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研究生:蔡承育
研究生(外文):Cheng-Yu Tsai
論文名稱:利用多光束干涉原理量測微小位移
論文名稱(外文):Measurement of small displacements by the use of multiple beam interferometry
指導教授:林俊佑林俊佑引用關係
學位類別:碩士
校院名稱:國立彰化師範大學
系所名稱:機電工程學系
學門:工程學門
學類:機械工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2011
畢業學年度:99
語文別:中文
論文頁數:47
中文關鍵詞:微小位移多光束干涉外差干涉術
外文關鍵詞:small displacement measurementmultiple beam interferenceheterodyne interferometer
相關次數:
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本論文提出一個利用多光束干涉與外差干涉術之原理,量測微小位移變化之特性。當p-偏振光進入我們所設計的系統,系統包括一個平行四邊形棱鏡和玻璃平板,並在中間夾著一層空氣薄膜,當此系統發生多光束干涉現象時,會因為玻璃平板中的空氣薄膜厚度,而產生不同的相位變化,其相移的變化可以用外差干涉術精確地測定,並可推算出正確的位移量。此方法經過實驗驗證,可證明實驗是可行性的,本系統靈敏度至少可達S=0.2045degree/nm,解析度R=0.147nm,且此架構具有靈敏度及測量範圍可調、簡單的光學裝置與即時量測之優點。
The thesis proposes a method for measuring small displacements based on the characteristic of multiple beam interference and heterodyne interferometric technique. When a p-polarized light beam is obliquely incident into a special apparatus, consisting of a parallelogram prism and a glass plate sandwiching a thin film of air, the multiple-beam interference occurs within the apparatus. A small displacement of the glass plate will introduce a variation of the phase shift of the light beam reflected from the apparatus. The phase-shift variation can be precisely determined with heterodyne interferometry, and the associated displacement can be estimated. The feasibility of this method was verified by the experimental results, and the sensitivity of S=0.2045 degree/nm and the resolution of R=0.147 nm can be achieved. The method of measurement has the merits of tunable measurement sensitivity and range, simple optical setup, easy operation and rapid measurement.
目錄

頁次
中文摘要 i
英文摘要 ii
致謝 iii
目錄 iv
圖目錄 vi

第一章 緒論 1
1-1 研究動機 1
1-2 文獻回顧 2
1-3 研究目的 5
1-4 論文架構 5

第二章 外差干涉術原理 7
2-1 簡介 7
2-2 傳統干涉術原理 7
2-3 外差干涉原理 8
2-4 外差光源 10
2-4-1 機械式調制 10
2-4-2 電子式調制 12
2-5 電光晶體調制方法 13
2-6 電光晶體調制原理 15
2-7 外差干涉術誤差分析 19
2-8 小結 25

第三章 實驗原理與架構 26
3-1 簡介 26
3-2 多重干涉所引起之反射p- 偏振相位移 26
3-3 實驗架構與原理 28
3-4 小結 31

第四章 實驗結果與討論 32
4-1 簡介 32
4-2 模擬分析 32
4-3 實際結果 36
4-4 結果討論 40
4-5 小結 42

第五章 結論與建議 43
5-1 結論 43
5-2 建議 43
參考文獻 44

圖目錄
圖. 1.1 雷射探頭量測原理圖 3
圖. 1.2 麥克森干涉儀 3
圖. 1.3 干涉術與表面電漿共振裝置 4
圖. 2.1 傳統干涉原理架構圖 7
圖. 2.2 外差訊號及其干涉波形示意圖 8
圖. 2.3 外差干涉訊號波形圖 9
圖. 2.4 旋轉波片法 11
圖. 2.5 繞射光柵法 11
圖. 2.6 橫向電光調制架構圖 14
圖. 2.7 電光晶體調制器之光學架構圖 15
圖. 2.8 鋸齒波的電壓訊號 18
圖. 2.9 旋轉偏振誤差 20
圖. 2.10 偏振旋轉誤差關係圖 22
圖. 2.11 偏振混合誤差△m與的關係圖 25
圖. 3.1 多重干涉示意圖 26
圖. 3.2 外差干涉術測量微小位移之系統架構圖 28
圖. 4.1 石英玻璃平板之Φ、h與θi的關係圖,當θi=-10˚、0˚、10˚ 33
圖. 4.2 BK7玻璃平板之Φ、h與θi的關係圖,當θi=-10˚、0˚、10˚ 33
圖. 4.3 SF11玻璃平板之Φ、h與θi的關係圖,當θi=-10˚、0˚、10˚ 34
圖. 4.4 Φ、h與θi的關係圖θi=-10˚、-15˚、-20˚、-25˚與-30˚ 35
圖. 4.5 實際裝置架構圖 38
圖. 4.6 入射角θi=-20˚之Φ、h實驗模擬比較圖 39
圖. 4.7 入射角θi=-30˚之Φ、h實驗模擬比較圖 39
圖. 4.8 不同角度入射光與靈敏度之關係圖 40
圖. 4.9 不同角度入射光與解析度之關係圖 41

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