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研究生:
蕭正喨
研究生(外文):
Cheng-Liang Hsiao
論文名稱:
以二次反應曲面設計進行TFT微影塗佈製程參數最佳化
論文名稱(外文):
Optimization process parameters of TFT photolithography coating process using the second-order response surface design
指導教授:
任恒毅
指導教授(外文):
Hen-Yi Jen
學位類別:
碩士
校院名稱:
元智大學
系所名稱:
工業工程與管理學系
學門:
工程學門
學類:
工業工程學類
論文種類:
學術論文
論文出版年:
2011
畢業學年度:
99
語文別:
中文
論文頁數:
52
中文關鍵詞:
實驗設計、解析度、線寬、LCD顯示器、微影製程
外文關鍵詞:
DOE、resolution、LCD、pattern、photolithography
相關次數:
被引用:
2
點閱:262
評分:
下載:3
書目收藏:0
手機的全球性普及已經促使手機進一步向小型的高解析度彩色顯示螢幕方向發展,以滿足消費者日益苛刻的視聽要求。目前的手機面板發展傾向以提高解析度,用來顯示更為清晰的影像;不過,提高解析度帶來的一個問題是LCD單元孔徑比的下降,為解決影響亮度下降的問題,可藉由高亮度燈源或有效透光區域的增加以提高光源的穿透率增加面板亮度;然而在提高穿透率部份會將線寬必須進行緊密排列但因線寬大小會直接影響面板顯示的速度,所以目前的作法主要是將線寬固定以縮小線距的方式進行,因此縮小了線距的作法可能會造成微影製程上的困境。
本研究將透過相關實驗設計方法找出改善現行LCD顯示器微影製程中膜厚的參數組合,使膜厚的平均值與標準差的製程能力獲得提升,以達到降低導電線路線寬與線距變異之目標,增加LCD顯示器產品品質的穩定性及提高微影製程之製程能力。
The requests of high quality display in mobile devices make the resolution and brightness of LCD more important than ever. The high resolution display can provide the high quality images, however, it will cause the poor aperture and brightness. The high illumination backlight and transparent area will helpful for solving this problem. There are two methods for arising transparent rate which include reducing the critical dimension and narrow the line distance, however, the reduce of critical dimension will affect the respond time of display. The only way is narrow the distance between patterns which will be the challenge of photolithography process.
This research will figure out the best parameter through the DOE, and find the way to improve the average and standard deviation of photo resist thickness in the LCD manufacture which will lead to the critical dimension improvement. In that way, the display quality and process ability will improvement significantly.
第一章 緒論 1
1.1 研究背景與動機 1
1.2 研究目的 2
1.3 研究方法與步驟 2
1.4 研究範圍與限制 3
1.5 研究流程圖 4
2.1 實驗設計方法探討 5
2.2 部分因子設計 6
2.3 3k部份因子設計 6
2.4 反應曲面法的相關文獻 7
2.5 小結 11
第三章 研究方法 12
3.1 製程能力分析 12
3.2 量測系統分析(MSA) 13
3.3 反應曲面法(Response Surface Method;RSM) 14
3.4 希求度函數 (Desirability Function) 20
3.5 光阻膜厚的實驗限制 22
3.6 光阻膜厚的實驗方法 23
第四章 個案研究 26
4.1 個案公司資料簡介 26
4.2 TFT-LCD製程介紹 26
4.3 微影製程介紹 28
4.4 光阻的介紹 31
4.5 光阻塗佈方式介紹 33
4.6 光阻厚度實驗規劃 34
4.7 製程能力分析 35
4.8 光阻厚度的BBD實驗 40
4.9 結論 46
第五章 結論與未來展望 47
5.1 結論 47
5.2 未來展望 48
英文部分
1.Barrentine, L. B. (2003). Concepts for R&R studies, ASQ Quality Press.
2.Cornell, J. and A. Khuri (1987). Response surfaces: designs and analyses, Marcel Dekker, Inc. New York, NY, USA.
3.Giovanni, M. (1983). "Response surface methodology and product optimization." Food Technology 12.
4.Montgomery, D. (2008). Design and analysis of experiments, John Wiley & Sons Inc.
5.Rees, L.P., Clayton, E.R. and Taylor, B.W., 1985, Solving multiple response simulation models using modified response surface methodology within a lexicographic goal programming framework. IIE Transactions, March, 47-57.
中文部分
1.H. Xiao著, 羅正忠、張鼎張譯, “半導體製程技術導論”, 台灣培生教育出版股份有限公司, 民國95年9月。.
2.Unayama, S. (2005). "手機顯示螢幕向彩色高解析度方向發展." 電子工程專輯.
3.方俊雄 (1997). 反應曲面法在公差分配的應用與分析. 工業工程研究所, 逢甲大學. 碩士論文.
4.石傑方 (2005). 多層目標物穿透即時辨識系統參數最佳化之研究-應用反應曲面法. 高分子系, 國立臺灣科技大學. 碩士論文.
5.朱仲威 (2006). 以反應曲面法及模擬模式求解多目標推拉界限決策-以TFT-LCD後段製程為例. 製造工程研究所碩博士班, 國立成功大學. 碩士論文.
6.朱延智 (2003). 產業分析, 五南圖書出版股份有限公司,台北.
7.林慈惠 (2006). 應用反應曲面法改善液晶顯示器之彩色濾光片製程能力問題. 管理學院碩士在職專班工業工程與管理組, 國立交通大學. 碩士論文.
8.林萬衡 (2009). 應用反應曲面法(RSM)於冷陰極螢光燈(CCFL)塗佈製程(Coating)最佳化研究. 工業工程與管理學系, 元智大學. 碩士論文.
9.郭峻誠 (2006). 應用田口方法和反應曲面法於覆晶製程之錫渣殘留品質改善及參數最佳化設計. 機械與自動化工程所, 國立高雄第一科技大學. 碩士論文.
10.陳台昆 (2000). 在熱效應之影響下,以統計方法作參數與公差設計. 工業工程研究所, 逢甲大學. 碩士論文.
11.曾珞萍 (1999). 以反應曲面法尋找多目標模擬模式之最佳解-以半導體封裝廠印字區為例. 製造工程研究所, 國立成功大學. 碩士論文.
12.楊政融. (2006). 以反應曲面法進行液晶螢幕多重領域最佳設計. 機械工程學系碩博士班, 國立成功大學. 碩士論文.
13.鄭春生 (2010). 品質管理, 全華書局,台北.
14.黎正中 and 陳源樹 (2006). 實驗設計與分析, 高立書局,台北.
15.盧意淇 (2009). 以反應曲面法探討射流對撞式高壓均質法製備光甘草定奈米乳液之最適化條件. 生物產業科技學系, 大葉大學. 碩士論文.
16.戴金琪 (2002). 以反應曲面方法改善銅導線晶圓封裝之銲線製程問題. 工業工程與管理學系, 元智大學. 碩士論文.
17.顏以明 and 張雍政 (2005). "TFT-LCD 光阻劑技術發展趨勢." 化合物半導體與光電技術專文.
18.魏子夏 (2004). 實驗設計應用在製程最佳參數之研究 —以不銹鋼超細線為例. 高階主管企管碩士班, 南台科技大學. 碩士論文.
19.蘇聖凱 (2004). 反應曲面法在複雜網路上的應用. 統計研究所, 國立中央大學. 碩士論文.
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