|
(1) Lewis, N. S.; Nocera, D. G. Proc. Natl. Acad. Sci. 2006, 103, 15729. (2) Meyer, T. J.; Huynh, M. H. V.; Thorp, H. H. Angew. Chem. Int. Ed. 2007, 46, 5284. (3) Renger, G.; Renger, T. Photosynth. Res. 2008, 98, 53. (4) Alstrum-Acevedo, J. H.; Brennaman, M. K.; Meyer, T. J. Inorg. Chem. 2005, 44, 6802. (5) Romain, S.; Vigara, L.; Llobet, A. Acc. Chem. Res. 2009, 42, 1944. (6) Gersten, S. W.; Samuels, G. J.; Meyer, T. J. J. Am. Chem. Soc. 1982, 104, 4029. (7) Gilbert, J. A.; Eggleston, D. S.; Murphy, W. R.; Geselowitz, D. A.; Gersten, S. W.; Hodgson, D. J.; Meyer, T. J. J. Am. Chem. Soc. 1985, 107, 3855. (8) Binstead, R. A.; Chronister, C. W.; Ni, J.; Hartshorn, C. M.; Meyer, T. J. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 8464. (9) James K, H. Coord. Chem. Rev. 2005, 249, 313. (10) Liu, F.; Concepcion, J. J.; Jurss, J. W.; Cardolaccia, T.; Templeton, J. L.; Meyer, T. J. Inorg. Chem. 2008, 47, 1727. (11) Sens, C.; Romero, I.; Rodríguez, M.; Llobet, A.; Parella, T.; Benet-Buchholz, J. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 7798. (12) Zong, R.; Thummel, R. P. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 12802. (13) Xu, Y.; Åkermark, T. r.; Gyollai, V.; Zou, D.; Eriksson, L.; Duan, L.; Zhang, R.; Åkermark, B. r.; Sun, L. Inorg. Chem. 2009, 48, 2717. (14) Wada, T.; Tsuge, K.; Tanaka, K. Inorg. Chem. 2000, 40, 329. (15) Kobayashi, K.; Ohtsu, H.; Wada, T.; Kato, T.; Tanaka, K. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 6729. (16) Muckerman, J. T.; Polyansky, D. E.; Wada, T.; Tanaka, K.; Fujita, E. Inorg. Chem. 2008, 47, 1787. (17) Boyer, J. L.; Rochford, J.; Tsai, M.-K.; Muckerman, J. T.; Fujita, E. Coord. Chem. Rev. 2010, 254, 309. (18) Ghosh, S.; Baik, M.-H. Inorg. Chem. 2011, 50, 5946. (19) Concepcion, J. J.; Jurss, J. W.; Templeton, J. L.; Meyer, T. J. J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 16462. (20) Tseng, H.-W.; Zong, R.; Muckerman, J. T.; Thummel, R. Inorg. Chem. 2008, 47, 11763. (21) Concepcion, J. J.; Jurss, J. W.; Norris, M. R.; Chen, Z.; Templeton, J. L.; Meyer, T. J. Inorg. Chem. 2010, 49, 1277. (22) Concepcion, J. J.; Tsai, M.-K.; Muckerman, J. T.; Meyer, T. J. J. Am. Chem. Soc. 2010, 132, 1545. (23) Wang, L.-P.; Wu, Q.; Van Voorhis, T. Inorg. Chem. 2010, 49, 4543. (24) Huynh, M. H. V.; Meyer, T. J. Chemical Reviews 2007, 107, 5004. (25) R. L. Flurry, J. Quantum chemistry Englewood Cliffs, New Jersey. (26) Foresman, J. B.; Frisch, A. Exploring Chemistry with Electronic Structure Methods: A Guide to Using Gaissian; Second Edition ed. Pittsburgh, PA. (27) Foresman, J. B. Exploring Chemistry with Electronic Structure Methods; 2th ed. Pittsburgh, 2000. (28) Young, D. Computational Chemistry:A Practical Guide for Applying Techniques to Real World Problems; 2th ed. New York, 2001. (29) Tsai, M.-K.; Rochford, J.; Polyansky, D. E.; Wada, T.; Tanaka, K.; Fujita, E.; Muckerman, J. T. Inorganic Chemistry 2009, 48, 4372. (30) Tissandier, M. D.; Cowen, K. A.; Feng, W. Y.; Gundlach, E.; Cohen, M. H.; Earhart, A. D.; Coe, J. V.; Tuttle, T. R. J. Phys. Chem. A 1998, 102, 7787. (31) Sadlej-Sosnowska, N. Theor. Chem. Acc. 2007, 118, 281. (32) Marenich, A. V.; Olson, R. M.; Kelly, C. P.; Cramer, C. J.; Truhlar, D. G. J. Chem. Theory Comput. 2007, 3, 2011. (33) Jaque, P.; Marenich, A. V.; Cramer, C. J.; Truhlar, D. G. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 5783. (34) Frisch, M. J.; Trucks, G. W.; Schlegel, H. B.; Scuseria, G. E.; Robb, M. A.; Cheeseman, J. R.; Scalmani, G.; Barone, V.; Mennucci, B.; Petersson, G. A.; Nakatsuji, H.; Caricato, M.; Li, X.; Hratchian, H. P.; Izmaylov, A. F.; Bloino, J.; Zheng, G.; Sonnenberg, J. L.; Hada, M.; Ehara, M.; Toyota, K.; Fukuda, R.; Hasegawa, J.; Ishida, M.; Nakajima, T.; Honda, Y.; Kitao, O.; Nakai, H.; Vreven, T.; Montgomery, J. J. A.; Peralta, J. E.; Ogliaro, F.; Bearpark, M.; Heyd, J. J.; Brothers, E.; Kudin, K. N.; Staroverov, V. N.; Kobayashi, R.; Normand, J.; Raghavachari, K.; Rendell, A.; Burant, J. C.; Iyengar, S. S.; Tomasi, J.; Cossi, M.; Rega, N.; Millam, N. J.; Klene, M.; Knox, J. E.; Cross, J. B.; Bakken, V.; Adamo, C.; Jaramillo, J.; Gomperts, R.; Stratmann, R. E.; Yazyev, O.; Austin, A. J.; Cammi, R.; Pomelli, C.; Ochterski, J. W.; Martin, R. L.; Morokuma, K.; Zakrzewski, V. G.; Voth, G. A.; Salvador, P.; Dannenberg, J. J.; Dapprich, S.; Daniels, A. D.; Farkas, O.; Foresman, J. B.; Ortiz, J. V.; Cioslowski, J.; Fox, D. J.; Gaussian 09, Revision A.1; Gaussian, Inc: Wallingford, CT, 2009.
|