|
[1] T. O’Donnell, N. Wang, R. Meere, F. Rhen, S. Roy, D. O’Sullivan, C. O’Mathuna, 23rd Annual IEEE Conference on APEC, 1-4 (2008) 689. [2] R. Meere, T. O. Donnell, H. J. S. Bergveld, N. Wang, S. C. Mathuna, IEEE T. Power Electr. 24 (2009) 2212. [3] L. Y. Park, S. G. Kim, J. G. Koo, T. M. Roh, D. W. Lee, Y. S. Yang, J. Kim, ETRI J. 25 (2003) 270. [4] Z. Hayashi, Y. Katayama, M. Edo, H. Nishio, IEEE Trans. Magn. 39 (2003) 3068. [5] H. Nakazawa, M. Edo, Y. Katayama, M. Gekinozu et al., IEEE Trans. Magn. 36 (2000) 3518. [6] M. Brunet, T. O’Donnell, L. Baud, N. Wang et al., IEEE Trans. Magn. 38 (2002) 3174. [7] A. W. Lotfi, M A. Wilkowski, Proceedings of the IEEE 89 (2001) 833. [8] J. C. P. Liu, N. K. Poon, M. H. Pong, C. K. Tse, IEEE T. Power Electr. 22 (2007) 1956. [9] C. S. Leu, M. H. Li, IEEE T. Ind. Electron. 57 (2010) 2018. [10] S. Tanabe, Y. Shiraki, K. Itoh, M. Yamaguchi, K. Arai, IEEE Trans. Magn. 35 (1999) 3580. [11] Y. Katauama, S. Sugahara, H. Nakazawa, M. Edo, Power Electronics Specialists Conference (PESC) 2000 IEEE 31st Annual, 3 (2000) 1485. [12] Y. Sasaki, S. Morita, T. Hatanai, A. Makino, T. Sato, K. Yamasawa, Nanostruct. Mater. 8 (1997) 1025. [13] D. S. Gardner, G. Schrom, P. Hazucha, F. Paillet, et al., J. Appl. Phys. 103 (2008) 07E927-1. [14] M. Yamaguchi, K. H. Kim, S. Ikedaa, J. Magn. Magn. Mater. 304 (2006) 208. [15] M. Yamaguchi, K. Yamada, K. H. Kim, IEEE Trans. Magn. 42 (2006) 3341. [16] Y. Zhou, Z. M. Zhou, Y. Cao, X. Y. Gao, W. Ding, J. Magn. Magn. Mater. 320 (2008) e963. [17] D. W. Lee, K. P. Hwang, S. X. Wang, IEEE Trans. Magn. 44 (2008) 4089. [18] S. Bae, Y. K. Hong, J. J. Lee, J. Jalli, G. S. Abo, A. Lyle, B. C. Choi, G. W. Donohoe, IEEE Trans. Magn. 45 (2009) 4773. [19] D. S. Gardner, G. Schrom, P. Hazucha, F. Paillet, T. Karnik, S. Borkar, IEEE Trans. Magn. 43 (2007) 2615. [20] M. Yamaguchi, K. Suezawa, K. I. Arai, et al., J. Appl. Phys. 85 (1999) 7919. [21] T. Sato, E. Komai, K. Yamasawa, IEEE Trans. Magn. 33 (1997) 3310. [22] S. Chikazumi, Physics of Magnetism, John Wiley (1964) 329. [23] I. Fergen, K. Seemann, A. V. D. Weth, A. Schppuen, J. Magn. Magn. Mater. 242 (2002) 146. [24] K. Seemann, H. Leiste, V. Bekker, J. Magn. Magn. Mater. 283 (2004) 310. [25] G. Rieger, G. Rupp, G. Gieres, et al., J. Appl. Phys. 91 (2002) 8447. [26] M. Yamaguchi, Y. Miyazawa, K. Kaminish, et al., J. Magn. Magn. Mater. 268 (2004) 170. [27] V. Korenivski, R. B. Van Dover, IEEE Trans. Magn. 34 (1998) 1375. [28] V. Korenivski, J. Magn. Magn. Mater. 215 (2000) 800. [29] N. X. Sun, S. X. Wang, J. Appl. Phys. 92 (2002) 1477. [30] A. R. Chezan, C. B. Craus, N. G. Chechenin, et al. Phys. Stat. Sol. (a) 189 (2002) 833. [31] T. J. Klemmer, K. A. Ellis, L. H. Chen, B. Van Dover, S. Jin, J. Appl. Phys. 87 (2000) 830. [32] C. H. Lee, D. H. Shin, D. H. Ahn, et al, J. Appl. Phys. 85 (1998) 4898. [33] L. H. Chen, H. K. Chen, C. T. Hsieh, et al., J. Appl. Phys. 91 (2002) 8450. [34] X. L. Tang, H. W. Zhang, H. Su, X. D. Jiang, J. Magn. Magn. Mater. 270 (2004) 84. [35] G. D. Lu, H. W. Zhang, J. Q. Xiao, et al., J. Appl. Phys. 109 (2011) 07A327. [36] S. Ohnuma, N. Kobayashi, T. Masumoto, J. Appl. Phys. 85 (1999) 4574. [37] L. Li, A. M. Crawford, S. X. Wang, A. F. Marshall, M. Mao, T. Schneider, R. Bubber, J. Appl. Phys. 97 (2005) 10F907. [38] N. D. Ha, M. H. Phan, C. O. Kim, Nanotechnology 18 (2007) 155705. [39] K. Ikeda, K. Kobayashi, K. Ohta, et al., IEEE Trans. Magn. 39 (2003) 3057. [40] D. Y. Kim, S. S. Yoon, B. P. Rao, C. G. Kim, K. H. Kim, M. Takahashi, IEEE Trans. Magn. 44 (2008) 3115. [41] T. Sato, Y. Miura, S. Matsumura, K. Yamasawa, S. Morita, Y. Sasaki, T. Hatanai, A.Makino, J. Appl. Phys. 83 (1998) 6658. [42] C. Y. Chou, P. C. Kuo, Y. D. Yao, Y. H. Fang, N. W. Cheng, S. C. Chen, A. C. Sun, J. Magn. Magn. Mater. 45 (2006) 4021. [43] G. Herzer, IEEE Trans. Magn. 26 (1990) 1397. [44] Y. Hayakawa, A. Makino, Nanostruct. Mater. 6 (1995) 989. [45] K. Yamauchi, Y. Yoshizawa, Nanostruct. Mater. 6 (1995) 247. [46] K. H. Kim, D. W. Yoo, J. H. Jeong, et al., J. Magn. Magn. Mater. 239 (2002) 579. [47] B. Viala, S. Coudrc, A. S. Royet, P. Ancey, G. Bouche, IEEE Trans. Magn. 41 (2005) 3544. [48] K. H. Kim, H. W. Choi, J. Kim, et al., IEEE Trans. Magn. 36 (2000) 2656. [49] S. Couderc, B. Viala, P. Ancey, G. Bouche, R. Pantel, IEEE Trans. Magn. 41 (2005) 3319. [50] K. Ikeda, K. Kobayashi, M. Fujimoto, J. Appl. Phys. 92 (2002) 5395. [51] Y. G. Ma, C. K. Ong, J. Phys. D: Appl. Phys. 40 (2002) 3286. [52] J. Y. Song, J. J. Lee, S. H. Han, H. J. Kim, J. Kim, J. Appl. Phys. 83 (1998) 6652. [53] Y. Hayakawa, A. Makino, H. Fujimori, A. Inoue, J. Appl. Phys. 81 (1997) 3747. [54] J. Y. Song, J. J. Lee, S. H. Han, H. J. Kim, J. Appl. Phys. 83 (1998) 6652. [55] K. H. Kim, Y. H. Kim, J. Kim, S. H. Han, H. J. Kim, J. Magn. Magn. Mater. 215-216 (2000) 368. [56] B. D. Cullity, Introduction to Magnetic Materials, 2 nd Edition, Wiley-IEEE Press (2008). [57] G. Herzer, Scripta Metall. Mater. 33 (1995) 1741. [58] K. Suzuki, G. Herzer, et al., J. Magne. Magn. Mater. 177 (1998) 949. [59] G. Herzer, IEEE Trans. Magn. 25 (1989) 3327. [60] R. Albert, J.J. Becket, M.C. Chi, J. Appl. Phys. 49 (1978) 1653. [61] R. M. Bozorth, Ferromagnetism, Princeton, D. Van Nostrand Company, ch. 18 (1951) 811. [62] M. Farle, Rep. Prog. Phys. 61 (1998) 755. [63] N. Saito, H. Fuliwara, J. Phys. Soc. Jpn. 19 (1964) 1116. [64] O. Acher, C. Boscher, B. Brulé, G. Perrin, et al., J. Appl. Phys. 81 (1997) 4057. [65] I. Bahl, Lumped Elements for RF and Microwave Circuits, Artech House, INC. (2003). [66] K. O, IEEE J. Solid-St. Circ. 33 (1998) 1249. [67] J. Craninckx, M. S. J. Steyaert, IEEE J. Solid-St. Circ. 32 (1997) 736. [68] C. P. Yue, S. S. Wong, IEEE T. Electron Dev. 47 (2000) 560. [69] S. Jin, W. Zhu, R.B. vanDover, T.H. Tiefel, V. Korenivski, Appl. Phys. Lett. 70 (1997) 3161. [70] A. V. D. Bossche, V. C. Valchev, Taylor & Francis, ch. 3 (2005) 98. [71] A. Makino, T. Hatanai, A. Inoue, T. Masumoto, Mat. Sci. Eng. A-Struct. 226 (1997) 594. [72] Y. Yoshizawa, S. Oguma, K. Yamauchi, J. Appl. Phys. 64 (1988) 6044. [73] C. H. Ahn, M. G. Allen, IEEE T. Ind. Electron. 45 (1998) 866. [74] W. A. Roshem, D. E. Turcotte, IEEE Trans. Magn. 24 (1988) 3213. [75] W. A. Roshem, IEEE Trans. Magn. 26 (1990) 270. [76] J. I. Goldstein, Scanning electron microscopy and x-ray microanalysis, 2nd Edition, Plenum Press (1992). [77] G. G. Stoney, Proc. R. Soc. London, Ser. A. 82 (1909) 172. [78] M. Yamaguchi, O. Acher, Y. Miyazawa, K. I. Arai, M. Ledieu, J. Magn. Magn. Mater. 242 (2002) 970. [79] D. Pain, M. Ledieu, O. Acher, A. L. Adenot, F. Uverger, J. Appl. Phys. 85 (1999) 5151. [80] S. Thomas, S. H. Al-Harthi, D. Sakthikumar, I. A. Al-Omari, R. V. Ramanujan, Y. Yoshida, et al., J. Phys. D: Appl. Phys. 41 (2008) 155009. [81] N. X. Sun, Q. F. Xiao, B. York, J. Appl. Phys. 97 (2005) 10F906. [82] X. Feng, Y. Huang, H. Jiang, D. Ngo, A. J. Rosakis, J. Mech. Mater. Struct. 1 (2006) 1041. [83] D. G. Liu, J. P. Tu, C. D. Gu, R. Chen, C. F. Hong, Thin Solid Films 519 (2011) 4842. [84] S. Wang, J. Zhu, J. Wang, X. Yin, X. Han, Thin Solid Films 519 (2011) 4906. [85] D. G. Liu, J. P. Tu, H. Zhang, R. Chen, C. D. Gu, Surf. Coat. Tech. 205 (2011) 3080. [86] P. Zou, W. Yu, J. A. Bain, IEEE Trans. Magn. 38 (2002) 3501. [87] R. F. Jiang, C. H. Lai, J. Appl. Phys. 97 (2005) 10N302. [88] S. Ohnuma, H. Fujimori, S. Mitani, T. Matsumoto, J. Appl. Phys. 79 (1996) 5130. [89] J. Y. Park, M. G. Allen, IEEE T. Electron. Pa. M. 23 (2000) 48. [90]B. D. Cullity, S.R. Stock, Elements of X-Ray Diffraction, 3rd ed., Prentice Hall, 2001. [91] M. Senda, O. Ishii, IEEE Trans. Magn. 30 (1994) 155. [92] S. Ge, D. Yao, M. Yamaguchi, X. Yang, H. Zuo, T. Ishii, D. Zhou, F. Li, J. Phys. D: Appl. Phys. 40 (2007) 3660. [93] R. W. Gao, W. C. Feng, H. Q. Liu, B. Wang, W. Chen, G. B. Han, et al., J. Appl. Phys. 94 (2003) 664. [94] M. H. Jung, J. W. Kim, E. J. Yun, Jpn. J. Appl. Phys. 39 (2000) 4772. [95] J. P. Michel, Y. Lamy, A. S.Royet, B. Viala, IEEE Trans. Magn. 42 (2006) 3368. [96] Y. Sasaki, S. Morita, T. Hatanai, A. Makino, T. Sato, K. Yamasawa, Nanostruct. Mater. 8 (1997) 1025. [96] Y. Sasaki, S. Morita, T. Hatanai, A. Makino, T. Sato, K. Yamasawa, Nanostruct. Mater. 8 (1997) 1025. [97] C. H. Lien, "The fabrication of low pass filter on polyimide substrate by imprinting technology ", National Tsing Hua University for the Degree of Master, 2007. [98] S. Y. Chou, P. R. Krauss, P. J. Renstrom, Appl. Phys. Lett. 67 (1995) 3114. [99] S. Ge, D. Yao, M. Yamaguchi, X. Yang, H. Zuo, T. Ishii, D. Zhou, F. Li, J. Phys. D: Appl. Phys. 40 (2007) 3660. [100] Y. Liu, C. Y. Tan, Z. W. Liu, C. K. Ong, J. Appl. Phys. 101 (2007) 023912. [101] M. Ohnuma, K. Hono, H. Onodera, S. Ohnuma, H. Fujimori, J. S. Pedersen, J. Appl. Phys. 87 (2000) 817. [102] S. Ohnuma, H. J. Lee, N. Kobayashi, H. Fujimori, T. Masumoto, IEEE Trans. Magn. 37 (2001) 2251. [103] S. Ohnuma, H. Fujimori, T. Masumoto, X. Y. Xiong, D. H. Ping, K. Hono, Appl. Phys. Lett. 82 (2003) 946. [104] S. Ohnuma, H. Fujimori, S. Furukawa, F. Matsumoto, T. Masumoto, Mater. Sci. Eng., A 182 (1994) 892.
|