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研究生:陳雪芳
研究生(外文):SHUEN-FANG CHEN
論文名稱:製備高阻氣/抗靜電光學膜材料之研究與應用
論文名稱(外文):Study on the Preparation of Optical Film Materials with High Gas Barrier and Anti-Static and Its Applications
指導教授:莊賦祥莊賦祥引用關係
指導教授(外文):Fuh-Shyang Juang
學位類別:碩士
校院名稱:國立虎尾科技大學
系所名稱:光電與材料科技研究所
學門:工程學門
學類:電資工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2013
畢業學年度:101
語文別:中文
論文頁數:63
中文關鍵詞:高阻氣抗靜電光學膜表面改質
外文關鍵詞:high gas barrieranti-staticoptical filmsurface modification
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高阻氣抗靜電光學膜,以材料配方設計及奈米分散技術,使奈米粉體分散在基材中,再藉由控制流動剪切流場與拉伸流場設計、表面官能基改質及相容劑添加與開發專屬T-Die與螺桿關鍵組件,以押出成型製備出穿透度≧ 90%、透水率(WVTR)< 10 g/m2/day、氧氣透過率(OTR) <150 (c.c./m2/day/atm.)、抗靜電 109 - 1010 Ω/□及膜材平整度: ±3%的機能性光學膜,除了可改善目前可撓性光電元件壽命太短的問題外,亦可克服面板大型化時,光學膜貼合的靜電問題,且相較於目前需在貼合設備上加裝除靜電裝置或加貼抗靜電膜,具材料進步性,並可協助國內業者進入光學膜市場。

By the formulation design of materials, nano-dispersion technique, control in shear flow field, design in stretch flow field, surface modification with functional groups, addition of the compatibilizers, development of T-Die, design of screw, and extrusion molding technique, optical films with high gas resistance, anti-static capability, and excellent physical properties (transparency≧ 90%, water vapor transmittance rate < 10 g/m2/day, oxygen transmittance rate (OTR) <150 (c.c./m2/day/atm.), anti-static capability: 109 - 1010 Ω/□, and film roughness: ±3%) have been prepared. With lab-made optical films, the lifetimes of flexible optoelectronic devices can be prolonged and the static problem for lamination of optical films during the scale-up of panels. Compared to the present procedures and materials such as addition of anti-static instruments and lamination of anti-static films, lab-made optical films were superior, being capable to assist the domestic makers to enter into the market of optical films.

摘要............................i
Abstract.......................ii
誌 謝...........................iii
表目錄..........................v
圖目錄..........................vii
第一章 緒論.......................1
1.1 前言 ........................1
1.2研究動機.......................4
第二章、理論背景與文獻回顧...........6
2.1理論背景.......................6
2.2 文獻回顧..................... 11
第三章 實驗方法................... 17
3.1 實驗材料..................... 17
3.2實驗流程...................... 24
第四章 結果與討論..................26
4.1 基材與奈米粉體特性測試篩選...... 26
4.2 奈米粉體改質處理...............27
4.3 配方組成設計..................29
4.4 流動剪切流場與拉伸流場設計.......30
4.5 最適化配方組成設計與修改.........34
4.5.1 表面官能基改質與相容劑添加.....34
4.6 流場分析與流道優化設計.......... 36
4.7阻氣/抗靜電特性評估..............42
4.8 可撓曲OLED製作與物性分析........44
第五章 結論.......................46
參考文獻......................... 47
Extended Abstract
簡歷


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