|
1. A. Fujishima and K. Honda, Nature, 1972, 238, 37. 2. R. Asahi, T. Morikawa, T. Ohwaki, K. Aoki and Y. Taga, Science, 2001, 293, 269. 3. Y.-J. Wei, C.-W. Peng, T.-M. Cheng, H.-K. Lin, Y.-L. Chen, C.-Y. Lee and H.-T. Chiu, ACS Appl. Mater. Interfaces, 2011, 3, 3804. 4. M. Zukalova, J. Prochazka, Z. Bastl, J. Duchoslav, L. Rubacek, D. Havlicek and L. Kavan, Chem. Mater., 2010, 22, 4045. 5. S. A. Sherrill, J. Duay, Z. Gui, P. Banerjee, G. W. Rubloff and S. B. Lee, PCCP, 2011, 13, 15221. 6. X. Zhou, C. Shang, L. Gu, S. Dong, X. Chen, P. Han, L. Li, J. Yao, Z. Liu, H. Xu, Y. Zhu and G. Cui, ACS Appl. Mater. Interfaces, 2011, 3, 3058. 7. D. Sun, J. Lang, X. Yan, L. Hu and Q. Xue, J. Solid State Chem., 2011, 184, 1333. 8. S. Dong, X. Chen, L. Gu, X. Zhou, L. Li, Z. Liu, P. Han, H. Xu, J. Yao, H. Wang, X. Zhang, C. Shang, G. Cui and L. Chen, Energy Environ. Sci., 2011, 4, 3502. 9. H. Kiyono, T. Tsumura, T. Kiyo, M. Toyoda and S. Shimada, Ceram. Int., 2011, 37, 1813. 10. A. Ortega, M. A. Roldan and C. Real, Int. J. Chem. Kinet., 2005, 37, 566. 11. H. Zhang, F. Li and Q. Jia, Ceram. Int., 2009, 35, 1071-1075. 12. A. Fischer, P. Makowski, J.-O. Müller, M. Antonietti, A. Thomas and F. Goettmann, ChemSusChem, 2008, 1, 444. 13. Y. Huang, Y. Gu, M. Zheng, Z. Xu, W. Zeng and Y. Liu, Mater. Lett., 2007, 61, 1056. 14. U. A. Joshi, S. H. Chung and J. S. Lee, J. Solid State Chem., 2005, 178, 755. 15. J. F. Sun, M. Z. Wang, Y. C. Zhao, X. P. Li and B. Y. Liang, J. Alloys Compd., 2009, 482, L29. 16. B. Kosowska, S. Mozia, A. W. Morawski, B. Grzmil, M. Janus and K. Kałucki, Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 2005, 88, 269. 17. J. Li, L. Gao, J. Sun, Q. Zhang, J. Guo and D. Yan, J. Am. Ceram. Soc., 2001, 84, 3045. 18. M. Gartner, P. Osiceanu, M. Anastasescu, T. Stoica, T. F. Stoica, C. Trapalis, T. Giannakopoulou, N. Todorova and A. Lagoyannis, Thin Solid Films, 2008, 516, 8184. 19. A. Rizzo, M. A. Signore, L. Mirenghi and T. Di Luccio, Thin Solid Films, 2009, 517, 5956. 20. M.-H. Chan and F.-H. Lu, Thin Solid Films, 2009, 517, 5006. 21. A. Trenczek-Zajac, M. Radecka, K. Zakrzewska, A. Brudnik, E. Kusior, S. Bourgeois, M. C. M. de Lucas and L. Imhoff, J. Power Sources, 2009, 194, 93. 22. X. Song, D. Gopireddy and C. G. Takoudis, Thin Solid Films, 2008, 516, 6330. 23. J. Musschoot, Q. Xie, D. Deduytsche, S. Van den Berghe, R. L. Van Meirhaeghe and C. Detavernier, Microelectron. Eng., 2009, 86, 72. 24. Q. W. Jiang, G. R. Li and X. P. Gao, Chem. Commun., 2009, 6720. 25. M.-H. Yeh, L.-Y. Lin, C.-P. Lee, H.-Y. Wei, C.-Y. Chen, C.-G. Wu, R. Vittal and K.-C. Ho, J. Mater. Chem., 2011, 21, 19021. 26. G. Mangamma, P. K. Ajikumar, R. Nithya, T. N. Sairam, V. K. Mittal, M. Kamruddin, S. Dash and A. K. Tyagi, J. Phys. D: Appl. Phys., 2007, 40, 4597. 27. M.-C. Tsai, J.-C. Chang, H.-S. Sheu, H.-T. Chiu and C.-Y. Lee, Chem. Mater., 2009, 21, 499. 28. P.-C. Chen, M.-C. Tsai, H.-C. Chen, I. N. Lin, H.-S. Sheu, Y.-S. Lin, J.-G. Duh, H.-T. Chiu and C.-Y. Lee, J. Mater. Chem., 2012, 22, 5349. 29. S.-P. Tung, T.-K. Huang, C.-Y. Lee and H.-T. Chiu, RSC Advances, 2012, 2, 1068. 30. X. Lu, D. Zheng, T. Zhai, Z. Liu, Y. Huang, S. Xie and Y. Tong, Energy Environ. Sci., 2011, 4, 2915. 31. X. Lu, T. Zhai, X. Zhang, Y. Shen, L. Yuan, B. Hu, L. Gong, J. Chen, Y. Gao, J. Zhou, Y. Tong and Z. L. Wang, Adv. Mater., 2012, 24, 938. 32. M. Winter and R. J. Brodd, Chem. Rev., 2004, 104, 4245. 33. J. M. Tarascon and M. Armand, Nature, 2001, 414, 359. 34. R. Kötz and M. Carlen, Electrochim. Acta, 2000, 45, 2483. 35. H. V. Helmholtz, Ann. Phys. (Leipzig), 1853, 21. 36. G. Gouy, J. Phys., 1910, 4, 457. 37. D. L. Chapman, Philos. Mag, 1913, 6, 475. 38. O. Stern, Z. Electrochem., 1924, 30, 508. 39. L. L. Zhang and X. S. Zhao, Chem. Soc. Rev., 2009, 38, 252. 40. Q.-Y. Li, Z.-S. Li, L. Lin, X. Y. Wang, Y.-F. Wang, C.-H. Zhang and H.-Q. Wang, Chem. Eng. J., 2010, 156, 500. 41. K. Kierzek, E. Frackowiak, G. Lota, G. Gryglewicz and J. Machnikowski, Electrochim. Acta, 2004, 49, 515. 42. E. Raymundo-Piñero, F. Leroux and F. Béguin, Adv. Mater., 2006, 18, 1877. 43. E. Frackowiak, K. Jurewicz, S. Delpeux and F. Béguin, J. Power Sources, 2001, 97–98, 822. 44. T. Bordjiba, M. Mohamedi and L. H. Dao, Adv. Mater., 2008, 20, 815. 45. C.-C. Hu, C.-C. Wang and K.-H. Chang, Electrochim. Acta, 2007, 52, 2691. 46. S. Devaraj and N. Munichandraiah, Electrochem. Solid-State Lett., 2005, 8, A373. 47. M. Toupin, T. Brousse and D. Bélanger, Chem. Mater., 2004, 16, 3184. 48. M. Toupin, T. Brousse and D. Bélanger, Chem. Mater., 2002, 14, 3946. 49. J.-K. Chang, M.-T. Lee and W.-T. Tsai, J. Power Sources, 2007, 166, 590. 50. C. Ye, Z. M. Lin and S. Z. Hui, J. Electrochem. Soc., 2005, 152, A1272. 51. U.S. Patent, 2800616, 1957. 52. T.-C. Liu, W. G. Pell, B. E. Conway and S. L. Roberson, J. Electrochem. Soc., 1998, 145, 1882. 53. D. Choi and P. N. Kumta, Electrochem. Solid-State Lett., 2005, 8, A418. 54. X. Zhang, J. H. Pan, A. J. Du, W. Fu, D. D. Sun and J. O. Leckie, Water Res., 2009, 43, 1179. 55. X. Zhang, T. Zhang, J. Ng and D. D. Sun, Adv. Funct. Mater., 2009, 19, 3731. 56. R. Yoshida, Y. Suzuki and S. Yoshikawa, J. Solid State Chem., 2005, 178, 2179. 57. X. Zhang, A. J. Du, P. Lee, D. D. Sun and J. O. Leckie, J. Membr. Sci., 2008, 313, 44. 58. A. R. Armstrong, G. Armstrong, J. Canales and P. G. Bruce, Angew. Chem. Int. Ed., 2004, 43, 2286. 59. Z.-Y. Yuan and B.-L. Su, Colloid Surf. A-Physicochem. Eng. Asp,2004, 241, 173. 60. X. Zhou, C. Shang, L. Gu, S. Dong, X. Chen, P. Han, L. Li, J. Yao, Z. Liu, H. Xu, Y. Zhu and G. Cui, ACS Applied Materials &; Interfaces, 2011, 3, 3058. 61. Y. Qiu and L. Gao, J. Phys. Chem. B, 2005, 109, 19732. 62. J.-H. Kim, K. Zhu, Y. Yan, C. L. Perkins and A. J. Frank, Nano Lett., 2010, 10, 4099. 63. Y. Yang, D. Kim, M. Yang and P. Schmuki, Chem. Commun., 2011, 47, 7746. 64. S. Dong, X. Chen, L. Gu, X. Zhou, H. Xu, H. Wang, Z. Liu, P. Han, J. Yao, L. Wang, G. Cui and L. Chen, ACS Appl. Mater. Interfaces, 2010, 3, 93. 65. M. Salari, K. Konstantinov and H. K. Liu, J. Mater. Chem., 2011, 21, 5128. 66. D.-D. Zhou, H.-J. Liu, Y.-G. Wang, C.-X. Wang and Y.-Y. Xia, J. Mater. Chem., 2012, 22, 1937.
|