|
[1]B. O’ Regan and M. Gratzel, Nature, 353 (1991) 737. [2]A. Yella, H. W. Lee, H. N. Tsao, C. Yi, A. K. Chandiran, M. Nazeeruddin, E. W. Diau, C. Y. Yeh, S. M. Zakeeruddin and M. Gratzel, Science, 334 (2011) 629. [3]T. Kawashima, H. Matsui and N. Tanabe, Thin Solid Films, 445 (2003) 241 [4]Y. M. Xiao, J. Wu, G. Yue, G. Xie, J. Lin and Mi. Huang, Electrochim. Acta, 55 (2010) 4573. [5]S. Ito, N. C. Ha, G. Rothenberger, P. Liska, P. Comte, S. M. Zakeeruddin, P. Pechy, M. K. Nazeeruddin and M. Gratzel, Chem. Commun., 4005 (2006) 4004. [6]F. Huang, D. Chen, X. L. Zhang, R. A. Caruso and Y. B. Cheng, Adv. Funct. Mater, 20 (2010) 2301. [7]T. C. Monson, M. A. Rodriguez, J. L. Leger, T. E. Stevens and D. L. Huber, J. Mater. Res., 28 (2013) 348. [8]D. V. Bavykin, L. Passoni and F. C. Walsh, Chem. Commun., 49 (2013) 7007. [9]X. Cai, H. Wu, S. Hou, M. Peng X. Yu and D. Zou, Chem. Sus. Chem., 7 (2014) 474. [10]Y. D. Park, K. Anabuki, S. Kim, K. W. Park, D. H. Lee, S. H. Um, J. Kim and J. H. Cho, Macromol. Res., 21 (2013) 636. [11]S. Hore, C. Vetter, R. Kern, H. Smit and A. Hinsch, Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 90 (2006) 1176. [12]D.S. Tsoukleris, I. M. Arabatzis, E. Chatzivasiloglou, A. I. Kontos, V. Belessi, M. C. Bernard and P. Falaras, Sol. Energy, 79 (2005) 422. [13]M. Gratzel, Nature, 414 (2001) 338. [14]M. K. Nazeeruddin, R. H. Baker, P. Liska and M Gratzel, J. Phys. Chem. B, 107 (2003) 8981. [15]G. Boschloo, L. Haggman and A. Hagfeldt, J. Phys. Chem. B, 110 (2006) 13144. [16]C. H. Chang and Y. L. Lee, Appl. Phys. Lett., 91 (2007) 053503. [17]J. Jiang and A. Kucernak, Electrochim. Acta, 47 (2002) 2381. [18]W. Kubo, S. Kambe, S. Nakade, T. Kitamura, K. Hanabusa, Y. Wada and S. Yanagida, J. Phys. Chem. B, 107 (2003) 4374. [19]B. Li, L. Wang, B. Kang, P. Wang and Y. Qiu, Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 90 (2006) 549. [20]H. Han, W. Liu, J. Zhang and X. Z. Zhao, Adv. Funct. Mater., 15 (2005) 1940. [21]C. H. Law, R. Spence and B. C. O’ Regan, J. Mater. Chem. A, 1 (2013) 14154. [22]Y. L. Lee, C. L. Chen, L. W. Chong, C. H. Chen, Y. F. Liu and C. F. Chi, Electrochem. Commun., 12 (2010) 1662. [23]N. Papageorgiou, W. F. Maier and M. Gratzel, J. Electrochem. Soc., 144 (1997) 876. [24]N. Papageorgiou, Coord. Chem. Rev., 248 (2004) 1421. [25]C. H. Yoon, R. Vittal, J. Lee, W. S. Chae and K. J. Kim, Electrochim. Acta, 53 (2008) 2890. [26]X. Fang, T. Ma, G. Guan, M. Akiyama, T. Kida and E. Abe, J. Electroanal. Chem., 570 (2004) 257. [27]G. U. Wang and Y. Lin, Curr. Appl. Phys., 9 (2009) 1005. [28]T. N. Murakami, S. Ito, Q. Wang M. K. Nazeeruddin, T. Bessho, I. Cesar, P. Liska, R. H. Baker, P. Comte, P. Pechy and M. Gratzel, J. Electrochem. Soc., 153 (2006) A2255. [29]X. Fang, M. Li ,K. Guo, X. Liu, Y. Zhu, B. Sebo and X. Zhao, Sol. Energy, 101 (2014) 176. [30]H. J. Choi, J. E. Shin, G. W. Lee, N. G. Park, K. Kim and S. C. Hong, Curr. Appl. Phys., 10 (2010) S165. [31]W. J. Lee, E. Ramasamy, D. Y. Lee and J. S. Song, ACS, 6 (2009) 1145. [32]J. Y. Lin, W. Y. Wang and Y. T. Lin, Surf. And Coat. Techn., 231 (2013) 171. [33]Y. Xiao, J. Y. Lin, W. Y. Wang, S. Y. Tai, G. Yue and J. Wu, Electrochim. Acta, 90 (2013) 468. [34]J. Wu, Q. Li, L. Fan, Z. Lan, P. Li, J. Lin and S. Hao, J. Power Sources, 181 (2008) 172. [35]K. M. Lee, P. Y. Chen, C. Y. Hsu, J. H. Huang, W. H. Ho, H. C. Chen and K. C. Ho, J. Power Sources, 188 (2009) 313. [36]M. Gao, Y. Xu, Y. Bai and S. Jin, Appl. Surf. Sci., 289 (2014) 145. [37]Y. M. Xiao, J. Y. Lin, J. H. Wu, S. Y. Tai and G. T. Yue, Electrochim. Acta, 83 (2012) 221. [38]J. Zhang, X. Li, W. Guo, T. Hreid, J. Hou, H. Su and Z. Yuan, Electrochim. Acta, 56 (2011) 3147. [39]Y. Xiao, J. Y. Lin, S. Y. Tai, S. W. Chou, G. Yue and J. Wu, J. Mater. Chem., 22 (2012) 19919. [40]J. M. Kroon, N. J. Bakker, H. J. P. Smit, P. Liska, K. R. Thambi, P. Wang, S. M. Zakeeruddin, M. Gratzel, A. Hinsch, S. Hore, U. Wurfel, R. Sastrawan, J. R. Durrant, E. Palomares, H. Pettersson, T. Gruszecki, J. Walter, K. Skupien and G. E. Tulloch, Prog. Photovlot: Res. Appl., 15 (2007) 1 [41]G. Veerappan, K. Bojan and S. W. Rhee, ACS Appl. Mater. Interfaces, 3 (2011) 857. [42]J. Chen, K. Li, Y. Luo, X. Guo, D. Li and M. Deng, Carbon, 47 (2009) 2704. [43]H. Sun, Y. Luo, Y. Zhang, D. Li, Z. Yu, K. Li and Q. Meng, J. Phys. Chem., 114 (2010) 11673. [44]H. Zhang, Y. Han, X. Liu, P. Liu, H. Yu and S. Zhang, Chem. Commun., 46 (2010) 8395. [45]P. R. Griffiths, OCTOBER, 222 (1983) 297. [46]Y. M. Xiao, J. Y. Lin, S. Y. Tai, S. W. Chou, G. Yue and J. Wu, J. Mater. Chem., 22 (2012) 19919. [47]T. Saleh, S. Agarwal and V. Gupta, Appl. Catal. B, 106 (2011) 45. [48]J. Kathi and K. Y. Rhee, J. Mater. Sci., 43 (2008) 33. [49]V. Sciarratta, U. Vohrer, D. Hegemann, M. Muller and C. Oehr, Surf. Coat. Technol., 174 (2003) 805. [50]R. Morent, N. D. Geyter, C. Leys, L. Gengembre and E. Payen, Surf. Interface Anal., 40 (2008) 597. [51]M. Gratzel, Inorg. Chem., 44 (2005) 6841. [52]C. Kvarnstrom, H. Neugebauer, S. Blomquist, H. J. Ahonen, J. Kankare, A. Ivaska and N. S. Sariciftci, Synth. Met., 101 (1999) 66. [53]C. Kvarnstrom, H. Neugebauer, A. Ivaska and N. S. Sariciftci, J. Mol. Struct., 521 (2000) 271. [54]M. J. O’Connell, P. Boul, L. M. Ericson, C. Huffman, Y. Wang, E. Haroz, C. Kuper, J. Tour, K. D. Ausman and R. E. Smalley, Chem. Phys. Lett., 342 (2001) 265. [55]A. Star, J. F. Stoddart, D. Steuerman, M. Diehl, A. Boukai, E. W. Wong, X. Yang, S.-W. Chung, H. Choi and J. R. Heath, Angew. Chem., Int. Ed., 40 (2001) 1721. [56]T. H. Lee, K. Do, Y. W. Lee, S. S. Jeon, C. Kim, J. Ko and S. S. Im, J. Mater. Chem., 22 (2012) 21624. [57]Y. Saito, W. Kubo, T. Kitamura, Y. Wada and S. Yanagida, J. Photochem. Photobiol., A, 164 (2004) 153. [58]J. Wu, Q. Li, L. Fan, Z. Lan, P. Li, J. Lin and S. Hao, J. Power Sources, 181 (2008) 172. [59]L. Y. Han, N. Koide, Y. Chiba, A. Islam, R. Komiya, N. Fuke, A. Fukui and R. Yamanaka, Appl. Phys. Lett., 86 (2005) 213501. [60]N. Koide, A. Islam, Y. Chiba and L. Y. Han, J. Photochem. Photobiol., A, 182 (2006) 296. [61]M. Wu, X. Lin, Y. Wang, L. Wang, W. Guo, D. Qi, X. Peng, A. Hagfeldt, M. Gratzel and T. Ma, J. Am. Chem. Soc., 134 (2012) 3419. [62]M. Wu, X. Lin, A. Hagfeldt and T. Ma, Angew. Chem. Int. Ed., 50 (2011) 3520. [63]J. Zhang, X. Li, W. Guo, T. Hreid, J. Hou, H. Sua and Z. Yuan, Electrochim. Acta, 56 (2011) 3147. [64]H. Niu, S. Qin, X. Mao, S. Zhang, R. Wang, L. Wan, J. Xu and S. Miao, Electrochim. Acta, 121 (2014) 285. [65]Y. Saito, W. Kubo, T. Kitamura, Y. Wada and S. Yanagida, J. Photochem. Photobiol., A, 164 (2004) 153. [66]S. Biallozor and A. Kupniewska, Electrochem. Commun., 2 (2000) 480.
|