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研究生:楊國盛
研究生(外文):Guo-Sheng Yang
論文名稱:液晶顯示裝置與畫素陣列基板設計修補方法之研究
論文名稱(外文):Study of pixel array substrate , Liquid crystal display and repairing method for pixel array substrate
指導教授:陳聰毅陳聰毅引用關係陳昭和
指導教授(外文):Tsong-Yi ChenThou-Ho Chen
學位類別:碩士
校院名稱:國立高雄應用科技大學
系所名稱:電子工程系
學門:工程學門
學類:電資工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:101
畢業學年度:100
語文別:中文
論文頁數:97
中文關鍵詞:液晶顯示裝置畫素陣列基板設計基板修補手法競爭力共集極可行性廠端方法
外文關鍵詞:TFT-LCDDesign rule of circuitRepair method
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本論文研究內容是以液晶顯示裝置畫素陣列基板設計於玻璃基板上,並對其電信、電路設計特性作研究。藉由研討電路設計及電信參數,如共集極電路設計、電信測試、失效模式建立及基板間距離等,來探討未來液晶顯示裝置對於基板設計之影響。利用畫素陣列基板設計最佳化模式應用於液晶顯示裝置,實驗發現不同之修補路徑,可獲得較佳良率之路徑,並藉由修復原理及設計原理之基礎下,結果發現變更共集極電路設計可新增出修補路徑,並提升工廠端良率及減少報廢產生;經由電性實驗模擬後,評估共集極電路設計可行性是否合宜,避免廠端鉅額光罩變更之費用,進而減少資本支出,達成提升產業競爭力之目的。
The research contents of the thesis revealed the design of liquid crystal display device, and discussed the characteristic of TFT array, the telecommunication parameter, circuit design, driving theorem, TFT/LCD Process, Repair Rule. By discussing the circuit design and telecommunication parameter, we can find out the common line design type, distance between line path to line path, failure mode, that would effect the reality of TFT device and design rule. By using different repair path would find out the optimization design rule. Based on repair theorem and design theorem, via modified common line circuit design would overcome the broken line program. As used original broken line repair method would want extra driving operator amplifier. After modified circuit could save operator amplifier and raise up product yield.
In order to reduce the expenses of the exposure mask have to establish all possibility. Behind the electricity simulations establish the common line design if its reasonable and risk. Finally we find out improved circuit and repair method to take place of original concept. After all reduce the expenses of the modification is the important issue in the future of photoelectric property.
中文摘要 ii
Abstract iii
誌謝 iv
圖目錄 viii
表目錄 xii
第一章、緒論 1
1.1 研究動機 1
1.2 研究背景及範圍 2
1.3 研究方法與論文架構 3
第二章、研究理論基礎與文獻回顧 5
2.2 TFT LCD 製程與結構說明 10
2.2.1 TFT / LCD製造流程 10
2.2.2 Array Process 11
2.3 CF Process 26
2.4 Cell Process 27
2.5 TFT 元件作動原理說明 30
2.6 TFT LCD液晶顯示模式 35
2.6.1 TN Mode 35
2.6.2 MVA Mode 36
2.6.3 IPS、FFS Mode 37
2.7 TFT LCD液晶驅動模型(Driver Model) 39
2.7.1 TFT開電流之限制線 39
2.7.2 電容耦合效應之限制線 41
2.7.3 信號延遲之限制線 41
2.8 TFT LCD製程設計準則 (Process Design Rule) 42
第三章 實驗方法 44
3.1 實驗目的 44
3.2 實驗材料 44
3.3 實驗步驟 46
3.3.1 模型建立 48
3.3.2 管制圖監控 49
3.3.3 元件功能說明 52
3.3.4 構思計畫 54
3.3.5 風險評估 56
3.3.6 設計變更 58
3.3.7 可靠度驗證 67
3.3.7 放量驗證 70
3.4 雷射修補線路設計說明 72
3.5 各面板廠設計瓶頸及異常種類說明 75
3.5.1 線路短路(Short) 75
3.5.2 線路斷路(Open) 76
3.5.3 斷線鍍膜修補(Line Repair Laser CVD) 77
3.5.4 斷線外部線路修補(Line Repair Path) 78
3.5.5 Line Defect十大類型 79
3.6 量測分析方法及量測設備介紹 80
3.6.1 FTIR紅外線光譜儀 (Fourier Transform Infrared Spectroscopy) 80
3.6.2 FIB聚焦離子束 83
3.6.3 RS Meter 85
3.6.4 Particle Counter 87
3.6.5掃描式電子顯微鏡(SEM) 88
3.6.6 EDS (Energy Dispersive System) 89
第四章、實驗結果與討論 90
4.1前言 90
4.2修補成效確認 90
4.3可靠度驗證結果 (RA) 92
第五章、結論 95
參考文獻 96
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