
符號說明 XIV
第一章 緒論 1
1-1 背景介紹 1
1-2 文獻回顧 3
1-3 研究動機與目標 8
1-4 本文架構 9
第二章 準分子雷射與半色調網點灰階光罩法 10
2-1 準分子雷射加工原理 10
2-2 準分子雷射加工系統 12
2-3 半色調網點灰階光罩法 15
2-4 光罩設計理論 17
第三章 光學預測模式 22
3-1 歪像柱狀望遠鏡系統 26
3-1-1 幾何光學分析 26
3-1-2 Zemax光學模擬 28
3-2 均光鏡系統 33
3-2-1 幾何光學分析 33
3-2-2 Zemax光學模擬 37
3-3 投影成像系統 39
3-3-1 夫琅和費繞射圖樣（Fraunhofer diffraction pattern） 41
3-3-2 投射鏡 43
3-3-3 空間同調（Spatial coherence） 50
3-3-4 庫勒照明系統（Köhler illumination system） 61
3-3-5 利用Zemax光學模擬定義部分空間同調因子 64
3-4 數值方法 66
3-4-1 阿貝空間同調成像計算法的數值化 67
3-4-2 矩陣計算法 67
3-4-3 模擬實例 75
3-5 基本成像性質分析 79
3-5-1 點振幅函數與點擴散函數 79
3-5-2 光罩圖形的尺寸大小對加工面上光強分布的影響 81
3-5-3 光罩圖形分布間距對加工面上光強分布的影響 86
第四章 實驗結果與討論 91
4-1 實驗一：光柵結構 91
4-2 實驗二：六角最密洞狀（六角形）結構 98
4-3 實驗三：孔洞面積法製作三維球面微結構 104
4-4 實驗討論 119
第五章 結論與未來展望 125
5-1 結論 125
5-2 未來展望 126
參考文獻 128
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