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研究生:梁韋亭
研究生(外文):Wei-Ting Liang
論文名稱:銅鑭氧化物薄膜之製備與性質研究
論文名稱(外文):The study on the preparation and properties of Cu-La-O films
指導教授:陳國駒
指導教授(外文):Guo-Ju Chen
學位類別:碩士
校院名稱:義守大學
系所名稱:材料科學與工程學系
學門:工程學門
學類:材料工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2017
畢業學年度:105
語文別:中文
論文頁數:56
相關次數:
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本實驗利用射頻磁控濺鍍系統於石英玻璃沉積銅鑭氧化物薄膜,藉由改變退火條件,探討其對銅鑭氧化物薄膜之性質影響。
實驗結果顯示,使用快速熱退火,退火氣氛為氮氣環境下,在退火溫度為700 ℃時,相為完全的CuLa2O4相;在退火溫度為800℃,相開始由CuLa2O4相轉變為CuLaO2相;在退火溫度927 ℃時, 得到了較強(012)繞射峰的CuLaO2相。
退火溫度為800℃時,退火氣氛為氮氣環境下,電阻率大幅上升,我們推測可能是因為退火溫度為800℃時,相開始由CuLa2O4相轉變為CuLaO2相,才會導致電阻率大幅升高。
在退火溫度927 ℃時,退火氣氛為氮氣環境下,得到了最佳可見光平均穿透率為63.35%及最佳之Figure of merit為3.92×〖10〗^10,從此可得知此實驗參數有最佳之光電性質之薄膜。
中文摘要 I
誌謝 II
總目錄 III
表目錄 V
圖目錄 VI
第一章 緒論 1
1-1 前言 1
1-2 研究動機 2
第二章 理論基礎 3
2-1 透明導電氧化物 4
2-2 透明導電氧化物的光學性質 6
2-3 透明導電氧化物的電學性質 7
2-4 薄膜成長機制 8
2-5 Cu-La-O文獻回顧 9
第三章 實驗方法與步驟 13
3-1 實驗設備 13
3-2 實驗流程 14
3-2-1 靶材製備 14
3-2-2 基板清潔 15
3-2-3 實驗步驟與鍍膜參數 15
3-3 薄膜性質分析 15
3-3-1 低掠角X光繞射分析儀(GIXRD) 15
3-3-2 場發式掃描電子顯微鏡(FM-SEM) 16
3-3-3 紫外光可見光光譜儀(UV-Visible) 17
3-3-4 霍爾效應量測儀(Hall effect measurement) 17
第四章 Cu-La-O薄膜製備及性質研究 28
4-1 晶體結構分析 28
4-2 表面形貌分析 30
4-3 光學性質分析 30
4-4 電學性質分析 31
4-5 Figure of merit 31
第五章 結論 42
參考文獻 43
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